KR20070054015A - 액정 표시 장치의 제조 방법 - Google Patents

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KR20070054015A KR1020050111962A KR20050111962A KR20070054015A KR 20070054015 A KR20070054015 A KR 20070054015A KR 1020050111962 A KR1020050111962 A KR 1020050111962A KR 20050111962 A KR20050111962 A KR 20050111962A KR 20070054015 A KR20070054015 A KR 20070054015A
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Abstract

본 발명은 액정 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은 게이트 패드와 데이터 패드 상에 각각 제1 콘택홀 및 제2 콘택홀을 형성하는 것을 포함한다. 제2 콘택홀이 형성되기 전에 데이터 패드 상에 유기막의 잔존막이 형성되고, 게이트 절연막이 식각되어 제1 콘택홀이 형성될 때, 잔존막도 함께 식각되어 제2 콘택홀이 형성된다. 본 발명에 의하면, 액정 표시 장치의 신뢰성이 향상되고, 제조 공정이 간단해진다.
액정 표시 장치, 포토 마스크, 반투광부, 게이트 패드, 데이터 패드

Description

액정 표시 장치의 제조 방법{METHOD FOR FABRICATING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}
도 1a 및 도 1b는 종래 기술에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 것으로 게이트 패드 영역과 데이터 패드 영역의 단면도들이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 액정 표시 장치의 배치도(layout)이다.
도 3a 내지 도 3d는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 것으로, 도 2의 A-A'라인과 B-B'라인을 따라 취해진 단면도들이다.
도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 것으로, 도 2의 A-A'라인과 B-B'라인을 따라 취해진 단면도들이다.
♧ 도면의 주요부분에 대한 참조부호의 설명 ♧
110 : 기판 120 : 게이트 절연막
125 : 게이트 패드 135 : 데이터 패드
140 : 유기막 145 : 잔존막
150 : 투명도전막 패턴
본 발명은 평판 표시 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 액정 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명은 평판 표시 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 액정 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
일반적으로 평판 표시 장치(FPD:flat panel display)란 두께가 얇고 평평한 화면을 제공하는 표시 장치로, 대표적으로 노트북 컴퓨터 모니터로 널리 쓰이는 액정 표시 장치(LCD:liquid crystal display device), 대형 디지털 텔레비전으로 사용되는 플라즈마 디스플레이(PDP:plasma display panel), 또는 휴대전화에 사용되는 유기 전계발광 디스플레이(OELD:organic electroluminescent display) 등이 있다.
액정 표시 장치는 인가 전압에 따라 액체와 결정의 중간 상태 물질인 액정(liquid crystal)의 광투과도가 변화하는 특성을 이용하여, 전기 신호를 시각 정보로 변화시켜 영상을 표시한다. 통상의 액정 표시 장치는 전극이 구비된 두 개의 기판과 두 기판 사이에 개재된 액정층으로 구성된다. 이와 같은 액정 표시 장치는 동일한 화면 크기를 갖는 다른 표시 장치에 비하여 무게가 가볍고 부피가 작으며 작은 전력으로 동작한다.
일반적으로 이러한 액정 표시 장치의 두 기판은 박막 트랜지스터와 화소 전 극이 형성된 박막 트랜지스터 기판과, 컬러 필터와 공통 전극이 형성된 컬러 필터 기판으로 구분된다.
박막 트랜지스터 기판은 화상을 나타내는 최소 단위인 화소가 형성되는 다수의 화소 영역으로 이루어진다. 화소 영역은 서로 절연되게 교차하는 게이트 라인과 데이터 라인에 의해서 한정된다. 화소는 박막 트랜지스터 및 화소 전극으로 이루어진다. 박막 트랜지스터의 게이트 전극과 소오스 전극은 각각 게이트 라인과 데이터 라인에 전기적으로 연결되고, 드레인 전극은 화소 전극에 전기적으로 연결된다. 게이트 라인 및 데이터 라인은 구동회로부에서 인가된 신호를 전달한다. 게이트 라인 및 데이터 라인의 일단에는 접속 패드, 즉 게이트 패드 및 데이터 패드가 위치한다. 접속 패드 상에 절연막이 식각되어 콘택홀이 형성되고, 이 콘택홀을 통해 접속 패드와 전기적으로 연결되는 투명도전막 패턴이 형성된다. 그리고, 오엘비 패드(OLB:out lead pad)가 이 투명도전막 패턴과 접속함으로써, 게이트 라인 및 데이터 라인과 구동회로부가 전기적으로 연결된다.
