JP2006500624A - 割れに対する窒化チタンの脆弱性の低減 - Google Patents

Abstract

窒化チタン基光学コーティングにおいて、窒化チタン層（１８）と基層（１２）との間に損傷遅延基層（１６）を施与することにより、コーティングの構造的安定性が向上される。光学コーティングがソーラー制御を与える場合には、窒化チタン層は主として所望の光学的特性を達成するために選択される。損傷遅延層の厚さは主として所望の光学的特性を達成するために選択される。損傷遅延層の厚さは主として所望の機械的特性を達成するために選択される。損傷遅延層は灰色金属から形成され、ニッケルクロムが好ましい金属である。灰色金属層は窒化チタン層が割れる可能性を低減する。そのような層が割れれたり虫跡を形成する傾向は、基層をプラズマプレグロー（８８）に露光するかおよび／または層が形成される基層の側に滑剤（１４）を用いることにより、さらに低減される。

Description

この発明は可撓性基層をコーティングして所望の光学的特性を達成する方法とシステムに関するものであり、より詳しくは割れに対する窒化チタン層の脆弱性の低減に関するものである。

広範囲に亙る単層コーティングおよび多層積層が光伝達または反射体に適用されて所望の光学的特性を与えようとしている。例えば、ソーラースクリーンは屋内、建物内又は自動車内における快適レベルの増加を得るものであり、構造物の窓に沿って単層または多層のコーティングを与えている。

ソーラースクリーンを与えるコーティングは可視範囲（４００−７００ｎｍ）および近赤外線範囲（７００−２１００ｎｍ）において比較的低い透過率を有したものとして定義される。これに比較して、波長選択度とは太陽スペクトルの可視および近赤外線部分における相対透過率と定義される。

当業界では知られたことであるが、窓エネルギー制御には窒化金属層が用いられる。窒化チタン、窒化ジルコニウム、窒化ハフニウムの単層が特に目立ってきた。アメリカ特許第６，１８８，５１２号（Ｗｏｏｄａｒｄ ｅｔ ａｌ．）に開示されているように、化学的安定性と波長選択度に関して窒化チタンフィルムは所望の性質を有しているので、窒化チタンは特に魅力がある。
アメリカ特許第６，１８８，５１２号

窒化チタン層の化学的安定性は当業界において確立されている。窒化チタンフィルムは可視部分（Ｔ_vis）において近赤外線部分よりも透過がよく、したがって波長選択度は１を超している。上記アメリカ特許によれば、窒化チタン層が特定の基層の反対側に形成された実施例では、透過の測定比を波長５５０ｎｍから波長１５００ｎｍに顕著に上げている。

窒化チタンを含んだ単層または多層光学コーティングはガラス基層上に直接に形成、または爾後ガラスに施されるポリマー基層上に形成できる。アメリカ特許第６，１１４，０４３号（Ｊｏｒｅｔ）の開示によれば、ガラス基層上に形成された層集積は建物または自動車の窓としての使用を意図している。
アメリカ特許第６，１１４，０４３号

層集積はガラスに直接施されたソーラー保護コーティングの３層であってもよい。第１層は窒化チタン層である。第２の層は窒化チタン層の上に制御された量の酸素と炭素とを有した窒化シリコン層として形成される。ついでオキシカーバイトの層が形成されて、層集積の最外層を与える。これらの３層は全てガス相熱分解技術により形成される。

上記アメリカ特許（Ｊｏｒｅｔ）によれば、中央層のひとつの機能は、コーティングされたガラスを屈曲または硬化するためにガラス基層を切断・加熱処理するときに窒化チタン層を保護する、ものである。つまりコーティングされたガラスが特定型式の自動車用窓シールドの形状を与えるべく屈曲される場合には、中央層が屈曲プロセス中に窒化チタン層に保護を与えるのである。

