JP2002506398A

JP2002506398A - 多層吸収抗反射被覆

Info

Publication number: JP2002506398A
Application number: JP54511199A
Authority: JP
Inventors: ウッダード，フロイド，ユージーン; ブライト，クラーク，アイ．
Original assignee: サウスウォールテクノロジーズ，インコーポレイテッド
Priority date: 1998-03-06
Filing date: 1999-03-05
Publication date: 2002-02-26
Also published as: EP0986462A4; WO1999044819A1; US6111698A; EP0986462A1; AU3069899A; KR20010012218A

Abstract

(57)【要約】反射制御システム（１０）が多層スタック（１４、１６、１８、２０）を有しており、この多層スタックが粘着性を高める下塗り層（２８）を用いて基層（１２）に粘着されている。多層スタック（１４、１６、１８、２０）は層対を有しており、第１の層（１４、１８）は灰色金属であり第２の層（１６、２０）は実質的に透明な材料である。好ましき実施例においては、灰色金属はニッケル・クロムであり、透明層はシリコン酸化物である。各層対において、灰色金属は基層の抗反射性を付与する表面に近く配置されている。下塗り層（２８）の厚さは５０Å未満である。下塗り層は実質的に酸素のない雰囲気中で溶着されるが、溶着につづいて酸化されてもよい。

Description

【発明の詳細な説明】多層吸収抗反射被覆この出願はアメリカ特許出願第６０／０７７０５１号（１９９８年３月６日提出）の権利を享受するものである。技術分野この発明は光透過性または反射性体の表面における所望の光学的性質の付与に関するものであり、より詳しくはディスプレー・スクリーンなどの透光性体の表面上に抗反射性被覆を施与するものである。背景技術光透過性または反射性体に被覆を施すことにより所望の光学的性質を付与することができる。例えばコンピューター・モニターのスクリーンに１以上の被覆を施すと、偏光性を付与したり反射性を低減できる。陰極管（ＣＲＴ）などの基材からの光の反射を低減させる方法としては、その表面を反射される光線のほぼ１／４波長の厚さを有した抗反射性層で被覆する方法がある。この抗反射性層はポリマーなどの有機材料であってもよく、弗化金属などの無機材料であってもよい。溶着された層の屈折率がＣＲＴのそれ未満ならよいのである。溶着された抗反射性層の屈折率がＣＲＴ材料の屈折率の平方根に等しいと、高度な反射性低減が達成される。しかしこの方法には制約がある。特に反射に関して、単層の低屈折率抗反射性被膜はしばしば違った色合いを呈するのである。より広い帯域と少ない色合いを有した抗反射性被膜は多数の溶着された層により得ることができる。普遍的な抗反射性被膜としては、１／４−１／４（ＱＱ）と１／４−１／２−１／４（ＱＨＱ）スタックとがある。すなわち抗反射性被膜は異なる屈折率を有した多数の層により構成され、各層は抗反射されるべき波長の１／４（Ｑ）または１／２（Ｈ）の光学的厚さなのである。抗反射性スタックについてはアメリカ特許第５７４４２２７号に詳しく記載されている。少なくとも２対の層が形成されて抗反射性を付与している。各対の一方の層は電導性で光透過性の無機材料であり、その屈折率は１．８８〜２．１５である。他方の層は光透過性の無機酸化物であって、その屈折率は１．４〜１．６である。スタックは所望の光学的性質を得る上でよい挙動を示す。抗反射性被膜は典型的には非吸収性材料により形成される。したがって反射性の低減は抗反射性を付与すべき対象（例えばＣＲＴ）中に送り込むエネルギーを増加させることにより達成される。