JP2006350346A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明による液晶表示装置の製造方法は、陰刻エンボシングパターンと突出部とを含むモールドを有機保護膜の表面に加圧することで、有機保護膜の表面に陽刻エンボシングパターンと接触孔とを形成し、その接触孔からドレイン電極を露出させる。有機保護膜の粘度が高い場合はモールドを除去してから有機保護膜をフォトエッチングでパターニングする。有機保護膜の粘度が低い場合は予めモールドの上にマスクを重ねておき、モールドとマスクとを有機保護膜の上に置いたままで有機保護膜を露光して硬化させる。
【選択図】図4C
Description
本発明の目的は、エンボシングパターンの収率と反射効率との更なる向上、及び製造工程の更なる簡単化を実現可能な液晶表示装置の製造方法の提供にある。
絶縁基板の上に、互いに交差するゲート配線とデータ配線、及び、ゲート配線とデータ配線との間の交差点付近にドレイン電極を含む薄膜トランジスタ、を形成して有機保護膜で覆う段階;
第1エンボシングパターンと突出部とを含むモールド、を有機保護膜の上に配置して加圧し、ゲート配線とデータ配線とで区切られた画素領域のそれぞれで、第1エンボシングパターンと突出部とを反転させた形状の第2エンボシングパターンと接触孔とを有機保護膜に形成し、その接触孔からドレイン電極を露出させる段階;並びに、
画素領域のそれぞれで有機保護膜の上に画素電極を形成し、上記の接触孔を通じてその画素電極をドレイン電極と連結する段階;を有する。好ましくは、モールドの加圧時、突出部の先端部がドレイン電極に接する。それにより、上記の接触孔が簡単に形成される。好ましくは、画素電極の少なくとも一部に反射層が形成され、その反射層の少なくとも一部が第2エンボシングパターンを覆う。それにより、上記の液晶表示装置が反射型又は半透過型として製造され、特に反射層には外部の物体が映らない。更に、第1エンボシングパターンが設けられたモールドの表面には好ましくは離型剤が塗布されている。それにより、モールドと有機保護膜との間が容易に分離可能である。
開口部を含むマスク、をモールドに重ね、その開口部を画素領域に対向させる段階、及び、
そのマスクを用いて有機保護膜を露光して硬化させる段階、を含む。好ましくは、モールドとマスクとを除去した後、有機保護膜を現像することにより、第2エンボシングパターンが形成された領域以外から有機保護膜を除去する段階、をさらに有する。ここで、モールドは好ましくは紫外線を透過させる。更に好ましくは、モールドがPDMS(ポリジメチルシロキサン:polydimethylsiloxane)から成る。また、モールドとマスクとを重ねるとき、好ましくは、モールドに接するマスクの表面と第1エンボシングパターンの頂上部との間の距離が0.1mm〜0.7mmである。それにより、紫外線の屈折が最小限に抑えられるので、有機保護膜には良質な形状のエンボシングパターンが形成される。
図3に示されているように、本発明の実施形態による液晶パネル1は、互いに対向している薄膜トランジスタ基板100とカラーフィルタ基板200、及びそれらの間に挟まれている液晶層300を含む。
本発明の実施形態による液晶表示装置は好ましくは小型であり、携帯電話等の携帯情報機器に搭載される。その場合、好ましくは、図1に示されているように、一つの大きな基板素材10から複数の薄膜トランジスタ基板100が一連の工程で同時に製造される。ここで、図1に示されている小さい矩形がそれぞれ、薄膜トランジスタ基板100である。尚、本発明は大型の液晶表示装置に対しても実施可能である。
第2絶縁基板210のすぐ上(図3では下側)にはブラックマトリックス220が形成されている。ブラックマトリックス220は薄膜トランジスタ基板100の各画素間の領域(特に各画素の薄膜トランジスタTを含む領域)と対向し、外部から薄膜トランジスタTへ直接照射される光を遮断する。ブラックマトリックス220は好ましくは、黒色顔料が添加された感光性有機物質から成る。その黒色顔料としては好ましくは、カーボンブラックやチタニウムオキシドが使用される。
尚、好ましくはシラント(図示せず)が薄膜トランジスタ基板100とカラーフィルタ基板200とを接合すると共に、それらの基板の間に液晶層300を密封している。
第1工程では、まず、好ましくは図1に示されているように、一つの大きな基板素材10の上にマトリクス状に配置された複数の矩形領域を想定し、各矩形領域を薄膜トランジスタ基板100の第1絶縁基板110(図3参照)とする。次に、第1絶縁基板110の全面にゲート配線の素材を蒸着し、フォトエッチングでその蒸着膜をパターニングし、図2、3に示されているようなゲート配線(ゲート線121、ゲート電極122、及びゲートパッド123)を形成する。
まず、図4Dに示されているように有機保護膜170の上からモールド400を除去し、その後、図4Eに示されているように、有機保護膜170の上方にマスク500を配置する。ここで、マスク500には開口部510が形成されているので、図4Eに示されている配置ではその開口部510を通して陽刻エンボシングパターン175が露出する(好ましくは、ドレイン接触孔171の内側はマスク500で塞がれている)。次に、マスク500の上方から紫外線UVを照射し、マスク500の開口部510を通して有機保護膜170を露光する。それにより、開口部510から露出した、陽刻エンボシングパターン175を含む有機保護膜170の部分が感光する。続いて、有機保護膜170に対して現像工程を行う。その結果、図4Fに示されているように、陽刻エンボシングパターン175が形成された領域以外では有機保護膜170が除去される。特に、図1に示されているように一つの大きな基板素材10の上に配置された複数の第1絶縁基板110を同時に加工する場合、上記の現像工程によって、各第1絶縁基板110の間の領域から有機保護膜170が除去される。更に、ドレイン接触孔171の内部に残存していた有機保護膜170が完全に除去される。こうして、良質な形状のドレイン接触孔171が形成される。尚、ゲートパッド接触孔172とデータパッド接触孔173とを同様な方法で形成しても良い。