可撓性基層の表面に沿って形成された場合には、窒化チタン層は特に損傷に対して脆弱である。上記アメリカ特許（Ｗｏｏｄａｒｄ ｅｔ ａｌ．）においては、窒化チタンはポリエチレン・テレフタレート（ＰＥＴ）上に堆積される。ＰＥＴのウエブをコーティングしてもよく、ついで例えば自動車の種々の窓をコーティングするための形状を与えるべく組織的に切断される。

しかし窒化チタンコーティングは圧縮応力中のセラミックフィルムである。その結果、窒化チタン層を有したコーティングには問題がある。特に、コーティングされたポリマー基層が可撓性である場合には、窒化チタン層は割れ易い。割れはしばしば蛇行形状を形成するので、割れは「虫跡」と呼ばれる。窒化チタン層の厚さは割れに対する層の脆弱性に影響する。薄い窒化チタン層は割れ易い。一例を挙げると、厚さが７．４ｎｍの窒化チタン層は６０％のＴ_visを与え、３５％のＴ_visを与える２０．４ｎｍの層よりも割れ易くない。

必要なのは、波長選択度や化学的抵抗などの窒化チタン基コーティングの利点は保持したままで、応力割れに対する窒化チタン層の脆弱性を低減する手段である。

一般的に透明な基層上の窒化チタン基光学的コーティングの構造的安定性は、基層と窒化チタン層との間に損傷遅延層を設けることにより高められる。窒化チタン層の厚さは主としてソーラー制御など所望の光学特性を達成するために選択されるが、損傷遅延層の厚さは主として所望の機械的特性を達成するために選択される。

損傷遅延層は灰色金属から形成される。好ましい灰色金属はニッケルクロムである。窒化チタン層の割れる傾向は可撓性ポリマー基層などの基層をプラズマプレグローに露光するか、および／または灰色金属と窒化チタン基光学的コーティングが形成される可撓性ポリマー基層の側に滑剤を使うことにより、さらに低減できる。

ソーラー制御の一実施例においては、窒化チタン層は可視光線透過率が１０〜６０％の範囲の単層光学的コーティングを与える。損傷遅延層と窒化チタン層とはＰＥＴウエブなどの可撓性ポリマー基層上に堆積される。両層ともにスパッター堆積により形成するのが望ましい。

灰色金属材料はＮｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｗ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｆｅ、Ｖ、Ｍｏ、モネルやインコネルやステンレススチールなどの合金からなる群から少なくとも１種選択できる。テスト結果によるとニッケルクロムが好ましい材料である。

灰色金属層の中間層が使われているときに基層に圧力が掛かった際の割れへの窒化チタンの傾向が低減することは全ての動力学によらなくとも完全に理解できる。灰色金属層は窒化チタン層より可撓性があるから、灰色金属は基層が撓んだときに窒化チタン層に掛かる応力の一部を緩和できる。さらに灰色金属は光線透過を低減するので窒化チタン層は厚さを低減できるが、光学コーティングはＴ_visの目標レベルのままである。

単一の材料でＴ_visの目標レベルを得るには、窒化チタン層はニッケルクロム層のほぼ３倍の厚さを持つ必要がある。したがって損傷遅延層を形成するのにニッケルクロムを使うと、窒化チタン層は割れ易さのより少ない厚さに低減することができる。またニッケルクロム層はプライマー層としても機能し、窒化チタン層のポリマー基層への粘着を改善する。

窒化チタン基コーティングの構造的安定性を改善するのに使われるプラズマプレグローは、グローガスがアルゴン、酸素または窒素の１種または組合せの雰囲気中で、行われる。ポリマー基層へのプラズマプレグロー処理は、所望の機能基の発生または単に表面粗さの増加により、粘着性を増加する。いずれにしても、スパッターされた窒化チタン層の割れへの傾向を低減し基層が撓んだときにはデボンド（ｄｅｂｏｎｄ）する。