光路に沿っての吸収は像のコントラストを高めるものである。この目的から吸収性材料をＣＲＴの製造に用いた透明な材料（ガラス）に付加する。これに代えて、ＣＲＴを保護する抗反射性被膜が１以上の吸収層を含んでいてもよい。吸収層はｎとｋとにおいて分散して良好な抗反射性を与える。例えばアメリカ特許第５６９１０４４号にはチタンが好ましい吸収性層であると紹介されている。しかし２個の層だけを有した単純なスタック（例えばＴｉＮ_x とＳｉＯ₂）は一般に狭い範囲の透過値に対してのみ良好な抗反射性を示す。吸収性層として窒化金属を用いることがアメリカ特許第５０９１２４４号に開示されている。あるケースにおいては窒化物は抗反射性スタックには好ましい材料ではない。なぜなら窒化物の光学的性質は溶着条件により大きく左右されるからである(例えば溶着環境におけるＮ₂とＯ₂との相対量)。しかし光学的性質のさらなる改善が探求されている。アメリカ特許第４８４６５５１号には光学フィルター・アセンブリーが紹介されており、像のコントラストを上げるとともにＣＲＴの眩感を低減している。基材上には多数の層が形成されて、所望の光学的性質を達成している。第１の層は酸化アルミニウム層であって、その厚さは少なくとも１７０ｎｍであり、波長がほぼ５００ｎｍにおける光学的厚さのほぼ３／８である。好ましい実施例では、酸化アルミニウム上にニッケルと弗化マグネシウムの層が交互に配置されている。第１のニッケル層は酸化アルミニウム層上に形成されている。酸化アルミニウムはニッケル層を基材に確実に固定させる働きをしている。ニッケル層の厚さは１３〜８０Åである。つぎの層は弗化マグネシウム・フィルムであって、光学的厚さの１／４波長に等しい。第２のニッケル層の厚さは７５Åである。第２の弗化マグネシウム層は１／４波長の光学的厚さである。ＣＲＴと一緒に用いた光学フィルター被覆はディスプレーの観察者に届く積算反射光はただの０．５〜０．８％であることが測定されている。像ディスプレーの積算光透過率はほぼ８４％であった。これに比較して、光学被覆が用いられなかったときには、反射光の１０〜１２％が観察者の目に届いた。現在入手できる光学被覆は受容できる結果を与えているが、必要とされるのは、コントラストの向上と広い範囲に亙る可視光線透過率とを達成する抗反射性被覆の容易な製造手法であって、加えて抗反射性を良好に維持することが求められている。さらに吸収層は溶着し易く、生産性の高いことが望まれる。発明の要旨この発明の多層吸収抗反射性被覆は灰色金属層と屈折率が１．２５〜１．７の透明材料層との少なくとも４個の交互な層を有しており、ひとつの灰色金属層は抗反射性を必要とする面に、薄い下塗り層を介して接合されて、近接配置されている。下塗り層の厚さは５０Å未満であるのが望ましい。透明材料はシリコン酸化物（ＳｉＯ_x）であるのが望ましく、より好ましくは二酸化シリコンである。灰色金属層は組成が８０／２０のニクロムなどのニクロム合金であるのが望ましく、ニクロムに加えて受容できる灰色金属としてはインコネル、モネル、ステンレスおよびクロムが挙げられる。保護される表面に一番近い灰色金属層の厚さは０．５〜３０ｎｍ、より好ましくは１〜１５ｎｍである。隣接するＳｉＯ_x層の厚さは５０〜２００ｎｍ、より好ましくは７０〜１５０ｎｍである。しかしこの層の厚さは前の層の光学的性質により左右される。第２の灰色金属層の厚さは第１の灰色金属層のそれと同じであるが、所望の可視光線透過率を達成するように設定するのが望ましい。この値は２０〜８０％の範囲で調整可能であるが、より好ましくは３０〜６０％の範囲である。第２のＳｉＯ_x層の厚さは６０〜１２０ｎｍである。これを調整することにより抗反射性を変更する事ができる。例えば一番上のＳｉＯ_xの厚さを増加すると、抗反射性スタックの反射ミニマ（Ｒｍｉｎ）の波長は増加する。