도 1a 및 도 1b는 종래 기술에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 것으로 게이트 패드 영역과 데이터 패드 영역의 단면도들이다.
도 1a를 참조하면, 기판(10) 상에 게이트 패드(25)가 형성된다. 게이트 패드(25)는 알루미늄(21)과 몰리브덴(22)을 포함한다. 게이트 패드(25)가 형성된 기판(10)을 덮는 게이트 절연막(20)이 형성된다. 게이트 절연막(20) 상에 데이터 패드(35)가 형성된다. 데이터 패드(35)는 몰리브덴(31), 알루미늄(32), 및 몰리브덴(33)을 포함한다. 데이터 패드(35)가 형성된 기판(10)을 덮는 보호막(30)이 형성 된다. 보호막(30) 상에 유기막(40)이 형성된다.
도 1b를 참조하면, 기판(10) 상에 포토 마스크(80)가 배치된다. 포토 마스크(80)는 투광부(81)와 불투광부(86)를 포함한다. 유기막(40)에 대하여 사진 공정을 진행하여 게이트 패드(25)와 데이터 패드(35) 상에 보호막(30)을 노출시키는 제1 개구부(41)와 제2 개구부(42)가 형성된다.
도 1c를 참조하면, 유기막(40)을 식각 마스크로 사용하여 식각 공정을 진행하여 제1 콘택홀(46)과 제2 콘택홀(47)이 형성된다. 제1 콘택홀(46)을 형성하기 위해 게이트 절연막(20)이 식각될 때, 데이터 패드(35) 상부도 함께 식각될 수 있다. 따라서, 데이터 패드(35) 상부의 몰리브덴(33)이 식각되고, 알루미늄(32)이 노출된다.
도 1d를 참조하면, 제1 콘택홀(46)과 제2 콘택홀(47)에 삽입되어 게이트 패드(25)와 데이터 패드(35)와 접속하는 투명도전막 패턴(50)이 형성된다. 이때, 데이터 패드(35)에서는 투명도전막 패턴(50)이 알루미늄(32)과 접촉하게 된다.
통상 투명도전막 패턴은 인듐-아연-산화막(IZO:Indium-Zinc-Oxide)이나 인듐-주석-산화막(ITO:Indium-Tin-Oxide)으로 형성된다. 그런데, 투명도전막 패턴(50)이 알루미늄과 직접 접촉하면 접촉 부분에 일렉트로마이그레이션(electro migration)이나 갈바니 전기 부식(galvanic corrosion)이 발생할 수 있다. 이 경우 콘택이 제대로 되지 않아 액정 표시 장치의 신뢰성이 저하될 수 있다.
또한, 최근에 기판이 대형화됨에 따라 공정 단순화가 요구된다.
본 발명은 이상에서 언급한 상황을 고려하여 제안된 것으로, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 신뢰성이 향상된 액정 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 공정이 단순화된 액정 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것이다.
상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은 데이터 패드 상에 유기막의 잔존막을 형성하는 것을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은 표시 영역과 주변 영역을 포함하는 기판 상에 제1 방향으로 연장하되, 상기 주변 영역에 게이트용 구동부와 전기적으로 연결되는 게이트 패드를 갖는 게이트 라인을 형성하고, 상기 게이트 라인이 형성된 기판 상에 게이트 절연막을 형성하고, 상기 게이트 절연막 상에 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장하되, 상기 주변 영역에 데이터용 구동부와 전기적으로 연결되는 데이터 패드를 갖는 데이터 라인을 형성하고, 상기 데이터 라인이 형성된 기판 상에 유기막을 형성하고, 상기 게이트 패드 상부면을 노출시키는 제1 콘택홀과 상기 데이터 패드 상부면을 노출시키는 제2 콘택홀을 형성하는 것을 포함한다. 여기서, 상기 제1 콘택홀은 상기 게이트 패드 상에 위치하는 유기막의 일부를 제거하여 상기 게이트 절연막을 노출시키는 사진 공정과 상기 사진 공정에 의해 노출된 상기 게이트 절연막을 식각하는 식각 공정에 의해 형성되고, 상기 사진 공정이 진행될 때 상기 데이터 패드 상에 위치하는 유기막의 일부가 제거되어 상기 데이터 패드 상에 소정 두께의 유기막의 잔존막이 형성되고, 상기 식각 공정이 진행될 때 상기 잔존막이 제거되어 상기 제2 콘택홀이 형성된다.
