CN100552499C - 用于显示装置的模件及制造方法 - Google Patents
用于显示装置的模件及制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN100552499C CN100552499C CNB200710137902XA CN200710137902A CN100552499C CN 100552499 C CN100552499 C CN 100552499C CN B200710137902X A CNB200710137902X A CN B200710137902XA CN 200710137902 A CN200710137902 A CN 200710137902A CN 100552499 C CN100552499 C CN 100552499C
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- module
- color filter
- color
- layer
- depressed patterns
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 47
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 12
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 claims abstract description 39
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims abstract description 17
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 132
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 76
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 16
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 16
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 14
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 6
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 17
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 12
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 10
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 9
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 8
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 8
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N indium;tin;hydrate Chemical compound O.[In].[Sn] MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 238000012797 qualification Methods 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 2
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
- G02C9/00—Attaching auxiliary optical parts
- G02C9/02—Attaching auxiliary optical parts by hinging
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
- G02C5/00—Constructions of non-optical parts
- G02C5/02—Bridges; Browbars; Intermediate bars
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
- G02C7/00—Optical parts
- G02C7/10—Filters, e.g. for facilitating adaptation of the eyes to the dark; Sunglasses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
- G02C2200/00—Generic mechanical aspects applicable to one or more of the groups G02C1/00 - G02C5/00 and G02C9/00 - G02C13/00 and their subgroups
- G02C2200/02—Magnetic means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
本发明涉及用于显示装置的模件及制造方法。一种用于显示装置的模件包括:支承框架;该支承框架在其第一侧包括至少一个凹陷的图案形成部分,和形成在图案形成部分周围的有机层去除部分,不同深度的图案形成部分凹陷区域,该模件具有对应于特定凹陷的图案形成部分的光阻挡和光透射部分。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于显示装置的模件以及一种应用该模件的显示装置的制造方法。
背景技术
平板显示装置包括液晶显示器(LCD)和有机发光二极管(OLED)装置等。该LCD包括薄膜晶体管基板、其上形成有滤色器的滤色器基板和置于薄膜晶体管基板和滤色器基板之间的液晶板。各个基板可包括应用光刻工艺构图的金属层、无机层和有机层。