スタックの可視光線透過率は、好ましくは２０〜８０％、より好ましくは３０〜６０％である。この可視光線透過率の値は灰色金属層の一方または両方の厚さを調整して設定する。ＳｉＯ_x層中においては可視範囲での吸収は１０％を越えるものであってはならない。より好ましくは５％未満である。灰色金属層のｋ／ｎ値は３を越えないのが望ましい。灰色金属層の電気的性質については、シート抵抗が２０００オーム／平方を越えないのが望ましく、層対中の他の層は二酸化シリコンなどの誘電性材料から形成される。層対はポリエチレン・テレフタレート（ＰＥＴ）などの可撓性の基材上に形成されるが、他の材料（例えばＰＥＮまたはＰＥＳ）を用いてもよい。硬被覆層が基材上に形成されてもよい。この硬被覆層は処理中および最終製品の使用中の耐久性を改善する。硬被覆層は公知の材料であってよく、例えばシリカ基硬被、覆、シロキサン硬被覆、メラミン硬被覆、アクリル硬被覆などが挙げられる。これらの材料の屈折率は１．４〜１．６の範囲にある。薄い下塗り層は層対の硬被覆層に対する粘着性を改善する。下塗り層は溶着後の酸化などの変態を受けてもよく、これにより実質的に透明な無色の無機材料となる。例えば下塗り層としてシリコンを用いると、一定の時間経過後にシリコン酸化物が生成される。硬被覆の厚さは０．５〜２０μｍであるが、下塗り層の厚さは５０Å未満である。層対の基材とは反対の側を保護被覆形成してもよい。この保護被覆はシランと弗化炭素の組合せであってもよい。シランは弗化炭素の接合材料として機能して、所望の潤滑性能を与える。潤滑材料に適した弗化炭素としては、３Ｍ社により商標名「ＦＬＵＯＲＯＲＡＤ」が販売されている。保護被覆は疎水性でかつオレオフォビック（ｏｌｅｏｐｈｏｂｉｃ）低い表面エネルギーと高い接触角を有している。すなわち抗汚性を呈するものである。製造方法においては、層はスパッター溶着技術により形成される。スパッター溶着装置の第１の通過（工程）においては、緩やかな予成長処理により基材の表面が整えられて、後続の層溶着のための粘着性が改善される。下塗り層を形成する材料（例えばシリコン）はこの第１の通過時に導入される。下塗り層はできるだけ酸素のない雰囲気中で溶着するのが望ましい。しかし酸素に下塗り層材料を晒しても支障はない。第２の通過において下塗り層は再び励動されて、第１の層対が形成される。灰色金属層は基材に最も近い。処理条件に応じて、第３の通過を採用して、第１の層対の上側層（例えばＳｉＯ_x）の厚さを増加させる。この上側層の厚さは第１の灰色金属層の光学的促成に左右され、灰色金属材料の選択や灰色金属層の厚さにより定まる。また完成したスタックの所望の透過率によっても左右される。つぎの通過では、第２の層対が溶着される。追加の層が必要なときにはさらに通過を行う。それか潤滑被覆を施してもよい。この発明の利点は、抗反射性スタックにより与えられる吸収性を用いてＣＲＴなどのディスプレー装置の面の像のコントラストを高めることができる、点にある。該層の厚さを調整するだけで、可視光線透過率が容易に設定できて、所望の光学的特性を得ることができる。さらに層の厚さを最適化することにより、広い波長範囲（例えば広帯域）に亙って反射を低下させることができる。その他にも灰色金属を用いることにより、電導性層がＣＲＴによる放散を遅らせるシールドとして機能する。最終製品は自然環境において酸化に対して安定性を具えており、硬被覆上に溶着された場合に機械的に強靭である。安定な灰色金属のお陰で最初の抗反射性が数年に亙って維持される。図面の簡単な説明図１はこの発明の吸収抗反射被覆の一実施例の斜視図であり、図２は表示スクリーンなどの光学装置にこの発明の吸収抗反射被覆を施与するシステムの一実施例の側面図であり、図３は図１の被覆を形成するスパッタリング装置の一実施例を示す線図であり、図４はこの発明の被覆の反射率の実験例を示すグラフである。