본 발명에 의하면, 액정 표시 장치의 신뢰성이 향상되고, 제조 공정이 간단해진다.
이 실시예에서, 상기 사진 공정을 진행할 때 반투광부가 포함된 마스크를 사용하되, 상기 반투광부는 상기 잔존막이 형성되는 위치에 대응하는 위치에 배치될 수 있다.
이 실시예에서, 상기 유기막과 상기 게이트 절연막은 상호간에 식각 선택성을 갖는 물질로 형성되는 것이 바람직하다.
이 실시예에서, 상기 데이터 패드는 몰리브덴, 알루미늄, 및 몰리브덴이 차례로 적층되어 형성될 수 있다.
이 실시예에서, 상기 식각 공정은 산소 분위기에서 진행되는 애싱 공정을 포함할 수 있다.
본 발명에 의하면, 액정 표시 장치의 신뢰성이 향상되고, 제조 공정이 간단해진다.
이하에서는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다.
본 명세서의 실시예에서 제1, 제2 등의 용어가 콘택홀 등을 기술하기 위해서 사용되었지만, 콘택홀이 이 같은 용어들에 의해서 한정되어서는 안 된다. 이러한 용어들은 단지 어느 소정의 콘택홀을 다른 콘택홀과 구별시키기 위해서 사용되었을 뿐이다.
도면들에 있어서, 층(막) 또는 영역들의 두께 등은 명확성을 기하기 위하여 과장되게 표현될 수 있다. 또한, 층(막)이 다른 층(막) 또는 기판 상(위)에 있다고 언급되어지는 경우에 그것은 다른 층(막) 또는 기판 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제3의 층(막)이 개재될 수도 있다.
명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조부호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 액정 표시 장치의 배치도(layout)이다. 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치는 표시 영역(112)과 주변 영역(113)을 갖는 기판(110)을 포함한다. 표시 영역(112)은 외부로 영상이 표시되는 영역을 나타내며, 주변 영역(113)은 표시 영역(112)을 둘러싸는 영역을 나타낸다. 주변 영역(113)에서는 영상 을 표시하는데 필요한 각종 신호가 인가된다.
기판(110) 상에는 복수의 게이트 라인들(126)과 데이터 라인들(136)이 형성된다. 게이트 라인들(126)과 데이터 라인들(136)은 표시 영역(112)에서 상호 교차하며 이들이 교차하여 구분되는 각 영역은 화소에 해당한다. 각 화소에는 박막트랜지스터(T)와 이에 연결된 화소전극(P)이 구비된다. 박막트랜지스터(T)는 게이트 라인(126)이 연장된 게이트 전극(127)과 데이터 배선(136)이 연장된 소오스 전극(138) 및 소오스 전극(138)에 대향되게 형성되는 드레인 전극(139)을 포함한다. 드레인 전극(139)은 화소전극(P)과 전기적으로 연결된다.
위와 같은 구조를 갖는 액정표시장치의 동작은 다음과 같다. 게이트 라인(126)으로는 게이트 신호가 인가되며 데이터 라인(136)으로는 화상 정보에 따른 데이터 신호가 인가된다. 즉, 데이터 라인(136)을 흐르는 데이터 신호는 게이트 신호에 따라 턴온되는 박막트랜지스터(T)의 동작으로 화소전극(P)에 인가된다. 이때 도 2의 기판(110)과 마주보도록 별도의 기판(미도시)이 구비되는데, 별도의 기판에는 레퍼런스 전압이 인가되는 공통전극이 형성된다. 또한 화소전극(P)과 공통전극 사이에는 액정층이 형성되는데, 액정층에는 양 전극의 전압차에 의한 전계가 작용하고 그에 따라 액정의 배열이 변경되어 빛에 대한 투과율이 달라진다. 이때, 액정 표시 장치에 구비된 백라이트(미도시)에서 발생되어 기판(110)을 투과한 빛이 액정층을 통과하면서 외부에 영상을 표시하게 된다.