当形成具有不同厚度的滤色器或感光层时,至少要进行两次包括狭缝(slit masking)、半调掩模和曝光的复杂而缓慢的工序。
发明内容
根据本发明的一方面,实现了利用模件(mold)制造显示装置的简化方法,该模件包括支承框架(supporting frame),该支承框架具有至少一个在其第一侧凹陷的图案形成部分,以及在图案形成部分周围形成的有机层去除部分,凹陷的图案形成区域具有不同深度。
根据本发明的一个实施例,图案形成部分以阶梯形状(stair shape)形成在支承框架的第一侧。
根据本发明的实施例,模件包括:第一模件、第二模件和第三模件,每个模件都具有支承框架,用于显示装置的第一模件包括形成在支承框架第一侧的一个图案形成部分,而第二模件包括彼此相邻且形成在支承框架第一侧的两个图案形成部分,而第三模件包括形成在支承框架第一侧且彼此之间以预定间隙隔开的三个图案形成部分。
根据本发明的实施例,三个图案形成部分重复地形成在支承框架的第一侧且彼此之间以预定间隙隔开,而具有对应于三个图案形成部分之一的开口部分的光阻挡膜(light-blocking film)形成在支承框架的第一和第二侧之一。
根据本发明的实施例,成对地提供第二区域,第一区域插在第二区域之间。
根据本发明的实施例,沿着第一区域的周边提供第二区域。
通过提供一种用于显示装置的模件可以实现本发明的上述和/或其它方面,其包括支承框架,该支承框架包括至少一个在支承框架第一侧凹陷的图案形成部分和在该图案形成部分周围提供的有机层去除部分,图案形成部分包括多个阶梯(steps)。
通过提供一种用于制造显示装置的方法可以实现本发明的上述和/或其它方面,其包括:在绝缘基板上形成第一滤色器层;向绝缘基板压用于显示装置的第一模件以形成第一滤色器;在绝缘基板上形成第二滤色器层;向绝缘基板压用于显示装置的第二模件以形成第二滤色器;在绝缘基板上形成第三滤色器层;向绝缘基板压用于显示装置的第三模件以形成第三滤色器。
根据本发明的实施例,该方法还包括:在形成第一滤色器后和在形成第二滤色器层前固化第一滤色器。
根据本发明的实施例,该方法还包括:在形成第二滤色器层后,布置用于显示装置的第二模件以使两个图案形成部分中的一个对应于第一滤色器。
根据本发明的实施例,该方法还包括:在形成第二滤色器后和在形成第三滤色器层前固化第二滤色器。
根据本发明的实施例,该方法还包括:在形成第三滤色器层后,布置用于显示装置的第三模件以使三个图案形成部分中的两个对应于第一和第二滤色器。
根据本发明的实施例,该方法还包括:在形成第三滤色器后固化第三滤色器。
根据本发明的实施例,该方法还包括:去除第一和第二滤色器、第二和第三滤色器以及第一和第三滤色器之间的剩余层。
根据本发明的实施例,该方法还包括:在第一和第二滤色器、第二和第三滤色器以及第一和第三滤色器之间形成黑矩阵。
通过提供一种用于制造显示装置的方法可以实现本发明的上述和/或其它方面,其包括:在绝缘基板上形成第一滤色器层;向绝缘基板压用于显示装置的模件以形成第一滤色器;当压用于显示装置的模件时曝光和固化第一滤色器且使第一滤色器独自对应于开口部分;在绝缘基板上形成第二滤色器层;移动用于显示装置的模件以使邻近开口部分的图案形成部分对应于第一滤色器;向绝缘基板压用于显示装置的模件以形成第二滤色器;当压用于显示装置的模件时曝光和固化第二滤色器且使第一和第二滤色器对应于开口部分;在绝缘基板上形成第三滤色器层;移动用于显示装置的模件以使邻近开口部分的图案形成部分对应于第二滤色器;向绝缘基板压用于显示装置的模件以形成第三滤色器。
根据本发明的实施例,该方法还包括:当压用于显示装置的模件时曝光和固化第三滤色器。
根据本发明的实施例,该方法还包括:除去除第一到第三滤色器以外剩余的滤色器。
根据本发明的实施例,第一滤色器包括对应于第一区域的第一反射器(reflector)和对应于第二区域的第一透射部分,第二滤色器包括对应于第一区域的第二反射器和对应于第二区域的第二透射部分,而第三滤色器包括对应于第一区域的第三反射器和对应于第二区域的第三透射部分。
通过提供一种用于制造显示装置的方法可以实现本发明的上述和/或其它方面,其包括:在绝缘基板上形成具有栅极电极的栅极布线(gate wire);依序在栅极布线上沉积栅绝缘层、半导体层、欧姆接触层和数据金属层;在数据金属层上形成感光材料层;在感光材料层上,布置和压用于显示装置的模件;以及形成具有对应于第一区域的第一部分和对应于第二区域的第二部分的感光层;以及通过利用感光层的蚀刻法形成薄膜晶体管。
根据本发明的实施例,第一部分比第二部分薄,且成对地提供第二部分,第一部分插在第二部分之间。
根据本发明的实施例,栅极布线包括按预定方向延伸的栅极线,槽,在用于显示装置的模件的第一侧凹陷,当布置用于显示装置的模件时,该槽与栅极线相交。
根据本发明的实施例,槽具有与第二区域基本上相同的深度。
根据本发明的实施例,感光层还包括对应于槽的第三部分。
附图说明
参照附图,通过下面对实施例的详细描述,本发明的上述和/或其它方面和优点将显而易见,其中:
图1A至1E是根据本发明的用于显示装置的模件的剖视图;
图2示出了根据本发明第一实施例的薄膜晶体管基板;
图3是显示装置沿图2中线III-III的剖视图;
图4示出了根据本发明第一实施例的示意性薄膜晶体管基板;
图5是沿图4中线V-V取得的根据薄膜晶体管基板的滤色器基板的剖视图;
图6A至6I示出了根据本发明第一实施例的滤色器基板的制造方法;
图7A至7I示出了根据本发明第二实施例的滤色器基板的制造方法;和
图8A至8I示出了根据本发明第三实施例的薄膜晶体管基板的制造方法。
具体实施方式
下面将结合附图描述本发明的实施例,其中同样的附图标记表示同样的元件且在必要的情况下会避免重复的描述。
下面,将详细描述根据本发明用于显示装置的模件10、20、30和40。
如这里所示,根据本发明用于显示装置的模件10、20、30、30a和40包括:支承框架11、21、31和41;至少一个在支承框架11、21、31和41的第一侧凹陷的图案形成部分12、22a、22b、32a、32b、32c和42;以及形成在图案形成部分周围的有机层去除部分16、26、36和46。图案形成部分12、22a、22b、32a、32b、32c和42包括按预定深度凹陷的第一区域13、23a、23b、33a、33b、33c和43、以及凹陷得深于第一区域的第二区域14、24a、24b、34a、34b、34c和44。即,图案形成部分12、22a、22b、32a、32b、32c和42具有包括第一区域13、23a、23b、33a、33b、33c和43和第二区域14、24a、24b、34a、34b、34c和44的多个阶梯。图案形成部分12、22a、22b、32a、32b、32c和42形成所需图案。有机层去除部分16、26、36和46去除没有图案形成的剩余区域。