第7工程では、画素電極180の上に反射層の素材を蒸着してパターニングし、画素電極180の少なくとも一部を反射層190で覆う(図2、3参照)。その後、画素電極180と反射層190との上に配向膜(図示せず)を形成する。こうして、本発明の第1実施形態による薄膜トランジスタ基板100が完成する。
10 基板素材
100 薄膜トランジスタ基板
110 第1絶縁基板
121 ゲート線
122 ゲート電極
123 ゲートパッド
130 ゲート絶縁膜
140 半導体層
150 抵抗性接触層
161 データ線
162 ソース電極
163 ドレイン電極
164 データパッド
170 有機保護膜
171 ドレイン接触孔
172 ゲートパッド接触孔
173 データパッド接触孔
175 陽刻エンボシングパターン
180 画素電極
181 第1接触補助部材
182 第2接触補助部材
190 反射層
200 カラーフィルタ基板
210 第2絶縁基板
220 ブラックマトリックス
230 カラーフィルタ
240 オーバーコート層
250 共通電極
300 液晶層
301 液晶分子
400 モールド
410 陰刻エンボシングパターン
420 突出部
500 マスク
510 開口部
Claims (13)
- 絶縁基板の上に、互いに交差するゲート配線とデータ配線、及び、前記ゲート配線と前記データ配線との間の交差点付近にドレイン電極を含む薄膜トランジスタ、を形成して有機保護膜で覆う段階;
第1エンボシングパターンと突出部とを含むモールド、を前記有機保護膜の上に配置して加圧し、前記ゲート配線と前記データ配線とで区切られた画素領域のそれぞれで、前記第1エンボシングパターンと前記突出部とを反転させた形状の第2エンボシングパターンと接触孔とを前記有機保護膜に形成し、前記接触孔から前記ドレイン電極を露出させる段階;並びに、
前記画素領域のそれぞれで前記有機保護膜の上に画素電極を形成し、前記接触孔を通じて前記画素電極を前記ドレイン電極と連結する段階;
を有する液晶表示装置の製造方法。 - 前記モールドの加圧時、前記突出部の先端部が前記ドレイン電極に接する、請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記画素電極の少なくとも一部に反射層を形成し、前記反射層の少なくとも一部で前記第2エンボシングパターンを覆う段階、をさらに有する、請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記有機保護膜が、可塑性を示す程度の高粘度の有機物を含む、請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記モールドを除去した後、前記有機保護膜を露光して現像することにより、前記第2エンボシングパターンが形成された領域以外から前記有機保護膜を除去する段階、をさらに有する、請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記有機保護膜の露光時に使用されるマスクが、前記画素領域のそれぞれと対向する領域に開口部を含む、請求項5に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記有機保護膜が、流動性を示す程度の低粘度の有機物を含む、請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記有機保護膜に前記第2エンボシングパターンと前記接触孔とを形成する段階が、
開口部を含むマスク、を前記モールドに重ね、前記開口部を前記画素領域と対向させる段階、及び、
前記マスクを用いて前記有機保護膜を露光して硬化させる段階、
を含む、請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記モールドと前記マスクとを除去した後、前記有機保護膜を現像することにより、前記第2エンボシングパターンが形成された領域以外から前記有機保護膜を除去する段階、をさらに有する、請求項8に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記モールドが紫外線を透過させる、請求項8に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記モールドがPDMS(ポリジメチルシロキサン)から成る、請求項10に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記モールドに接する前記マスクの表面と前記第1エンボシングパターンの頂上部との間の距離が0.1mm〜0.7mmである、請求項8に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記第1エンボシングパターンが設けられた前記モールドの表面には離型剤が塗布されている、請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
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