위와 같은 액정표시장치의 동작을 위해서는 게이트 신호와 데이터 신호를 발생하는 게이트 구동부(미도시) 및 데이터 구동부(미도시)가 필요하다. 또한 각 구동부에서 발생된 신호가 게이트 라인(126) 및 데이터 라인(136)에 인가되도록, 주변 영역(113)에서 게이트 라인(126)과 데이터 라인(136)의 일단에 접속 패드, 즉 게이트 패드(125)와 데이터 패드(135)가 형성되며, 접속 패드(126,136)의 상부로 신호가 전달되는 오엘비 패드(미도시)가 배치된다.
도 3a 내지 도 3d는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 것으로, 도 2의 A-A'라인과 B-B'라인을 따라 취해진 단면도들이다.
도 3a를 참조하면, 기판(110) 상에 게이트 패드(125)가 형성된다. 기판(110)은 유리와 같은 투명한 절연 물질로 형성될 수 있다. 게이트 패드(125)는 알루미늄(121)과 몰리브덴(122)의 적층 구조로 형성될 수 있다. 게이트 패드(125)가 형성된 기판(110)을 덮는 게이트 절연막(120)이 형성된다. 게이트 절연막(120)은 실리콘 질화물로 형성될 수 있다.
게이트 절연막(120) 상에 데이터 패드(135)가 형성된다. 데이터 패드(135)는 몰리브덴(131), 알루미늄(132), 및 몰리브덴(133)의 적층 구조로 형성될 수 있다. 데이터 패드(135)를 덮는 유기막(140)이 형성된다. 유기막(140)은 감광성 유기막으로, 약 3㎛ 정도의 두께로 형성될 수 있다. 감광성 유기막은 양성형(positive type)과 음성형(negative type)으로 구분될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서는 양성형 유기막이 사용된다. 유기막(140)은 박막 트랜지스터(미도시)를 보호할 뿐만 아니라, 데이터 라인(미도시)과 화소 전극(미도시) 간의 기생 용량 등을 감소시킨다. 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법에서는 데이터 패드(135)를 덮는 보호막을 형성하지 않을 수 있다. 따라서, 제조 공정이 간단해진다.
도 3b를 참조하면, 기판(110) 상에 포토 마스크(180)가 배치된다. 포토 마스크(180)는 투광부(181), 반투광부(183), 및 불투광부(186)를 포함한다. 반투광부(183)는 투광부(181)보다 빛의 투과량이 작은 부분으로 슬릿 패턴으로 형성될 수 있다. 포토 마스크(180)를 사용하여 유기막(140)에 대하여 사진 공정을 진행하여 제1 홀(141)과 제2 홀(142)이 형성된다. 제1 홀(141)은 포토 마스크(180)의 투광부(181)에 대응하는 위치에 형성되고, 제2 홀(142)은 반투광부(183)에 대응하는 위치에 형성된다. 양성형의 감광성 유기막(140)은 빛을 받은 부분이 제거되므로, 투광부(181)를 통해 빛을 많이 부분에서 형성되는 제1 홀(141)의 깊이(h1)가 반투광부(183)를 통해 빛을 적게 받은 부분에서 형성되는 제2 홀(142)의 깊이(h2)보다 크다. 또한, 제1 홀(141)에 의해 게이트 절연막(120)이 노출되지만, 제2 홀(142)에 의해서는 데이터 패드(135)가 노출되지 않고, 제2 홀(142) 아래에 유기막(140)의 잔존막(145)이 형성된다. 잔존막(145)의 두께는 d로서, 반투광부(183)를 통과하는 빛의 양에 의해 조절될 수 있다.
본 발명의 실시예와 달리 음성형 감광성 유기막이 사용되는 경우에는 빛을 받은 부분이 경화되므로 빛을 받지 않은 부분이 제거된다. 따라서, 포토 마스크(180)에서 투광부(181)와 불투광부(186)의 위치를 바꾸어서 사진 공정을 진행하면, 도 3b에 도시된 제1 홀(141) 및 제2 홀(142)이 형성될 수 있다.