基層に滑剤を施与することによりインキ、染料などの基層への粘着を増加させることが知られている。滑剤は化学コーティングであって、ＰＥＴなどの基層の表面粗さの程度を増加する。ここで滑剤とは主として基層の摩擦係数を低減する添加物を言う。ポリエステル基層への滑剤は当業界で知られている。一例を挙げると、ガラス球がポリエステル基層に添加されるかコーティングされて、粗面を形成する。この発明においては、滑剤を使ってスパッターされた窒化チタン層の割れへの傾向を低減する。

この発明の効果としては、透明基層への窒化チタン基光学的コーティングの構造的安定性が顕著に向上する。窒化チタンが可撓性基層の単層ソーラー制御コーティングとして用いられた場合には、基層が撓んでも「虫跡」が起き難い。その結果ソーラー制御製品の損傷が低減される。

図１、２に光学体１０の好ましいと考えられる一実施例を示す。しかし割れに対して脆弱な窒化チタン基光学的コーティングを使うこともできる。

光学体１０は基層１２を有しており、該基層は自動車または家庭または事業所の窓シールドなどの窓に取り付ける可撓性基層である。図示しないが、層が基層に施される前は基層はウエブ形状であってもよい。基層材料としてはＰＥＴがある。

図１に元のままの基層１２を示す。一連のコーティング要素１４、１６、１８が順次多くの部分を有しており、図示のために除いてある。したがって基層１２の上面２０を一隅において露出して表示されている。光学体は上面２０上に滑剤１４を有している。

滑剤は当業界において知られているように、アメリカ特許第５，２７８，２２１号（Ｓｉｄｄｉｑｕｉ）およびアメリカ特許第４，３０２，５０６号（Ｈｅｂｅｒｇｅｒ）にはＰＥＴなどのポリエステル基層用の滑剤を開示している。Ｓｉｄｄｉｑｕｉ特許においては、滑剤はガラス球の添加物および霧化シリカの添加物として開示されている。
アメリカ特許第５，２７８，２２１号 アメリカ特許第４，３０２，５０６号

ガラス球はポリエステルフィルムの動的摩擦計数を改善するように選択された粒度分布と量とを有しており、霧化シリカは静的摩擦係数を変化されるのに使われる。滑剤はポリマー基層に施与されてインキや染料の基層への粘着を増加させるのに用いられてきた。これに比較して、図１、２の滑剤１４は窒化チタン層１８による応力割れを制御するのに使われている。

滑剤１４と窒化チタン層１８との間には損傷遅延層１６がある。この損傷遅延層は灰色金属から形成されている。好ましき実施例では、灰色金属はＮｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｗ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏからなる群から選ばれる少なくとも１種の材料である。最も好ましい実施例においては灰色金属はニッケルクロムである。

また好ましい実施例においては、灰色金属層１６の厚さは１〜２０ｎｍの範囲に有る。灰色金属層の厚さは主として窒化チタン層１８が割れる可能性をさらに低減するための所望の機械的特性の達成に基づいて選択される。しかし複合光学体１０の光学的特性は灰色金属層の最適な厚さを選択する際に考慮されなければならない。

この発明をソーラー制御コーティングに応用するに当たっては、光学体のＴ_visは１０〜６０％の範囲になければならない。Ｔ_vis値が比較的高いと（例えば６０％）、窒化チタン層の厚さは１０ｎｍを下回り、応力割れについての心配は厳しさが減る。

しかし１０ｎｍを超える厚さを有した窒化チタン層については、灰色金属層の利点は特に明らかである。好ましい実施例にあっては、ニッケルクロムの灰色金属層は１０〜５０ｎｍの厚さを有する窒化チタン層に用いられる。ニッケルクロム層の厚さは窒化チタン層の少なくとも５％であるべきだと決められている。