詳細な説明図１に示すこの発明の光学システム１０の一実施例は光透過性の基材１２を有しており、該基材は実質的にはＰＥＴから形成されるが、他の材料であってもよい。特に限定されるものではないが、基材材料は好ましくは以下記載する抗反射性の表面被覆層をウェブに施したものであって、可撓性を具えている。この可撓性の基材と種々の層とはＣＲＴスクリーンなどの他の基材に施されてもよい。他方抗反射性の表面被覆層を最終製品に直接施してもよい。したがって基材は有機材料でも無機材料でもよいのである。層１４、１６、１８および２０により形成される吸収抗反射性スタックがない場合には、基材１２の反射レベルは可視波長において２０％未満である。例えばＰＥＴは可視光線の１０〜１５％を反射する(二面反射)。層１４〜２０により形成される抗反射性スタックは、吸収および反射光線の破壊的干渉により、反射レベルを顕著に低減させる。抗反射性スタックの上面にはシラン層などのような粘着促進層２２が位置しており、さらにフルオロカーボンの潤滑層も位置していて、その表面エネエルギーは低くて抗摩擦性であって、清浄化とひっかき抵抗を与えている。この潤滑層には好ましくは３Ｍ社により商標名「ＦＬＵＯＲＯＲＡＤ」で販売されている材料を用いる。最も好ましい材料は「ＦＬＵＯＲＯＲＡＤＦＣ−７２２」であって、弗化溶媒中に２％希釈溶液で販売されている。しかし層２２、２４は限定されるものではない。抗反射性層１４〜２０と基材１２との間には硬被覆層２６と下塗り層２８とが介在している。硬被覆層は公知のものであって、処理中と最終製品の使用中における可撓性基材の耐久性を改善する。図１の硬被覆層２６には例えばシリカ基硬被覆やシロキサン硬被覆やメラミン硬被覆やアクリル硬被覆などいかなる公知の材料でも使用できる。それらの材料は典型的には屈折率が１．４０〜１．６０である。したがってそれらの屈折率は基材１２の屈折率と一般に同じ範囲にある。許容できる厚さは１〜２０μｍである。薄い下塗り層２８は抗反射性層１４〜２０の硬被覆層２６への接着を促進する。下塗り層は金属または半導体であってよく、溶着後に変態（すなわち酸化）を経験して、実質的に透明で、実質的に無色の無機材料（例えば金属または半導体酸化物）を生じる。下塗り層材料としてはシリコン、チタン、クロムおよびニッケルなどが有効である。これに代えて下塗り層はＣｒＯ_x、ＳｉＯ_xなどの酸化物の形で溶着されてもよい。光学システム１０の所望の光学的性質破壊を最少とすべく、下塗り層２８は充分に薄いことが必要である。その厚さは５０Å未満であることが好ましい。層１４、１６は第１の層対を成しており、層１８、２０は第２の層対を成していろ。各層対は低吸収灰色金属層１４、１８と上側透明層１６、２０とを有している。上側透明層は屈折率が１．２５〜１．７の材料から形成されており、好ましくはＳｉＯ_x、最も好ましくは二酸化シリコンである。第１と第３の抗反射性層１４、１８は第２、４の抗反射性層１６、２０に比べて「高屈折率層」である。灰色金属層１４、１８はそれぞれかなりの電導度を有しているのが望ましい。例えばシート抵抗は平方当たり１×１０⁶Ω未満、より好ましくは２０００Ω未満である。灰色金属層は好ましくは組成が８０／２０のニクロムのようなニクロム合金である。しかしその他にもインコネル、モネル、ステンレス、クロムなども使われる。灰色金属層１４の厚さは０．５〜３０ｎｍであり、より好ましくは１〜１５ｎｍである。隣接するＳｉＯ_x層１６の厚さは５０〜２００ｎｍ、より好ましくは７０〜１５０ｎｍである。しかしこの層１６の厚さは第１の層対中の灰色金属層１４の光学的性質により左右される。第２の灰色金属層１８の厚さは第１の灰色金属層１４のそれと同じ範囲ではあるが、光学システム１０全体の可視光線透過率を所望の値とするように設定される。