도 3c를 참조하면, 제1 및 제2 홀(141,142)이 형성된 유기막(140)을 식각 마스크로 사용하여 게이트 절연막(120)이 식각되어 제1 콘택홀(146)이 형성된다. 이때, 잔존막(145)도 함께 식각될 수 있다. 게이트 절연막(120)이 잔존막(145)보다 두껍기 때문에, 유기막(140)과 게이트 절연막(120)은 상호간에 식각 선택성을 갖는 물질로 형성되는 것이 바람직하다. 제1 콘택홀(146)에 의해서 게이트 패드(125)가 노출된다. 이어서, 산소 분위기에서 애싱 공정이 진행될 수 있다. 애싱 공정에 의해 데이터 패드(135) 상에 남아 있는 잔존막(145)이 완전히 제거될 수 있고, 제2 콘택홀(147)이 형성된다. 제2 콘택홀(147)에 의해 데이터 패드(135)가 노출된다.
종래 기술에서는 게이트 절연막(120)이 식각될 때, 데이터 패드(135) 상부가 함께 식각되었지만, 본 발명에 따른 실시예에서는 데이터 패드(135) 상부가 식각되지 않는다. 따라서, 제2 콘택홀(147)에 의해 데이터 패드(135) 상부의 몰리브덴(133)이 노출된다.
도 3d를 참조하면, 제1 콘택홀(146) 및 제2 콘택홀(147)에 삽입되어 게이트 패드(125)와 데이터 패드(135)와 접촉하는 투명도전막 패턴(150)이 형성된다. 투명도전막 패턴(150)은 표시 영역에 화소 전극(미도시)이 형성될 때, 같이 패터닝됨으로써 형성될 수 있다. 따라서, 투명도전막 패턴(150)은 인듐-아연-산화막(IZO: Indium-Zinc-Oxide)이나 인듐-주석-산화막(ITO:Indium-Tin-Oxide)으로 형성될 수 있다.
본 발명에 따른 실시예에서는 투명도전막 패턴(150)이 데이터 패드(135)의 알루미늄(132)과 접촉하지 않는다. 따라서, 종래에 문제되었던 일렉트로마이그레 이션이나 갈바니 전기 부식이 발생하지 않아 액정 표시 장치의 신뢰성이 향상된다.
도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 설명하기 위한 것으로, 도 2의 A-A'라인과 B-B'라인을 따라 취해진 단면도들이다. 전술한 실시예의 도 3a에서 언급된 부분은 본 실시예에서도 동일하게 적용될 수 있으므로, 이하에서는 그 이후의 공정에 대해서만 설명된다.
도 4a를 참조하면, 기판(110) 상에 포토 마스크(280)가 배치된다. 포토 마스크(280)는 투광부(281), 제1 반투광부(283), 제2 반투광부(284), 및 불투광부(286)를 포함한다. 제1 및 제2 반투광부(283,284)는 투광부(281)보다 빛의 투과량이 작은 부분으로 슬릿 패턴으로 형성될 수 있다. 제2 반투광부(284)보다 제1 반투광부(283)에서 빛의 투과량이 더 많다. 예컨대, 제1 및 제2 반투광부(283,284)에서 투과량의 조절은 슬릿 패턴의 간격에 의해 조절될 수 있다.
유기막(140)에 대하여 사진 공정을 진행하여 제1 홀(141)과 제2 홀(142)이 형성된다. 포토 마스크(280)에서 투광부(281)와 제1 반투광부(283) 양측에 제2 반투광부(284)가 배치되기 때문에, 제1 홀(141)과 제2 홀(142)은 그 상부의 폭과 하부의 폭이 다르다. 즉, 상부의 폭이 하부의 폭보다 넓게 형성된다.
또한, 전술한 실시예와 동일하게 제1 홀(141)에 의해 게이트 절연막(120)이 노출되지만, 제2 홀(142)에 의해서는 데이터 패드(135)가 노출되지 않고, 제2 홀(142) 아래에 유기막(140)의 잔존막(145)이 형성된다.