灰色金属、特にニッケルクロムは損傷遅延層に選ばれて比較的低い反射とポリマー基層とよりよく結合する傾向を与える可能性を有している。つまり連続層が目的とするコーティングの波長と１／４波長−１／４波長（ＱＱ）の関係を有している従来の抗反射コーティングと同じ方法で窒化チタン層と光学的に協働するよりは、損傷遅延層は基層および窒化チタン層と機械的に協働する。

灰色金属層１６は基層１２が撓んだときに窒化チタン層１８中に現れる虫跡への傾向を低減する。加えて、基層への窒化チタン層の粘着を改善すべく、ニッケルクロム層は窒化チタンよりもより展性に富み、基層が撓んだときに窒化チタン層上に起きる応力の一部を緩和することができる。

滑剤１４は別個の層として示されているが、基層１２に組み込まれてもよい。基層がＰＥＴから形成されている場合には、粒をＰＥＴポリマーに添加して基層表面から突出するようにする。滑剤は窒化チタンが割れるか基層から脱離する傾向を低減することが分かった。表面粗さが増加すると基層への層の粘着が改善される。

窒化チタン層１８の安全性を改善する第３の策としてはプラズマプレグローを用いる。受容できるグローガスとしてはアルゴン、酸素、窒素およびこれらの組合せがある。基層１２へのそのような処理は所望の機能基を発生するかまたは表面粗さを増加することにより粘着を増加させることが知られている。粘着が増加すればポリマー基層１２が撓んだときのスパッターコーティングの割れおよび脱離傾向が低減する。

図３において、光学体はガラス体２２に粘着して示されている。感圧粘着剤（ＰＳＡ）を使って光学体をガラス体に接着してもよい。ガラス体は自動車または建物・家屋の窓の窓シールドである。ラミネート接着剤２８により第２のＰＥＴ基層２６が窒化チタン層１８に組み合わされている。

１以上の保護層３０が基層と層の外側に使われていて、全体の耐久力を増加させている。ひとつの可能性として、保護層にハードコート層および潤滑層を含ませてることができる。潤滑層は低表面エネルギーを有しかつ抗摩擦性を有するフルオロカーボンにして、清掃と引っ掻き抵抗を容易としてもよい。

ハードコート層はシリカ基ハードコート、シロザネ（ｓｉｌｏｚａｎｅ）ハードコート、メラミンハードコート、アクリルハードコートまたは同様な材料である。それらの材料は一般に屈折率が１．４０〜１．６０の範囲に有る。受容可能な厚さは１〜２０μｍである。図３には示してないが、２個のＰＥＴ基層１２、２６の各表面はハードコート層を含んでもよい。

薄いプライマー層を使ってハードコート層へのスパッター層の接着を促進することができる。プライマー層は金属または半導体であって、堆積後に酸化などの変換を行って、実質的に透明で、実質的に無色の無機材料を形成する。有用なプライマー材料としてはシリコン、チタン、クロミウム、ニッケルなどがある。プライマー層は５０Å未満の厚さであるのが望ましい。

図４に図３と同じ構成要素を示すが、２個のＰＥＴ基層１２，２６の順は逆になっている。図３に示すように、ハードコート層、粘着促進層および滑剤層を添加してもよい。

図３の実施例には変更を加えてもよい。例えば、１個のＮｉＣｒ／ＴｉＮ構造を基層上に形成する代りに、基層１２、２６の各々にＮｉＣｒおよびＴｉＮの層を有するようにしてもよい。この場合２個のラミネートを組み合わせるのにラミネート接着剤が用いられているならば、ＮｉＣｒ／ＴｉＮ構造を基層間に挟むようにする。

図５に示す連続ウエブコーティングスパッター装置３８は図１、２の光学体１０を形成するのに使用される。該ウエブコーティングシステムは抜気ライン４２に負圧を印加することにより抜気される真空室４０を有している。