層１４〜２０の厚さを変更することにより、可視光線透過率は２０〜８０％の範囲で調整できるが、より好ましくは３０〜６０％の範囲である。ＳｉＯ₂層２０の厚さは６０〜１２０ｎｍである。この層の厚さを調整することにより光学システム１０の抗反射性を変更させることができる。例えばＳｉＯ_x層２０の厚さが増すと、光学システム１０の反射ミニマ（Ｒｍｉｎ）の波長は高くなる。かくして抗反射されるべき波長の範囲は調整できる。抗反射性層１６、２０は好ましくはＳｉＯ_xであるが、これに限定されるものではない。またその屈折率は１．２５〜１．７、より好ましくは１．４〜１．６である。これらの層は「低屈折率層」であって、吸収抗反射性を与えるものである。各層は、「高屈折率層」と組み合わされると、実質的に透明であり、かつ実質的に無色である。これらの層の可視光線透過率は１０％を越えてはならず、より好ましくは５％未満である。低屈折率層を与える好ましい材料としては剥き酸化物、弗化金属、酸化弗化金属などが挙げられる。スパッタリングには二酸化シリコンが望ましい。基材１２の下側には光学的感圧粘着性下塗り層３０が位置しており、光学システム１０を他の面に添着するのに使われる。これに代えて静電気的な力により光学システム１０の添着を行うこともできる。図２において光学システム１０は所定の幅に裁断されたロールの形状で提供されている。このロールシートはＣＲＴ３２に積層されている。ＣＲＴ上には紫外線硬化粘着層３４を施与してもよい。ローラー３６を用いて力を掛けて光学システム１０をＣＲＴに添着する。ＣＲＴの曲率半径が大きいので光学システム１０の直接積層が容易に達成される。もしＣＲＴが種々の曲率半径を有している場合には、積層に先立って光学システム１０に公知の加熱成形を加える。灰色金属の溶着は被覆中への酸素の取込み量が最少となるように設定する。にも拘わらず周りの気体や基材中の水分の故に、若干程度の酸化は起きる。しかし灰色金属中の金属／酸素原子比は０．３未満、より好ましくは０．２未満でなければならない。図１の光学システム１０はスパッタリングにより形成される。この光学的システムの利点は吸収層（すなわち灰色金属層１４、１８）が窒化物吸収層のように反応性スパッタリング溶着処理を必要としないことである。かくして被覆スタック溶着速度は最適なものとなる。典型的には下塗り層２８は硬被覆基材表面の緩やかな予成長処理により形成される。予成長はイオン化機体清浄化であって、これにより表面の状態が溶着された層に対する粘着性を高めるようにされる。予成長および下塗り層溶着は、硬被覆基材材料のウェブをスパッター溶着装置に通す最初の段階で、同時に起きる。スパッタリングに際しては、プラズマを生成する反応性または非反応性機体の存在下において、金属、半導体または金属化合物スパッタリング負極に電気を印加する。ガスプラズマが負極に作用して負極の原子が除かれてスパッタリング源に隣接する基材上に溶着のために移動する。スパッタリング用のガスとしてはクリプトンやアルゴンなどの希ガスが用いられるが、その低廉な価格の故にアルゴンがもっとも一般的なものである。スパッタリング・ガス混合物の成分としてほぼ１％〜９０％（チタニウムの場合なら１００％も）の１種以上の反応性ガスが用いられることは知られている。反応性ガスが存在すると、溶着される金属または半導体が酸化物（酸素源が存在する場合）、酸化窒化物（酸素および窒素源が存在する場合）またはガスの存在に応じて他の物質となる。図３に連続ウェブ・スパッタリング装置３８を示す。このシステムはライン４２を経て抜気される真空室４０を有しており、この室内には一連のマグネトロン・スパッタリング・ステーション４４、４６、４８を通って基材１２のシートを移動させる駆動機構が設けられている。該駆動機構は供給ローラー５０、遊動ローラー５２、５４、５６、５８、６０、６２、６４および引取りローラー６６を有している。