图1A至1D说明用于显示装置的模件10、20、30和30a,这些模件用于形成液晶显示装置的滤色器基板100的滤色器120、123、126(参见图3)。更具体而言,图1A至1D说明用于显示装置的模件10、20、30和30a,这些模件用于在半透射型LCD装置中形成双调(two tone)滤色器,从而改进反射率(reflection ratio)和色彩实现。如这里所示,用于显示装置的模件10、20、30和30a的图案形成部分12、22a、22b、32a 、32b、32c和42在支承框架11、21和31的第一侧具有阶梯形状的凹陷。
如图1A所示,第一模件10包括在支承框架11的第一侧凹陷的图案形成部分12。图案形成部分12包括第一区域13和第二区域14。凹陷的第二区域14的深度h2深于凹陷的第一区域13的深度h1。第一和第二区域13和14深度不同。如图1B所示,用于显示装置的第二模件20包括两个在支承框架21的第一侧凹陷且彼此相邻的图案形成部分22a和22b。图案形成部分22a和22b彼此隔开预定间隙。它们之间的间隙包括对应于黑矩阵130(稍后描述)的有机层去除部分26。图案形成部分22a和22b包括按预定深度凹陷的第一区域23a和23b以及与第一区域23a和23b深度不同且分别凹陷到深于第一区域23a和23b的深度h2的第二区域24a和24b。如图1C所示,用于显示装置的第三模件30包括三个在支承框架31的第一侧凹陷且彼此间隔开预定间隙的图案形成部分32a、32b和32c。它们之间的间隙包括对应于黑矩阵130(稍后描述)的有机层去除部分36。图案形成部分32a、32b和32c分别包括阶梯形状的第一区域33a、33b和33c与第二区域34a、34b和34c。凹陷的第二区域34a、34b和34c的深度h2深于凹陷的第一区域33a、33b和33c的深度h1。
图1D说明用于显示装置的模件30a,通过使用用于显示装置的模件30a该模件用于形成具有红、绿和蓝色的双调滤色器。为方便起见,同样的附图标记表示如图1C中的同样元件。
如图1D所示,三个图案形成部分32a、32b和32c重复地形成在支承框架31的第一侧。图案形成部分32a、32b和32c彼此之间隔开预定间隙。图案形成部分32a、32b和32c分别包括凹陷到预定深度h1的第一区域33a、33b和33c和阶梯形状的凹陷到深于第一区域33a、33b和33c的深度h2的第二区域34a、34b和34c。图案形成部分32a、32b和32c之间的间隙包括有机层去除部分36。
具有开口部分39的光阻挡膜38形成在支承框架31的第二侧以对应于图案形成部分32a、32b和32c中的一个。如图1D所示,具有开口部分39的光阻挡膜38形成在支承框架31的第二侧以对应第一位置的图案形成部分32a。供选地,光阻挡膜38可以形成在具有图案形成部分32a、32b和32c的支承框架31的第一侧来阻挡光。没有滤色器形成的区域通过光阻挡膜38容易地去除。
图案形成部分12、22a、22b、32a、32b和32c为阶梯形状以形成双调滤色器。
图1E说明用于显示装置的模件40,该模件被用于以不同的深度形成感光层,由此来减少在制造薄膜晶体管时应用掩模的时间。使用用于显示装置的模件40以不同的深度形成感光膜从而按所需图案形成源极电极、漏极电极、欧姆接触层和半导体层。如图1E所示,用于显示装置的模件40包括图案形成部分42,图案形成部分42具有凹陷到预定深度h1的第一区域43和第一区域43插在其间的成对提供的第二区域44。凹陷的第二区域44的深度h2深于第一区域43。在支承框架41的第一侧提供图案形成部分42。有机层去除部分46形成在图案形成部分42的周围以除去除了图案形成的区域以外的剩余区域。根据所要形成的源极电极和漏极电极的形式可以在第一区域43的周围提供第二区域44。
如上所述,可以使用具有图案形成部分12、22a、22b、32a、32b、32c和42的用于显示装置的模件10、20、30、30a和40来形成所需要的图案而无需掩模,由此简化了工序并提升了图案的合格率(yield),该图案形成部分具有多个深度差。
此后,将描述一种根据本发明利用用于显示装置的模件制造显示装置的方法。下文中,用语“在…上”或“在…之上”表示新的层(即,膜)可以插在或不插在两层(即,膜)之间,而用语“直接在…上”表示两层(即,膜)彼此连接。
图2是根据本发明的薄膜晶体管基板的平面图。图3是显示装置沿线III-III的剖视图。图4用于图解说明根据本发明第一实施例的薄膜晶体管基板。图5是沿图4中线V-V的根据薄膜晶体管基板的滤色器基板的剖视图。
根据本发明的液晶板400包括:滤色器基板100;面对滤色器基板100的薄膜晶体管基板200;和插在滤色器基板100和薄膜晶体管基板200之间的液晶层300。
参照图2、3和5,将描述滤色器基板100和薄膜晶体管基板200。
第一绝缘基板110可以由玻璃或塑料构成。红、绿和蓝滤色器重复地形成在第一绝缘基板110上且彼此隔开。滤色器120、123和126包括感光有机材料并将颜色赋予给由背光单元(未示出)发出的光或自然光,光被传送给液晶层300。如图3所示,滤色器120、123和126深度不同。滤色器120、123和126在一些区域厚而在其它区域薄。滤色器120、123和126的对应于薄膜晶体管基板200的反射层298的部分包括反射器121、124和127。反射器121、124和127比滤色器120、123和126的其它部分薄。滤色器120、123和126的一部分包括比反射器121、124和127厚的透射部分122、125和128。来自背光单元的光通过透射部分122、125和128传送到外部。来自自然光的光通过反射器121、124和127在反射区域上反射从而通过反射器传送到外部。当反射器121、124和127的厚度为透射部分122、125和128的一半时,光两次传送到反射器121、124和127。于是,通过反射器121、124和127传送到外部的光近似于通过透射部分122、125和128传送的光,由此改进LCD装置的色彩实现。