上記室内には駆動メカニズムが設けられており、１対のマグネトロン・スパッター・ステーション４４、４６を通って可撓性の基層材料１２を動かす。ウエブを駆動する構成要素としては送りローラー５０、アイドラー５２、５４、５６、５８、６０、６２および６４および巻上げローラー６６がある。基層材料のウエブは冷却アイドラードラム６８を周行する。

１対のモニター７０、７２を使ってコーティングの施与前にウエブの光学的性質を決めることができる。また第２の１対のモニター７４、７６を使ってコーティング施与後の光学的性質を決めることができる。光学的性質は対象とする応用により変化する。スパッター装置３８は、ステーション４４、４６の別個のマグネトロンカソードを使って、ウエブ１２上への同時連続スパッター堆積を可能とする。

基層材料１２のウエブがドラム６８の周りをすると、基層はまずプラズマプレグローステーション７８に出会う。前記したように、ポリマー基層をプレグロー処理すると、所望の機能基を発生するか単に表面粗さを増加させることにより、後続堆積層の基層への粘着性が増加する。

ステーション４４を使って遅延損傷層１６を堆積することができる。滑剤１４はウエブ１２がスパッター装置３８にセットする前に導入するのが望ましい。第２のステーション４６は窒化チタン層１８に堆積するのに使われる。単に多重通過をすることにより同一のステーションで多層も形成できる。

スパッター装置３８の制御とモニターにはこの型式のコーティング機において標準となっている機器とセンサーを用いて行われる。質量流れ制御器８０を使ってステーション４４、４６に入るガスの流れを調節する。リール運動制御器８２を使って装置３８を通過するときのウエブ１２の張力と速度と距離を調節する。

１個以上のＡＣまたはＤＣ電源８４が２個のステーションに電力を供給する。光学的モニターシステム８６を使ってスペクトル範囲４００〜２０００ｎｍに亘ってウエブ材料の光学的性質を決める。該モニターシステムは４個のモニター７０、７２、７４および７６に接続されており、プレグロー電源８８がプレグローステーション７８の動作を制御する。

実験を行って、窒化チタンのコーティングを有した基層が撓んだときに窒化チタンが損傷される可能性を低減する上記の技術の利益を測定した。表１に示す実験の前に、Ｔ_vis値が６０％のＴｉＮ_XコーティングはＴ_vis値が３５％のＴＩＮ_Xコーティングよりも割れの可能性が遥かに少ないことが分かった。これは厚さの差の直接の結果である。

６０％のＴ_vis値でのコーティングはほぼ７．４ｎｍの厚さであった。３５％のＴ_vis値でのコーティングはほぼ２０．４ｎｍの厚さであった。コーティング割れ傾向に付いての充分な情報を与えるべく、表１中の１０個の全てのサンプルは３５％の目標可視光線透過率を有していた。Ｔ_visは当初元の場所で測定されたので、表１中のＴ_vis値はすべてこの目標値を超えている。しかし記録はサンプルが真空室から除かれた後での測定に基づいていたので一部酸化が起きていた。

図５に示すようにスパッター装置３８により１０個のサンプルを入手した。該装置において、ドラム６８は水冷してウエブ１２の熱歪みを防止する。光学モニターシステム８６はモニター７０、７２、７４および７６を使ってウエブの紫外線、可視光線および赤外線の透過と反射とを光学的にモニターする。図５には示さないが、装置にはさらに無接触シート抵抗モニターを具えて、スパッターされたコーティングの伝導率を測定した。

実験のために装置３８にはプレグローステーション７８にＤＣプラズマプレグローを、ステーション４４にＤＣマグネトロンカソードを、後続のステーション４６にＡＣ複マグネトロンカソードを具えていた。各プラズマ源は各プラズマのために局部ガス環境を隔離する別個の小室内に配置した。アルミニウムグローロッドを用いてプラズマプレグローのカソードとした。ニッケルクロムターゲットをＤＣマグネトロン内に具え、チタンターゲットはＡＣ複マグネトロン内に具えた。