また基材は冷却ドラム６８の周りを通過する。１対のモニター７０、７２を用いて被覆を施す前にウェブの光学的性質を判定する。またモニター７４、７６は被覆後のウェブの光学的性質を判定する。ここでいう光学的性質とは透過率、反射率および吸収率である。スパッタリング装置３８は基材１２上に２個までの層を同時または連続してスパッター溶着するように構成されており、このために２個の別個のステーション４４、４６を具えている。ステーション４６における負極はＡＣ印加であり、ステーション４４における負極はＤＣ印加である。基材１２がドラム６８の軸について回転されると、基材まず上記の表面変態を行う予成長ステーション７８に出会う。第１のステーション４４は図１の下塗り層２８を形成する。しばしば第２の通過ではステーション４４は灰色金属層１４、１８を溶着するのに使用され、第２のステーション４６は透明層１６、２０を溶着するのに用いられる。典型的には下塗り層は層１４、１６を形成する前の通過中に形成される。加えて図３の装置を用いて各層に異なる通過をさせてもよい。スパッタリング装置３８の制御とモニターとはこの型式の被覆機において一般に用いられているセンサーなどを用いて行われる。流量制御器（ＭＫＳ）８０を用いてステーション４４、４６へのガスの流入量を調整する。リール運動制御器８２は通過中の基材１２の張力、速度および距離を調整する。１個以上のＡＣまたはＤＣ電源によりステーション４４、４６に動力を供給する。光学的モニター・システム８６はスペクトル領域４００〜２０００ｎｍに亙ってウェブ材料の光学的特性を判定する。このシステムは４個のモニター７０、７２、７４、７６に接続されている。予成長動力供給器８８は予成長ステーション７８の挙動を制御する。実験例の概観厚さ７ｍｉｌの硬被覆ＰＥＴ基材のロールを図３に示すスパッタリング装置３８に掛けた。基材は、図１の硬被覆層２６がスパッタリング・ステーション４４、２６、４８に対面するように、配列した。最初の通過で基材は予成長処理を施され下塗り層２８が施与された。この通過は下記の条件で行われた。（１）成長室７８ガス流れ：０₂１３．４ｓｃｃｍガス圧力：１６ミリＴｏｒｒガス電圧：１５００ボルトガス流れ引き：１００ｍａ（２）ステーション４６ライン速度：２５ｍｍ／ｓｅｃＳｉ溶着のガス流れ：Ａｒ１０３．４ｓｃｃｍ対象電力：９００ワット圧力：３．０ミリＴｏｒｒ最初の通過の対象はシリコンであり、シリコン下塗り層が形成された。スパッタリング装置の光学的モニター機能を使って、波長４００ｎｍ（すなわち青）についての透過率に３％の降下が判定された。下塗り層２８が形成されるだけだから、この最初の通過は「通過０」と呼ばれる。「通過１」において第１の層対１４と１６の一部（すなわち７７ｎｍ）が形成された。ニクロム層１４の厚さは直接には制御されなかった。それよりもニクロム層が呈する光学的特性に関心が持たれた。ここに記載された被覆のために目的とされた可視光線透過率を得るべく、層対の溶着の結果の可視光線透過率の低下はほぼ７５．６％に達するのが望ましい。好ましい可視光線透過率は７５．１〜７６．１％である。これらの結果を得るための条件は下記の通りである。成長電圧：０ボルト（すなわちオフ）対象：１ＮｉＣｒに続いて２Ｓｉ（すなわちＡＣ対）ライン速度：９ｍｍ／ｓｅｃＮｉＣｒにおけるガス流れ：Ａｒ１１．４ｓｃｃｍＮｉＣｒにおける圧力：３．０３ミリＴｏｒｒＮｉＣｒにおける電気的状態：３９０ワット、１．０１Ａ／４３０ＶＳｉ負極におけるガス流れ：Ａｒ１０３．３ｓｃｃｍ；Ｏ₂４９．３ｓｃｃｍＳｉ負極における圧力：３．２５ミリＴｏｒｒＳｉ負極における電気的状態：５．０キロワット、１０．８Ａ／４９２Ｖ酸素の部分圧力：０．２２ミリＴｏｒｒこの「通過１」の結果光学的システムの可視光線透過率はほぼ７５．