黑矩阵130形成在滤色器120、123和126之间。黑矩阵130分开红、绿和蓝滤色器并阻挡光直接射到薄膜晶体管基板200上薄膜晶体管T。黑矩阵130由具有黑色颜料的感光有机材料构成。黑色颜料包括碳黑或氧化钛。
保护层(overcoat layer)140形成在滤色器120、123和126及黑矩阵130未被滤色器120、123和126所覆盖的部分上。保护层140平整化滤色器120、123和126并保护滤色器120、123和126。保护层140通常包括丙烯酸环氧树脂(acrylic epoxy)。
公共电极150形成在保护层140上。公共电极150包括诸如氧化铟(ITO)或氧化铟锌(IZO)的透明导电材料。公共电极150和薄膜晶体管基板200的像素电极280一起向液晶层300提供电压。
此后,将详细描述根据本发明的薄膜晶体管基板200。
薄膜晶体管T形成在由玻璃或塑料构成的第二绝缘基板210上。
薄膜晶体管T包括:栅极电极223;覆盖第二绝缘基板210和栅极电极223的栅绝缘层230;形成在栅极电极223的栅绝缘层230上的半导体层240;在半导体层240上通过栅极电极223分离的欧姆接触层250;及分别设置在分离的欧姆接触层250上的源极电极262和漏极电极263。
栅极电极223从按预定方向延伸的栅极线221分支出来。栅极布线221和223包括:栅极线221;栅极电极223;及设置在栅极线221外围并接收外部信号的栅极垫(gate pad)(未示出)。
源极电极262从数据线261分支出来,数据线261绝缘地交叉栅极线221。漏极电极263与源极电极262分隔开并形成沟槽区,栅极电极223置于其间。数据布线261、262和263包括:数据线261;源极电极262;漏极电极263;和设置在数据线261外围并接收外部信号的数据垫(data pad)(未示出)。
钝化层270形成在数据布线261、262、263和164及在其间被暴露的半导体层240上。不平钽图案275、漏极接触孔271形成在钝化层270上,漏极电极263通过该接触孔271暴露。不平钽图案275形成在钝化层270上以漫射光线和提高光反射率。
像素电极280形成在具有不平钽图案275的钝化层270上。像素电极280由诸如氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)的透明导电材料构成。像素电极280通过漏极接触孔271电连接漏极电极263。不平钽图案通过钝化层270的不平钽图案275形成在像素电极280上。
反射层298形成在像素电极280的一部分上。栅极线221与数据线261彼此绝缘相交以限定像素区域。像素区域包括:透射区域,没有反射层298形成在透射区域上;以及反射区域,反射层298形成在反射区域上。在没有反射层298的透射区域内,来自背光单元的光被传送到液晶板400之外。在带有反射层298的反射区域内,来自外部的光线被反射并发射回液晶板400之外。反射层298包括铝或银、或具有铝层和钼层的双层。反射层298通过漏极接触孔271电连接漏极电极263。不平钽图案通过像素电极280的不平钽图案275形成在反射层298上。
此后,将结合图6A至6I描述一种制造具有双调滤色器的滤色器基板100的方法。
如图6A所示,第一滤色器层120a形成在第一绝缘基板110上。第一滤色器层120a包括颜色为红、绿和蓝之一的感光材料。用于显示装置的第一模件10布置在第一绝缘基板110预定部分上或调整为与之对准。
如图6B所示,用于显示装置的第一模件10和第一绝缘基板110合到一起以在第一滤色器层120a上形成对应于图案形成部分12的图案。
如图6C所示,用于显示装置的第一模件10从第一绝缘基板110分离以完成具有对应于第一区域13的第一反射器121和对应于第二区域14的第一透射部分(transmission part)122的第一滤色器120。第一滤色器120可以通过具有暴露第一滤色器120的开口的掩模(未示出)曝光和固化。在下一工序中维持第一滤色器120的形状,由此更精确地形成第一滤色器120。
第二滤色器层123a形成在具有第一滤色器120的第一绝缘基板110上。如图6D所示,在第一绝缘基板110上布置用于显示装置的第二模件20。更具体地,在第一绝缘基板110上布置用于显示装置的第二模件20以使图案形成部分22a和22b中的一个对齐第一滤色器120。在下一工序中维持第一滤色器120的形状。
如图6E所示,将用于显示装置的第二模件20与第一绝缘基板110压在一起以在第二滤色器层120a上形成对应于图案形成部分22b的图案。
如图6F所示,将用于显示装置的第二模件20与第一绝缘基板110分开以完成具有对应于第一区域23a的第二反射器(reflector)124和对应于第二区域24b的第二透射部分125的第二滤色器123。与第一滤色器120一样,第二滤色器123也优选地被固化。
如这里所示,第三滤色器层126a形成在具有第一和第二滤色器120和123的第一绝缘基板110上。
如图6G所示,在第一绝缘基板110上布置用于显示装置的第三模件30。更具体地,在第一绝缘基板110上配准用于显示装置的第三模件30以使图案形成部分32a、32b和32c中的两个对应于第一和第二滤色器120和123。因此,在下一工序中维持第一和第二滤色器120和123的形状。
如图6H所示,向第一绝缘基板110压用于显示装置的第三模件30以在第三滤色器层126a上形成对应于图案形成部分32c的图案。
如图6I所示,将用于显示装置的第三模件30与第一绝缘基板110分开以完成具有对应于第一区域33c的第三反射器127和对应于第二区域34c的第三透射部分128的第三滤色器126。与第一滤色器120一样,第三滤色器126也优选地被固化。如果必要,可以使用具有预定图案的开口部分的掩模来去除第一和第二滤色器120和123、第二和第三滤色器123和126以及第一和第三滤色器120和126间剩余的层。
如图6I所示,通过已知方法,黑矩阵130形成在第一和第二滤色器120和123、第二和第三滤色器123和126以及第一和第三滤色器120和126之间。
如图3所示,保护层140和公共电极150根据已知方法形成以完成具有双调滤色器的滤色器基板100。
在其它实施例中,在黑矩阵形成后形成滤色器。在这种情况下,每个模件10、20和30均可以具有额外的凹陷部分以容纳黑矩阵并维持黑矩阵的形状。
此后,参照图7A至7I,将描述利用用于显示装置的模件30a来形成带有红、绿和蓝滤色器的双调滤色器的方法。
