JP2006347842A - 超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置 - Google Patents

超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2006347842A
JP2006347842A JP2005178701A JP2005178701A JP2006347842A JP 2006347842 A JP2006347842 A JP 2006347842A JP 2005178701 A JP2005178701 A JP 2005178701A JP 2005178701 A JP2005178701 A JP 2005178701A JP 2006347842 A JP2006347842 A JP 2006347842A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carbon dioxide
dioxide gas
liquefied carbon
gas
filling
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005178701A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4724477B2 (ja
Inventor
Takafumi Nido
孝文 二藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Gas Products Co Ltd
Original Assignee
Showa Tansan Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Tansan Co Ltd filed Critical Showa Tansan Co Ltd
Priority to JP2005178701A priority Critical patent/JP4724477B2/ja
Publication of JP2006347842A publication Critical patent/JP2006347842A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4724477B2 publication Critical patent/JP4724477B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02CCAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
    • Y02C20/00Capture or disposal of greenhouse gases
    • Y02C20/40Capture or disposal of greenhouse gases of CO2

Landscapes

  • Separation By Low-Temperature Treatments (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)

Abstract

【課題】高純度液化炭酸ガスを原料として用いて、液体状で気化器に導入し、そこから気相部より気体状の炭酸ガスを取り出すことにより、供給液化炭酸ガス中の固体物質、溶解性物質等の多くの不純物は液相部に残留させて、不純物の少ない気体炭酸ガスにして、超高純度液化炭酸ガスの精製充填を行なうことのできる超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置を得る。
【解決手段】原料容器2からの炭酸ガスを精留塔7へ供給して、該精留塔で超高純度の精製液化炭酸ガスを精製して充填容器11に充填する超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置において、原料容器からの炭酸ガスを精留塔へ供給する供給通路8に、該原料容器からの液化炭酸ガスを、容器の気相部から気体状の炭酸ガスを取り出し精留塔へ供給できる気化器3を介装して超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置を構成している。
【選択図】 図1