６％となり、シリコン酸化物層の厚さはほぼ７７．３ｎｍとなった。部分的に処理された光学的システムの光学的特性は、灰色金属層とシリコン酸化物の上面のシリコン酸化物層の厚さを増すことにより、改善されることが判定された。一実験例によると、厚さは１１０ｎｍに増加された。また他の実験例によるとほぼ１２０ｎｍに増加された。このことから灰色金属層とシリコン酸化物の第２の層対を形成すべく他の通過が実施された。図１において灰色金属層１８の厚さは６．７ｎｍであり、シリコン酸化物層の厚さは８６ｎｍであった。可視光線透過率は４９％と測定された。この通過の条件は下記の通りである。ＮｉＣｒ負極におけるガス流れ：Ａｒ１１．４ｓｃｃｍＮｉＣｒ負極におけるシステム：３．０１ミリＴｏｒｒＮｉＣｒ負極における電気的条件：７５０ワット、１５Ａ／４６３ＶＳｉ負極におけるガス流れ：Ａｒ１０２．５ｓｃｃｍ；Ｏ₂５３．９ｓｃｃｍＳｉ負極における圧力：３．１９ミリＴｏｒｒＳｉ負極における電気的条件：５．０キロワット、１２．５Ａ／４３９Ｖ図４に得られた光学的システムの可視波長における反射率を示す。この発明によった場合要求される光学的性質を満たしていることが明らかである。

【手続補正書】特許法第１８４条の４第４項【提出日】平成１１年８月１７日（１９９９．８．１７）【補正内容】請求の範囲（補正）１．第１の面を具えた基材と、基材上に配置された４層構造抗反射性被膜とを含んでなり、該抗反射性被膜がニッケル・クロム合金からなり、かつ基材の第１の面に隣接配置された第１の層と、シリコン酸化物層からなり、かつ第１の層上に配置された第２の層と、ニッケル・クロム合金からなり、かつ第２の層上に配置された第３の層と、シリコン酸化物層からなり、かつ第３の層上に配置された第４の層とからなることを特徴とする反射制御体。２．基材と抗反射性被膜との間に下塗り層が配置されて抗反射性被膜の粘着を促進していることを特徴とする請求項１に記載の反射制御体。３．下塗り層が５０Å未満の厚さであり、かつ酸素に曝されたときに少なくとも部分的酸化され易い材料から形成されていることを特徴とする請求項２に記載の反射制御体。４．下塗り層が酸素の存在しない雰囲気中においてシリコンとして溶着されることを特徴とする請求項３に記載の反射制御体。５．基材と下塗り層との間に硬被覆層が挟まれていることを特徴とする請求項３に記載の反射制御体。６．硬被覆層がシロキサン基材料であることを特徴とする請求項５に記載の反射制御体。１２．下塗り層が溶着後の酸化され易いシリコンからなることを特徴とする請求項１１に記載の反射制御体。１３．下塗り層と基材との間に硬被覆層が挟まれていて、基材の耐久性を高めていることを特徴とする請求項１２に記載の反射制御体。１４．第１と第２の灰色金属層の厚さが５０〜２００ｎｍであることを特徴とする請求項１１に記載の反射制御体。１５．酸化物層の基材とは反対の側に潤滑層が形成されていることを特徴とする請求項１２に記載の反射制御体。１６．透明な基材を用意し、基材上に下塗り層を形成し、下塗り層と接触して第１のニッケル・クロム層を形成し、第１のニッケル・クロム層上に第１の透明層を形成し、第１の透明層上に第２のニッケル・クロム層を形成し、第２のニッケル・クロム層上に第２の透明層を形成することを含んでなり、かつ反射制御体の可視光線透過率が２０〜８０％であることを特徴とする反射制御体の潤滑方法。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＡＵ，ＢＲ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＺ，ＨＵ，ＪＰ，ＫＲ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＲＵ，ＴＲ

Claims