如图7A所示,用于显示装置的模件30a包括图案形成部分32a、32b和32c,它们重复地形成在支承框架31的第一侧且彼此以预定间隙隔开。图案形成部分32a、32b和32c包括凹陷到深度h1的第一区域33a、33b和33c、及分别具有阶梯形状且凹陷到深于第一区域33a、33b和33c的深度h2的第二区域34a、34b和34c。图案形成部分32a、32b和32c之间的间隙包括有机层去除部分36。具有开口部分39的光阻挡膜38形成在支承框架31的背面上,对应于图案形成部分32a、32b和32c之一。
如图7A所示,第一滤色器层120a形成在第一绝缘基板110上。第一滤色器层120a包括具有红、绿和蓝色之一的颜色的感光材料。在第一绝缘基板110上布置用于显示装置的模件30a。
如图7B所示,向第一绝缘基板110压用于显示装置的模件30a以形成对应于图案形成部分32a、32b和32c的第一滤色器120。将对应于开口部分39的第一滤色器120曝光,然后将其固化。
如图7C所示,将用于显示装置的模件30a与第一绝缘基板110分开并去除没有被固化的第一滤色器120以完成具有对应于第一区域33a的第一反射器121和对应于第二区域34a的第一透射部分122的第一滤色器120。
如图7D所示,第二滤色器层123a形成在具有第一滤色器120的第一绝缘基板110上,且之后在第一绝缘层110上移动并布置用于显示装置的模件30a以使邻近开口部分39的图案形成部分32c对应于第一滤色器120。例如,当对应于开口部分39的图案形成部分包括第一图案形成部分32a,且当开口部分38右侧的图案形成部分包括第二和第三图案形成部分32b和32c时,在第一绝缘层110上移动并布置用于显示装置的模件30a以使第三图案形成部分32c对应于第一滤色器120。
如图7E所示,向第一绝缘层110上压用于显示装置的模件30a以形成对应于图案形成部分32a、32b的第二滤色器123。将对应于开口部分39的第二滤色器123曝光并然后将其固化。
如图7F所示,将用于显示装置的模件30a与第一绝缘基板110分开并去除没有被固化的第二滤色器123以完成具有对应于第一区域33a的第二反射器124和对应于第二区域34a的第二透射部分125的第二滤色器123。在该下一工序中通过第三图案形成部分32c维持第一滤色器120的形状。
如图7G所示,第三滤色器层126a形成在具有第一和第二滤色器120和123的第一绝缘基板110上,且之后在第一绝缘层110上移动并布置用于显示装置的模件30a以使邻近开口部分39的图案形成部分32b和32c对应于第一和第二滤色器120和123。
如图7H所示,向第一绝缘层110上压用于显示装置的模件30a以形成对应于图案形成部分32c的第三滤色器126。将对应于开口部分39的第三滤色器126曝光并然后将其固化。
如图7I所示,将用于显示装置的模件30a与第一绝缘基板110分开以完成具有对应于第一区域33a的第三反射器127和对应于第二区域34a的第三透射部分128的第三滤色器126。在该下一工序中通过第二和第三图案形成部分32b和32c维持第一和第二滤色器120和123的形状。
如果必要可以去除可能存留在没有第一至第三滤色器120、123和126形成的区域上的滤色器。
根据上述方法,可以通过用于显示装置的模件制造双调滤色器,而无须应用光刻。此外,滤色器的形状可以更加准确并且其合格率也会增加。
在其它实施例中,在形成黑矩阵之后形成滤色器。在这种情况下,用于显示装置的模件30a可以具有额外的凹陷部分以容纳黑矩阵并维持黑矩阵的形状。
此后,将描述一种制造薄膜晶体管基板200的方法,其利用用于显示装置的模件40,该模件40具有多个阶梯。
使用用于显示装置的模件40(结合图8D)来获得具有不同深度的感光层并减少在制造薄膜晶体管时所用掩模的数量。如图8D所示,用于显示装置的模件40包括:图案形成部分42,该图案形成部分包括凹陷到预定深度h1的第一区域43;及成对提供的第二区域44,第一区域43插在其间。凹陷的第二区域44的深度h2深于第一区域43。在支承框架41的第一侧提供图案形成部分42。在图案形成部分42的周围提供有机层去除部分46以除去除了形成图案的区域以外的区域。槽48以预定的间隙与图案形成部分42分开。槽48的深度h3基本等于第二区域44的深度h2。
如图8A所示,栅金属层在第二绝缘基板210上沉积并图案化以形成栅极线221(参照图2)、栅极电极223和栅垫(未示出)。
如图8B所示,形成栅绝缘层230、半导体层245、欧姆接触层255和数据金属层265。
如图8C所示,感光材料层295形成在数据金属层265上。
如图8D所示,在第二绝缘基板210上布置用于显示装置的模件40。更具体地,在第二绝缘基板210上布置用于显示装置的模件40以使第一区域43和槽48分别对应于栅极电极223和与栅极线221相交的数据线261。
之后,向第二绝缘基板210压用于显示装置的模件40以形成感光层290,该感光层包括对应于第一区域43的第一部分291和对应于第二区域44的第二部分292。感光层290还包括对应于槽48的第三部分293。
感光层290的第一部分291的深度h4小于第三部分293的深度h6,数据线261形成在该第三部分上。第二和第三部分292和293的深度h5和h6彼此基本相等。
感光层290除了对应于图案形成部分42和槽48的区域以外的区域被除去。可以根据蚀刻工序(稍后描述)中的处理条件设定第一部分291的深度h4与第二和第三部分292和293的深度h5和h6之间的比率。优选地,第一部分291的深度h4为第二和第三部分292和293的深度h5和h6的一半。例如,第一部分291的深度h4为或更少。
蚀刻感光层290、数据金属层265、欧姆接触层255和半导体层245。这里,数据金属层265、欧姆接触层255和半导体层245保留在第二和第三部分292和293之下。半导体层240(参照图3)独自保留在第一部分291之下。从没有感光层290形成的区域上除去数据金属层265、欧姆接触层255和半导体层245,从而暴露栅绝缘层230。
如图8F所示,从没有感光层290形成的区域上除去数据金属层265,以暴露欧姆接触层255。之后,从没有感光层290形成的区域上除去数据金属层265,从而曝光欧姆接触层255。剩余的数据金属层265与数据布线261、262和263相同,除了源极电极和漏极电极262和263是;连接的以外。如图8G所示,通过干蚀刻法,同时将暴露的欧姆接触层255和半导体层245与感光层290的第一部分291一起除去。如图8G所示,去除感光层290的第一部分291从而暴露数据金属层265。从没有感光层290形成的区域上除去欧姆接触层255和半导体层245,从而暴露栅绝缘层230。同时,也蚀刻感光层290的第三部分293并减小其厚度。