Description

本発明は99.9999vol.%以上の超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置に関する。
ガス精製・高純度化に関する技術は、炭酸ガスに限らず、多くの技術がこれまでに報告されている。特に、炭酸ガスに限っては石油精製プロセスから発生するガスを回収し、精製するような一般的に知られているものから、用途を明確にした、例えば、半導体プロセスのような高純度精製法まで、その精製技術は目的に応じ、多岐にわたる。
これまでに超高純度液化炭酸ガスの精製・製造方法では、吸着方法、除去方法、蒸留方法、吸収方法を用いることにより、品質レベルを向上させる技術が多く紹介されている。
昨今の急激な半導体市場の成長に伴い、超高純度液化炭酸ガスを用いた光学部品、マイクロデバイスなどの精密洗浄、超臨界炭酸ガスを用いた半導体ウエハー洗浄およびその乾燥など、超高純度液化炭酸ガスに求められる品質要求ならびにその用途、需要は多くなってきている。
現状、市販されている最高グレードの炭酸ガスは、純度99.999vol.%程度であり、必ずしも半導体プロセス用途を目的としてのものではなく、微細かつ精密なこれらプロセスの管理には、現行以上の更なる精製レベルを高めた製造技術と共に、プロセス管理、供給方法、容器充填技術、分析技術が求められるところである。
これまで、半導体対応の炭酸ガス精製技術の紹介はあるが、上記にあげた純度以上に、水分、油分(不揮発性炭化水素)、パーティクル管理までを盛り込んだ製法、管理、容器充填技術の公知技術は知られていない。
特開平6−263421 特開2004−35346 特開2001−180924
本発明は以上のような点に鑑み、高純度液化炭酸ガスを原料として用いて、液体状で気化器に導入し、そこから気相部より気体状の炭酸ガスを取り出すことにより、供給液化炭酸ガス中の固体物質、溶解性物質等の多くの不純物は液相部に残留させて、不純物の少ない気体状の炭酸ガスにして、超高純度液化炭酸ガスの精製充填を行なうことのできる超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置を提供することを目的としている。
また、本発明は気体の性状に於いて吸着させることにより、水分除去および油分等の有機物除去・脱臭を行ない、その後、精密フィルターを用いてサブミクロンオーダーでのパーティクル除去を行なうとともに、精留塔でイナートガスを排出させながら精製・液化させることにより、効率良く且つ、簡易的に超高純度液化炭酸ガスの精製充填を行なうことのできる超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置を提供することを目的としている。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は次の説明を添付図面と照らし合わせて読むと、より完全に明らかになるであろう。
ただし、図面はもっぱら解説のためのものであって、本発明の技術的範囲を限定するものではない。
上記目的を達成するために、本発明は原料容器からの炭酸ガスを精留塔へ供給して、該精留塔で超高純度の精製液化炭酸ガスを精製して充填容器に充填する超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置において、前記原料容器からの炭酸ガスを精留塔へ供給する供給通路に該原料容器からの液化炭酸ガスを、容器の気相部から気体状の炭酸ガスを取り出し、前記精留塔へ供給できる気化器を介装して超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置を構成している。
また、本発明は原料容器からの炭酸ガスを精留塔へ供給して、該精留塔で超高純度の精製液化炭酸ガスを精製して充填容器に充填する超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置において、前記原料容器からの炭酸ガスを精留塔へ供給する供給通路に、該原料容器からの液化炭酸ガスを、容器の気相部から気体状の炭酸ガスを取り出し、前記精留塔へ供給できるように介装した気化器と、この気化器の下流の前記供給通路に介装された気体状の炭酸ガス中の水分除去を行う除湿装置、気体状の炭酸ガス中に溶解している微量油分等の有機物除去や脱臭を行う活性炭塔およびサブミクロンオーダーでのパーティクル除去を行なう精密フィルターとを用いして超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置を構成している。
さらに、本発明は原料容器からの炭酸ガスを精留塔へ供給して、該精留塔で超高純度の精製液化炭酸ガスを精製して充填容器に充填する超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置において、前記原料容器からの炭酸ガスを精留塔へ供給する供給通路に、該原料容器からの液化炭酸ガスを、容器の気相部から気体状の炭酸ガスを取り出し、前記精留塔へ供給できる気化器を介装するとともに、前記精留塔では精製ガスを冷却して液化し、上部よりイナートガスを排出させながら精製液化する超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置を構成している。
以下の説明から明らかなように、本発明にあっては次に列挙する効果が得られる。
(1)原料容器からの炭酸ガスを精留塔へ供給して、該精留塔で超高純度の精製液化炭酸ガスを精製して充填容器に充填する超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置において、前記原料容器からの炭酸ガスを精留塔へ供給する供給通路に該原料容器からの液化炭酸ガスを、容器の気相部から気体状の炭酸ガスを取り出し、前記精留塔へ供給できる気化器を介装したので、液体から気体へと相変化させて炭酸ガスを取り出す方法により、気化器内では、供給する原料液化炭酸ガス中の固体物質、溶解性物質等の多くの不純物は、液相部に残留される。このため、不純物の少ない気体炭酸ガスの供給が可能となる。
また、この気化器の下流の前記供給通路に介装された気体状の炭酸ガス中の水分除去を行う除湿装置、気体状の炭酸ガス中に溶解している微量油分等の有機物除去や脱臭を行う活性炭塔に於いては、吸着特性により、低温のガス供給の方が吸着除去効率が高いものとされる。