【特許請求の範囲】１．第１の面を具えた基材と、基材上の多層抗反射性被膜とを含んでなり、該抗反射性被膜がニッケル・クロム合金からなり、かつ基材の第１の面に隣接する第１の層と、シリコン酸化物からなり、かつ第１の層上に配置された第２層と、ニッケル・クロム層からなり、かつ第２の層の上に配置された第３の層と、シリコン酸化物からなり、かつ第３の層の上に配置された第４の層とからなることを特徴とする反射制御体。２．基材と抗反射性被膜との間に下塗り層が配置されて抗反射性被膜の粘着を促進していることを特徴とする請求項１に記載の反射制御体。３．下塗り層が５０Å未満の厚さであり、かつ酸素に曝されたときに少なくとも部分的酸化され易い材料から形成されていることを特徴とする請求項２に記載の反射制御体。４．下塗り層が酸素の存在しない雰囲気中においてシリコンとして溶着されることを特徴とする請求項３に記載の反射制御体。５．基材と下塗り層との間に硬被覆層が挟まれていることを特徴とする請求項３に記載の反射制御体。６．硬被覆層がシロキサン基材料であることを特徴とする請求項５に記載の反射制御体。７．第１の層の厚さが０．５〜３０ｎｍであり、かつ第３の層が、抗反射性被膜の可視光線透過率が２０〜８０％となるように選択された厚さ、を有していることを特徴とする請求項１に記載の反射制御体。８．第１の層の厚さが１〜１５ｎｍであり、かつ第３の層が、抗反射性被膜の可視光線透過率が３０〜６０％となるように選択された厚さ、を有していることを特徴とする請求項１に記載の反射制御体。９．第２と第４の層とがシリコン酸化物であり、かつそれぞれ５０〜２００ｎｍの厚さを有していることを特徴とする請求項１に記載の反射制御体。１０．透明な基材と、厚さが５０Å未満であり、かつ灰色金属層の粘着を促進するべく選択された材料からなる下塗り層と、基材の下塗り層と接触する側上に形成された第１の灰色金属層と、第１の灰色金属層と接触する第１の透明酸化物層と、第１の透明酸化物層と接触する第２の灰色金属層と、第２の灰色金属層と接触する第２の透明酸化物層とを含んでなる反射制御体。１１．第１と第２の灰色金属層がニッケル・クロム合金であり、かつ第１と第２の酸化物層が二酸化シリコンであることを特徴とする請求項１０に記載の反射制御体。１２．下塗り層が溶着後の酸化され易いシリコンからなることを特徴とする請求項１１に記載の反射制御体。１３．下塗り層と基材との間に硬被覆層が挟まれていて、基材の耐久性を高めていることを特徴とする請求項１２に記載の反射制御体。１４．第１と第２の灰色金属層の厚さが５０〜２００ｎｍであることを特徴とする請求項１１に記載の反射制御体。１５．酸化物層の基材とは反対の側に潤滑層が形成されていることを特徴とする請求項１２に記載の反射制御体。１６．透明な基材を用意し、基材上に下塗り層を形成し、下塗り層上に第１のニッケル・クロム層を形成し、ニッケル・クロム層上に第１の透明層を形成し、第１の透明層上に第２のニッケル・クロム層を形成し、第２のニッケル・クロム層上に第２の透明層を形成することを含んでなり、かつ可視光線透過率が２０〜８０％であることを特徴とする反射制御体の潤滑方法。１７．第１のニッケル・クロム層を形成するに際して、溶着材料を０．５〜３０ｎｍの厚さにスパッターし、かつ第２のニッケル・クロム層を形成するに際して、反射制御体の可視光線透過率が２０〜８０％となるべく選択された厚さに溶着材料をスパッターすることを特徴とする請求項１６に記載の方法。１８．下塗り層の形成に際して、酸化のない雰囲気中にシリコンを溶着することを特徴とする請求項１６に記載の方法。１９．下塗り層の形成に際して、５０Å未満の厚さにシリコンを溶着することを特徴とする請求項１８に記載の方法。２０．第１と第２の透明層を形成するに際して、それぞれの層の厚さを５０〜２００ｎｍとすることを特徴とする請求項１７に記載の方法。