通过灰化(ashing)去除数据金属层265上感光层290的任何剩余部分。
如图8H所示,蚀刻并去除设置在第二部分292之间的数据金属层265和欧姆接触层255。
之后,如图8H所示,形成关于栅极电极223彼此分隔的源极电极262、漏极电极263和欧姆接触层250。半导体层240的一部分也被去除从而减小了其厚度。
在去除剩余的感光层290之后(参照图8H),钝化层270形成在欧姆接触层250、源极电极262和漏极电极263上(参照图8I)。接触孔271形成在钝化层270上以暴露漏极电极263。钝化层270可以包括具有有机材料的有机绝缘层、硅氮化物、a-Si:C:O或a-Si:C:F。
不平钽图案275通过已知的制造半透射型LCD装置的方法形成在钝化层270上。反射层298形成在像素电极280的一部份上以完成可适用于半透射型LCD装置的薄膜晶体管基板200。
如上所述,本发明提供了一种具有简化的制造工艺的显示装置的制造方法以及一种用于显示装置的模件。
虽然以上展示并描述了几个本发明的实施例,但本领域的技术人员都知道,所有不脱离本发明附加权利要求或其等效方案范围的多种改进和修改都是可以做出的。
Claims (20)
1、一种用于显示装置的模件,包括:
支承框架,该支承框架在其第一侧具有重复形成的第一、第二和第三凹陷的图案形成部分以及形成在所述第一、第二和第三凹陷的图案形成部分周围的有机层去除部分;及
光阻挡膜,具有对应于所述第一、第二和第三凹陷的图案形成部分之一的开口部分且形成在所述支承框架的第一和第二侧之一上,
所述第一、第二和第三凹陷的图案形成部分具有不同深度的第一和第二凹陷。
2、根据权利要求1的模件,其中所述第一、第二和第三凹陷的图案形成部分具有阶梯形状。
3、根据权利要求1的模件,其中所述第一、第二和第三凹陷的图案形成部分彼此之间以预定距离隔开。
4、根据权利要求1的模件,其中沿所述第一凹陷的周边设置所述第二凹陷。
5、一种用于显示装置的模件,包括:
支承框架,该支承框架在其第一侧具有至少一个凹陷的图案形成部分和在该凹陷的图案形成部分周围形成的有机层去除部分,
其中,所述凹陷的图案形成部分具有不同深度的第一和第二凹陷,
所述第二凹陷深于所述第一凹陷,且
所述第二凹陷成对设置,所述第一凹陷置于所述第二凹陷之间。
6、一种用于制造显示装置的方法,包括:
在绝缘基板上形成第一滤色器层;
将所述绝缘基板和第一模件合到一起从而形成第一滤色器;
在该绝缘基板上形成第二滤色器层;
将该绝缘基板和第二模件合到一起从而形成第二滤色器;
在该绝缘基板上形成第三滤色器层;及
将该绝缘基板和第三模件合到一起从而形成第三滤色器,
其中,
每个第一、第二和第三模件包括支承框架,该支承框架在其第一侧具有凹陷的图案形成部分以及形成在所述凹陷的图案形成部分周围的有机层去除部分,
所述凹陷的图案形成部分具有不同深度的第一和第二凹陷,
所述第一模件包括重复形成的第一凹陷的图案形成部分,
所述第二模件包括彼此相邻且重复形成的所述第一凹陷的图案形成部分和第二凹陷的图案形成部分,且
所述第三模件包括重复形成的所述第一凹陷的图案形成部分、所述第二凹陷的图案形成部分和第三凹陷的图案形成部分。
7、根据权利要求6的方法,还包括:
在形成所述第一滤色器后且在形成所述第二滤色器层前固化所述第一滤色器。
8、根据权利要求7的方法,还包括:
在形成所述第二滤色器层后,布置该第二模件使得该第二模件的所述第一凹陷的图案形成部分对应于所述第一滤色器。
9、根据权利要求8的方法,还包括:
在形成所述第二滤色器后且在形成所述第三滤色器层前固化所述第二滤色器。
10、根据权利要求9的方法,还包括:
在形成所述第三滤色器层后,布置该第三模件使得该第三模件的所述第一和第二凹陷的图案形成部分对应于所述第一和第二滤色器。
11、根据权利要求10的方法,还包括:
在形成所述第三滤色器后固化所述第三滤色器。
12、根据权利要求11的方法,还包括:
去除所述第一和第二滤色器之间、所述第二和第三滤色器之间以及所述第一和第三滤色器之间的层。
13、根据权利要求6的方法,还包括:
在所述第一和第二滤色器之间、所述第二和第三滤色器之间以及所述第一和第三滤色器之间形成黑矩阵。
14、一种用于制造显示装置的方法,包括:
提供一种包括支承框架的模件,该支承框架在其第一侧具有重复形成的第一、第二和第三凹陷的图案形成部分、以及形成在所述凹陷的图案形成部分周围的有机层去除部分;且具有对应于所述第一凹陷的图案形成部分的开口部分的光阻挡膜形成在所述支承框架的第一和第二侧之一上,所述第一、第二和第三凹陷的图案形成部分具有不同深度的第一和第二凹陷;
在绝缘基板上形成第一滤色器层;
将所述模件和所述绝缘基板压在一起从而形成对应于所述第一凹陷的图案形成部分的第一滤色器;
在所述模件和所述绝缘基板压在一起时经所述开口曝光所述第一滤色器;
在所述绝缘基板上形成第二滤色器层;
布置所述模件和所述绝缘基板,以使所述第一滤色器对应于所述第二和第三凹陷的图案形成部分中的一个;
将所述模件和所述绝缘基板压在一起从而形成对应于所述第一凹陷的图案形成部分的第二滤色器;
在所述模件和所述绝缘基板压在一起时经所述开口曝光所述第二滤色器;
在所述绝缘基板上形成第三滤色器层;
布置所述模件和所述绝缘基板,以使所述第一滤色器对应于所述第二和第三凹陷的图案形成部分中的一个并使所述第二滤色器对应于第二和第三凹陷的图案形成部分中的另一个;及
将所述模件和所述绝缘基板压在一起从而形成对应于所述第一凹陷的图案形成部分的第三滤色器;及
在所述模件和所述绝缘基板压在一起时经所述开口曝光所述第三滤色器。
15、根据权利要求14的方法,还包括:
从所述绝缘基板上除去所述滤色器层的任何未曝光和未固化的部分。
16、根据权利要求14的方法,还包括:
在所述第一和第二滤色器之间、所述第二和第三滤色器之间以及所述第一和第三滤色器之间形成黑矩阵。
17、一种用于制造显示装置的方法,包括:
提供包括支承框架的模件,该支承框架在其第一侧具有至少一个凹陷的图案形成部分和形成在所述凹陷的图案形成部分周围的有机层去除部分,其中所述凹陷的图案形成部分具有不同深度的第一和第二凹陷,所述第二凹陷深于所述第一凹陷且所述第二凹陷成对设置,所述第一凹陷位于所述第二凹陷之间;
在绝缘基板上形成具有栅极电极的栅极布线;
依序在所述栅极布线上沉积栅极绝缘层、半导体层、欧姆接触层和数据金属层;