閉ループ、プラズマ放射密度４５０ｎｍのコンピューター制御窒素ガス流を用いて、窒化チタン層が表１の種々のサンプルに堆積された。アルゴン流を３ミリＴｏｒｒ圧力（例えば９３ＳＣＣＭｓ）を得るように設定し、パワーを５ｋＷに設定し、ＰＥＭ放射強度を１０ボルトに設定した。

それからＰＥＭ設定点電圧を減少させ、制御ループをしたチタンプラズマに窒素を添加させた。窒素が添加されると、ウエブのライン速度を可視光線透過率をほぼ３５％に保つように調節した。ＰＥＭ設定点は最小シート抵抗を得るべく低減される。ＰＥＭ設定点は堆積されたフィルムに対応し、窒素含有量は波長選択度を最大にするように適宜にした。

酸素背景ガスを最少にすべく努力したにも拘わらず、全ての真空ウエブコーターにおいて、酸素がある程度窒化チタン層に組み込まれた。かくして実際には、堆積されたのはオキシ窒化チタンであった。しかし窒化チタンコーティングに過剰の酸素が組み込まれた場合には、波長選択度は逆に影響されるだろう。スパッター処理中の酸素−窒素分圧比は０．５未満として、ＴｉＯ_xＮ_y層が確実に適正な波長選択度となるようにしなければならない。

表１の実験に使用された基層１２はスリップ側（すなわち滑剤を有した側）も露出側も１ミルＰＥＴ基層であった。

実験プロセスをよりよく説明すべく、サンプル６、８の製造を記載する。サンプル８については、ＴｉＮｘの単層がＰＥＴ基層の露出側に形成された。ライン速度は１２．７６ｍｍ／ｓｅｃに設定された。３５ＳＣＣＭｓの空気流と２００ｍＡの電流でＤＣプレグローが作動されて、圧力２９ミリＴｏｒｒで電圧１５００ボルトとした。ＡＣチタンターゲットに５．２ｋＷの電力を掛け、アルゴンは８７ＳＣＣＭｓでＮ₂は１５．２ＳＣＣＭｓとして、小室圧力を３．１６ミリＴｏｒｒとした。ＰＥＭ電圧設定点は５．７ボルトであり、元の位置の可視光線透過率は３５％であった。

サンプル６については、サンプル８で使用されたライン速度と電流を１．５倍に増加した。ついでＮｉＣｒ（８０／２０合金）を添加して全体に３５％の可視光線透過率を得た。ライン速度は１９．１４ｍｍ／ｓｅｃに設定した。ＤＣプレグローは４２．３ＳＣＣＭｓの空気流と３００ｍＡの電流で作動させて、３３ミリＴｏｒｒの圧力と１５００ボルトの電圧を得た。

ＡＣチタンターゲットに５．２ｋＷの電力を掛け、アルゴンを８７ＳＣＣＭｓとしＮ₂を１５．２ＳＣＣＭｓとし、小室圧力を３．１６ミリＴｏｒｒを得た。ＰＥＭ電圧設定点は５．７ボルト、ＤＣマグネトロンＮｉＣｒターゲットに０．３５の電力を加計、２８．５ＳＣＣＭｓのアルゴンを添加して３．１８ミリＴｏｒｒの圧力を得た。

表１の全部のサンプルについて、ＮｉＣｒターゲットの寸法は１５．７５インチ（４００ｍｍ）Ｘ５．２５インチ（１３３．５５ｍｍ）であった。各チタンターゲットでは１５．６２５インチ（３９６．８ｍｍ）Ｘ３．２５インチ（８２．５ｍｍ）であった。

サンプルの測定。表１のサンプルについてＴｉＮ_xとＮｉＣｒコーティングの厚さを、図５のステーション４４，４６の各カソードの電力を固定値に設定して、測定した。ついで異なるライン速度での可視光線透過率を記録した。ついでライン速度を非常に低い値（例えば０．５ｍｍ／ｓｅｃ）に落として、一片のテープをＰＥＴ基層上に配置してコーティングした。テープをＰＥＴ基層から除いて、市販の粗面計によりコーティングの段落高さを測定した。