도 4b를 참조하면, 제1 및 제2 홀(141,142)이 형성된 유기막(140)을 식각 마스크로 사용하여 게이트 절연막(120)이 식각되어 제1 콘택홀(146)이 형성된다. 이 때, 잔존막(145)도 함께 식각될 수 있다. 이어서, 애싱 공정에 의해 데이터 패드(135) 상에 남아 있는 잔존막(145)이 완전히 제거될 수 있고, 제2 콘택홀(147)이 형성된다.
도 4c를 참조하면, 제1 콘택홀(146) 및 제2 콘택홀(147)에 삽입되어 게이트 패드(125)와 데이터 패드(135)와 접촉하는 투명도전막 패턴(150)이 형성된다. 투명도전막 패턴(150)은 표시 영역에 화소 전극(미도시)이 형성될 때, 같이 패터닝됨으로써 형성될 수 있다.
본 실시예에서는 포토 마스크(280)에 제2 반투광부(184)가 배치되어 제1 콘택홀(146)과 제2 콘택홀(147)이 계단형태로 형성된다. 따라서, 투명도전막 패턴(150)이 보다 안정되게 형성될 수 있다.
한편, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관하여 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다.
그러므로, 본 발명의 범위는 상술한 실시예에 국한되어 정해져서는 안되며 후술하는 특허청구범위 뿐만 아니라 이 발명의 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
상술한 본 발명에 의하면, 데이터 패드와 데이터용 구동부를 전기적으로 연결시켜주는 투명도전막 패턴과 접촉 면적이 넓어져서, 데이터용 구동부로부터 데이 터 라인으로 데이터 신호가 안정적으로 전달될 수 있다. 또한, 데이터 패드를 구성하는 알루미늄과 투명도전막 패턴이 접촉할 염려가 없어 알루미늄과 투명도전막 패턴이 직접 접촉하는 경우에 발생할 수 있는 부식 등을 방지할 수 있어 장치의 신뢰성이 향상되고, 액정 표시 장치의 수명이 연장될 수 있다.
데이터 패드를 덮는 보호막을 형성하는 공정을 생략할 수 있으므로 액정 표시 장치의 제조 공정이 간단해진다. 이에 의해, 생산 비용이 감소하고 수율이 증대하는 등 생산성이 향상된다.

Claims (5)

  1. 표시 영역과 주변 영역을 포함하는 기판 상에 제1 방향으로 연장하되, 상기 주변 영역에 게이트 구동부와 전기적으로 연결되는 게이트 패드를 갖는 게이트 라인을 형성하고;
    상기 게이트 라인이 형성된 기판 상에 게이트 절연막을 형성하고;
    상기 게이트 절연막 상에 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장하되, 상기 주변 영역에 데이터 구동부와 전기적으로 연결되는 데이터 패드를 갖는 데이터 라인을 형성하고;
    상기 데이터 라인이 형성된 기판 상에 유기막을 형성하고;
    상기 게이트 패드 상부면을 노출시키는 제1 콘택홀과 상기 데이터 패드 상부면을 노출시키는 제2 콘택홀을 형성하는 것을 포함하되,
    상기 제1 콘택홀은 상기 게이트 패드 상에 위치하는 유기막의 일부를 제거하여 상기 게이트 절연막을 노출시키는 사진 공정과 상기 사진 공정에 의해 노출된 상기 게이트 절연막을 식각하는 식각 공정에 의해 형성되고,
    상기 사진 공정이 진행될 때 상기 데이터 패드 상에 위치하는 유기막의 일부가 제거되어 상기 데이터 패드 상에 소정 두께의 유기막의 잔존막이 형성되고, 상기 식각 공정이 진행될 때 상기 잔존막이 제거되어 상기 제2 콘택홀이 형성되는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 사진 공정을 진행할 때 반투광부가 포함된 마스크를 사용하되,
    상기 반투광부는 상기 잔존막이 형성되는 위치에 대응하는 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 유기막과 상기 게이트 절연막은 상호간에 식각 선택성을 갖는 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 데이터 패드는 몰리브덴, 알루미늄, 및 몰리브덴이 차례로 적층되어 형성되는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 식각 공정은 산소 분위기에서 진행되는 애싱 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치의 제조 방법.
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