在所述数据金属层上形成感光材料层;
将所述模件布置并压在所述感光材料层上从而形成具有对应于第一凹陷的第一部分和对应于第二凹陷的第二部分的感光层;及
通过利用所述感光层的蚀刻法形成薄膜晶体管。
18、根据权利要求17的方法,其中所述模件还包括形成在所述支承框架的所述第一侧的槽,且栅极布线包括按预定方向延伸的栅极线,且所述栅极线对应于所述槽。
19、根据权利要求18的方法,其中所述槽基本上具有与所述第二凹陷相同的深度。
20、根据权利要求17的方法,其中所述第一部分对应于所述栅极电极。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR17828/06 | 2006-02-23 | ||
KR1020060017828A KR20070087431A (ko) | 2006-02-23 | 2006-02-23 | 표시장치용 몰드와 이를 이용한 표시장치의 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101101384A CN101101384A (zh) | 2008-01-09 |
CN100552499C true CN100552499C (zh) | 2009-10-21 |
Family
ID=38428727
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB200710137902XA Active CN100552499C (zh) | 2006-02-23 | 2007-02-25 | 用于显示装置的模件及制造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8076171B2 (zh) |
JP (1) | JP2007226237A (zh) |
KR (1) | KR20070087431A (zh) |
CN (1) | CN100552499C (zh) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101675843B1 (ko) * | 2010-05-04 | 2016-11-30 | 엘지디스플레이 주식회사 | 평판 표시 소자 및 그 제조 방법 |
KR101748842B1 (ko) * | 2010-08-24 | 2017-06-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조방법 |
CN104681743B (zh) * | 2013-11-29 | 2017-02-15 | 清华大学 | 有机发光二极管的制备方法 |
CN107490892A (zh) * | 2017-05-27 | 2017-12-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩膜基板、液晶显示面板以及液晶显示器 |
CN107145006B (zh) * | 2017-06-20 | 2020-10-02 | 惠科股份有限公司 | 阵列基板及显示面板 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10260413A (ja) * | 1997-03-19 | 1998-09-29 | Toshiba Corp | 液晶表示素子の製造方法 |
US6190929B1 (en) * | 1999-07-23 | 2001-02-20 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming semiconductor devices and methods of forming field emission displays |
JP2002357713A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Toppan Printing Co Ltd | 転写法によるカラーフィルタの製造方法及びそれに用いる色材層加圧粘着転写部材 |
US20030170423A1 (en) * | 2002-01-25 | 2003-09-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of producing pattern member, apparatus of producing pattern member, and pattern member |
WO2004046794A2 (en) * | 2002-11-14 | 2004-06-03 | Surface Logix, Inc. | A soft lithographic process for fabricating integrated ito electrode-liquid crystal alignment layers |
JP2004184977A (ja) | 2002-11-22 | 2004-07-02 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタ及びその製造方法及び表示装置並びに電子機器 |
JP4300853B2 (ja) * | 2003-04-16 | 2009-07-22 | 東レ株式会社 | 液晶表示装置用カラーフィルターおよび液晶表示装置 |
KR100571430B1 (ko) | 2003-06-24 | 2006-04-14 | 학교법인 한양학원 | 잉크 경화식 인쇄 방법 및 이를 이용하여 제작된 컬러 필터 |
TW594423B (en) | 2003-08-28 | 2004-06-21 | Ind Tech Res Inst | A color filter manufacturing method for a plastic substrate |
JP4196912B2 (ja) * | 2004-01-07 | 2008-12-17 | セイコーエプソン株式会社 | 電気泳動表示装置の製造方法 |
KR101024650B1 (ko) * | 2004-04-13 | 2011-03-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시패널 및 그 제조방법 |