光学的密度（光学的密度が−ｌｏｇ（分数光透過率））とともに１／ライン速度が線型に変化したので、コーティング厚さの種々の光透過率を計算できた。

サンプルを用意した後、コーティングが割れるまたは虫跡を形成する傾向を測定するのにテストが必要であった。このテストのために、６インチＸ１４インチのサンプル（１５２．４ｍｍＸ３５５．６ｍｍサンプル）を握持して各端部を長手方向とした。サンプルは緩く保持したが、一端は他端に対して９０度回転させた。ついでサンプルをピンとスナップした。この作業を５回繰り返した。

ついでスライド投射ランプでサンプルを照明しながら検査した。各サンプルには、検知された虫跡の数と寸法に応じて、数字による格付けをした。虫跡のないサンプルは格付け０、最悪のサンプルは格付け７とした。表１に示すように、ニッケルクロム（８０／２０合金）のみのサンプル（すなわちサンプル９）は格付け０、プレグローなしのＴｉＮ_xのみのサンプル（サンプル１０）は格付け７であった。光学的およびソーラー性質についての測定は市販の装置と既知の方法により行われた。

サンプルの結果。表１において、２．０Ｘライン速度とは、ＴｉＮ_x層が３５％の透過率になった後でライン速度は２の因数で増加され、ニッケルクロムが添加されてＴ_vis測定値がほぼ３５％に戻った。層厚さを表中に示す。

サンプルが用意されてから１０月後にＴ_visとＴ_SOL（ソーラー透過率）との値を測定した。表中に使われているように、選択度とはＴ_vis値をＴ_SOL値で除したものである。選択度が高いということは、コーティングが近赤外線よりも可視光線をより優先的に透過するということを意味している。これはコーティングされてソーラースクリーンを与えかつ窓ガラスに応用される光学体にとっては一般に好ましい性質である。

表１中のデータから、コーティングが虫跡を形成する傾向に影響する要因は多々あることが分かる。この傾向は、基層とニッケルクロムとの間に灰色金属層（ニッケルクロム）を添加すること、基層をプラズマプレグローすること、基層の滑剤側にコーティングを堆積すること、などにより低減される。これらの内灰色金属層を添加するのが虫跡の防止に最も効果的である。

他にも重要な要因として考慮すべきは選択度である。高い選択度を得ることが単なる金属に比較して窒化チタンを使う利点である。表１中のサンプルのニッケルクロム含有量が増加すると、選択度は減少する。しかしてニッケルクロムの量は虫跡の発生に対する抵抗を得る程度に限定すべきである。好ましき実施例では、選択度は１．１５を超える。実験結果に基づいて、灰色金属層の厚さは１〜２０ｎｍの範囲にすべきであり、窒化チタン層の厚さは１０〜５０ｎｍの範囲にすべきである。

この発明による損傷遅延層を有した窒化チタン基コーティングの一実施例の斜視図である。 図１の光学体の側面断面図である。 ガラスに結合された図２の光学体の側面図である。 ガラスに結合された光学体の第２の実施例の側面図である。 図１〜３の光学体を製造するスパッター装置の斜視図である。

符号の説明

１０：光学体
１２：基層
１４：滑剤
１６：コーティング要素
１８：窒化チタン層

Claims (18)