US7785504B2 (en) * | 2004-11-11 | 2010-08-31 | Lg Display Co., Ltd. | Thin film patterning apparatus and method of fabricating color filter array substrate using the same |
US7438947B2 (en) * | 2004-11-30 | 2008-10-21 | Tpo Displays Corp. | Color filter process |
JP4966199B2 (ja) * | 2005-09-20 | 2012-07-04 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | Led光源 |
-
2006
- 2006-02-23 KR KR1020060017828A patent/KR20070087431A/ko not_active Application Discontinuation
-
2007
- 2007-02-21 JP JP2007040183A patent/JP2007226237A/ja active Pending
- 2007-02-21 US US11/709,626 patent/US8076171B2/en active Active
- 2007-02-25 CN CNB200710137902XA patent/CN100552499C/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007226237A (ja) | 2007-09-06 |
US8076171B2 (en) | 2011-12-13 |
KR20070087431A (ko) | 2007-08-28 |
CN101101384A (zh) | 2008-01-09 |
US20070196940A1 (en) | 2007-08-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101197223B1 (ko) | 반사투과형 액정표시장치용 어레이 기판 및 그 제조방법 | |
KR101202983B1 (ko) | 반사투과형 액정표시장치용 어레이 기판 및 그 제조방법 | |
KR101190045B1 (ko) | 포토 마스크 및 이를 이용한 액정표시장치용 어레이 기판의제조 방법 | |
JP4564473B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
US8610127B2 (en) | Thin film transistor array substrate and manufacturing method thereof | |
KR20050014591A (ko) | 컬러필터기판 및 이를 갖는 액정표시장치 | |
CN100552499C (zh) | 用于显示装置的模件及制造方法 | |
KR101152142B1 (ko) | 액정표시장치의 제조방법 | |
JP4855285B2 (ja) | 表示装置用モールドと、これを利用した表示装置の製造方法 | |
KR100646790B1 (ko) | 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법 | |
KR100930921B1 (ko) | 반사투과형 액정표시장치용 어레이 기판 및 그 제조방법 | |
KR101215943B1 (ko) | 액정표시장치용 어레이 기판 및 그 제조방법 | |
KR100995581B1 (ko) | 컬러필터기판, 이를 갖는 액정표시장치 및 이의 제조방법 | |
KR20070075159A (ko) | 표시장치 및 그 제조방법 | |
KR101022291B1 (ko) | 어레이 기판, 그 제조방법 및 이를 갖는 액정 표시 장치 | |
KR20090036258A (ko) | 액정표시장치 및 이의 제조 방법 | |
KR100806890B1 (ko) | 박막 트랜지스터 기판 및 그의 제조 방법 | |
KR100993831B1 (ko) | 상부기판, 이를 갖는 액정표시장치 및 이의 제조 방법 | |
KR20070027874A (ko) | 박막트랜지스터 기판의 제조방법 | |
KR101385244B1 (ko) | 액정표시장치용 어레이 기판 및 이의 제조 방법 | |
KR20030025516A (ko) | 반사형 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판 및 그제조 방법 | |
KR20070054015A (ko) | 액정 표시 장치의 제조 방법 | |
KR20070072277A (ko) | 액정표시소자 제조방법 | |
KR20060055014A (ko) | 어레이 기판, 이를 갖는 표시장치 및 이의 제조방법 | |
KR20020029240A (ko) | 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
ASS | Succession or assignment of patent right |
Owner name: SAMSUNG DISPLAY CO., LTD. Free format text: FORMER OWNER: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. Effective date: 20121107 |
|
C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20121107 Address after: Gyeonggi Do, South Korea Patentee after: Samsung Display Co., Ltd. Address before: Gyeonggi Do, South Korea Patentee before: Samsung Electronics Co., Ltd. |