1. 第１の表面を有した可撓性の基層を用意し、該第１の表面に灰色金属である損傷遅延層を設けて次に形成される光学コーティングを保護し、上記の光学コーティングを窒化チタニウム基構造として形成し、該窒化チタニウム構造は可撓性基層の反対の損傷遅延層の側に窒化チタニウム層を有しており、窒化チタニウム層の厚さが主として所望の光学特性を達成すべく選ばれ、灰色金属の厚さが主として所望の機械的特性を達成すべく選ばれることを特徴とする光学体の形成方法。
2. 光学コーティングの形成に際して窒化チタニウム層が単層ソーラー制御コーティングとして堆積され、単層ソーラー制御コーティングと損傷遅延層とが結合されて１０〜６０％の範囲の可視光線透過率を与えることを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 灰色金属層の形成に際してニッケルクロム層を堆積することを特徴とする請求項１に記載の方法。
4. ニッケルクロムの層の堆積厚さが１〜２０ｎｍであり、窒化チタニウム層の厚さが１０〜５０ｎｍであることを特徴とする請求項３に記載の方法。
5. ニッケルクロム層および窒化チタニウム層がスパッター堆積され、可撓性基層の用意に際して滑剤を有した一般的に透明なポリマー基層が形成され、該ポリマー基層上に窒化チタニウムがスパッター堆積されることを特徴とする請求項３に記載の方法。
6. 損傷遅延層の形成に際して、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｗ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｆｅ、ＶおよびＭｏからなる群から少なくとも一種の材料が選択されて、物理的な結合と低反射率に関して所望の特性を達成することを特徴とする請求項１に記載の方法。
7. さらに第１の表面上への損傷遅延層の形成前に可撓性基層をプラズマプレグローに露光し、これにより光学コーティングが形成された後の応力割れに対する窒化チタニウム層の脆弱性が低減されることを特徴とする請求項６に記載の方法。
8. さらに可撓性基層の第１の表面に滑剤を形成して、脆弱性を一段と低減する
   ことを特徴とする請求項７に記載の方法。
9. 可撓性ポリマー基層と、ポリマー基層上の厚さが１〜２０ｎｍの灰色金属層と、窒化チタニウムの単層光学コーティングとを有してなり、光学コーティングの厚さが１０〜５０ｎｍであり可視光線透過率が１０〜６０％であり、単層光学コーティングが可撓性ポリマー基層と反対の灰色金属層側にあることを特徴とする光学体。
10. 可撓性ポリマー基層の表面上に滑剤があり、その上に灰色金属層が形成されることを特徴とする請求項９に記載の光学体。
11. 灰色金属層がＮｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｗ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｆｅ、ＶおよびＭｏからなる群から選択される少なくとも１種の材料から形成されることを特徴とする請求項９に記載の光学体。
12. 灰色金属層がニッケルクロム層であることを特徴とする請求項９に記載の光学体。
13. 可撓性ポリマー基層がＰＥＴの透明ウエブであることを特徴とする請求項９に記載の光学体。
14. 一般的に透明な基層を用意し、基層の第１の表面にＮｉＣｒの層を形成し、ＴｉＮ層である単層ソーラー制御コーティングをＮｉＣｒ層と接触形成するステップを有してなり、ＮｉＣｒ層を形成するに際して、ＴｉＮ層の割れを禁止することに少なくとも部分的に基づいて層の厚さを選択することを特徴とする光学体の形成方法。
15. ＮｉＣｒ層を形成するに際して、１〜２０ｎｍの範囲の厚さにＮｉＣｒをスパッターし、ＴｉＮ層を形成するに際して、１０〜５０ｎｍの範囲の厚さにＴｉＮをスパッターし、ＴｉＮ層とＮｉＣｒ層とが組み合わされて可視光線透過率を１０〜６０％にすることを特徴とする請求項１４に記載の方法。
16. ＮｉＣｒ層の形成前に透明基層をプラズマプレグローに露光することを特徴とする請求項１４に記載の方法。
17. 露光するに際して、プラズマプレグローを与えるのに酸素、窒素およびアルゴンの少なくとも１種を使用することを特徴とする請求項１６に記載の方法。
18. 透明基層を用意するに際して、ＮｉＣｒ層が形成される側に滑剤を有したポリマー基層を使用することを特徴とする請求項１６に記載の方法。

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