通常、液体をそのまま熱交換器(加熱温度を少なくとも31℃以上)などによりガス化し、連続供給する方法では、ガス化温度が蒸気圧以上となる。
その対策として、気化器をバッチ操作にて低温ガス供給を行う本方法に於いては、原料供給される液化炭酸ガスの飽和蒸気圧近辺以下の低温にて供給する事が可能となり、この低温炭酸ガスを用いたガス吸着法に於いては、通常にない吸着効果が得られる。
更に、気化器に供給された液化炭酸ガスを、バッチ式形態維持のまま長期連続供給すると、断熱膨張により低温ガスを得る事が出来る一方で、経時変化を共に圧力降下をも生じる事となり、バッチ式システムを維持したままの連続運転が困難となる。
低温・低圧では気体吸着法の面では効果的だが、精留塔での液化の際、冷凍機からの冷媒温度も、低圧の飽和蒸気圧以下での温度設定が必要である故、冷凍機からの冷媒温度を下げざるを得なくなり、エネルギー負荷も高くなる。
そこで、気化器の温度が低下したら(ex.3.4MPa,0℃)、気化器を外部から加温する方法か、バッチ式を開放し、原料容器からのL−COを供給する事で、圧力を維持する事が可能となり、この繰り返し操作により、バッチ式気化器の長期連続ガス供給が可能となる。
除湿装置(水分除去)、活性炭塔(有機物除去)、フィルター機能を用いる事で得られるガス精製技術はよく知られているが、バッチ式操作の繰り返しによる気化器のガス供給方式とを組み合わせての、長期連続的低温ガス供給方式に於いては、断熱膨張による低温ガス供給による吸着性能の向上と、省エネルギーを図れる事も可能である。
(2)請求項2は原料容器からの炭酸ガスを精留塔へ供給する供給通路に気化器、除湿装置、活性炭塔および精密フィルター介装したので、供給液化炭酸ガス中の固体物質、溶解性物質等の多くの不純物は液相部に残留させて、不純物の少ない気体炭酸ガスにするとともに、水分、油分等の有機物除去と脱臭、サブミクロンオーダーでのパーティクル除去を行なうことができる。
(3)請求項3は前記(1)、(2)を経て得られた高精製炭酸ガスを、精留塔に導入し、塔上部よりイナートガスを排出させながら、導入される際の炭酸ガスの飽和蒸気圧曲線に基づき、蒸気圧より低い温度で管理された冷凍機からの冷媒を介して、液化炭酸ガスへと相変化させる事により、例えば、原料ガス純度:99.99vol.%程度の炭酸ガスでも、純度:99.9999vol.%以上の超高純度液化炭酸ガスを効率よく、かつ簡易的に超高純度精製液化炭酸ガスを得ることができる。
以下、図面に示す本発明を実施するための最良の形態により、本発明を詳細に説明する。
図1に示す本発明を実施するための最良の第1の形態に於いて、超高純度の精製液化炭酸ガスを精製する精製液化炭酸ガスの精製工程は、原料容器2からの高純度炭酸ガス(純度が99.99vol.%程度、ex.6MPaG,25℃)を気化器3、除湿装置4、活性炭塔5、精密フィルター6を通過させて精留塔7へ供給通路8を介して供給して、該精留塔7で超高純度の精製液化炭酸ガスを精製する精製液化炭酸ガスの精製工程で、この精製液化炭酸ガスの精製工程で使用される気化器3では、液体状の炭酸ガスを導入し、気化器3気相より気体状の炭酸ガスとして取り出す操作をバッチ式で行う事により、供給液化炭酸ガス中の固体物質、溶解性物質等の多くの不純物は液相部に残留させて、不純物の少ない気体炭酸ガスにすると共に、より低温の炭酸ガス(ex.4.5MPaG,10℃)として供給する事をも可能となる。
また、気化器3に供給された液化炭酸ガスを、バッチ式形体維持のまま長期連続供給すると、断熱膨張により低温ガスを得る事が出来る一方で、経時変化と共に圧力降下をも生じる事となり、バッチ式システムを維持したままの連続運転が困難となる。
低温・低圧では気体吸着法の面では効果的だが、精留塔での液化の際、冷凍機からの冷媒温度も、低圧の飽和蒸気圧以下での温度設定が必要である故、冷凍機からの冷媒温度を下げざるを得なくなり、エネルギー負荷も高くなる。
そこで、気化器の温度が低下したら(ex.3.4MPa,0℃)、気化器を外部から加温する方法か、バッチ式を開放し、原料容器からのL−COを供給する事で、圧力を維持する事が可能となり、この繰り返し連続操作により、バッチ式気化器の長期連続低温ガス供給が可能となる。
除湿装置4では気体の性状にされた高純度供炭酸ガス中の水分除去を行い、活性炭塔5で油分等の有機物の除去および脱臭を行い、精密フィルター6でサブミクロンオーダーでのパーティクル除去を行う。
除湿装置4の吸着剤には、ゼオライト、モレキュラシーブス、活性アルミナなどを用い、使用前に低水分管理されたドライガス(He,N,COなど)を使用し、加熱・冷却再生を施し、吸着剤中の水分を完全除去させる事が必要である。
活性炭塔の吸着剤には、ヤシ殻活性炭などを用いて、除湿装置と同様にして、使用前には、低水分管理されたドライガス(He,N,COなど)を使用し、加熱・冷却再生を施し、吸着剤中の水分を完全除去させる事が必要である。
吸着剤容器は、前記例に於いて示した水分除去、有機物除去用の吸着剤の他に、炭酸ガス以外の不純物を除去する為の吸着剤容器を併設しても良い。
精密ガスフィルター6を通過させる事により得られる0.1μm以上のパーティクルの全くない高精製炭酸ガスの製品汚染防止の目的として、精密ガスフィルター2次側の接流体となる精留塔、配管、バルブ等の材料選定には、パーティクルの2次発生を防止する目的で、平滑な電解または化学研磨を施した配管材料の選定が必要不可欠である。
精留塔7では前述のように気体中の微量な不純物を分析下限値まで完全に除去させたガスを、液化させると同時に、塔上部に蓄積される炭酸ガス中の微量イナートガスを系外に排出させる事で、更なる高純度化(ガス純度向上)を図る事が可能で、効率よく、かつ簡易的に超高純度精製液化炭酸ガスを得る事が出来る。
精留塔に於けるガス純度向上目的と共に行う、精製液化炭酸ガス製造の為の液化操作に於いて、この液化の際の冷媒温度は、飽和蒸気圧曲線上の温度より、数度下げる程度(約―5℃程度)で十分であり、必要以上に低温で液化させる事は、排出されるイナートガス(N,O,H,CH・・・)の液化炭酸ガス中への再取り込み量(溶解度)が上がる事から、純度向上の面からも好ましくない。
また、本製造プロセスを管理する上で、水分並びに油分(不揮発性炭化水素)の溶解性が高いとされる二酸化炭素に於いては、可能な限り、製品中へのこれら汚染を避ける為の配管、バルブ等の材料(ステンレスなど)、製品選定が必要とされる。
これら方法に於いて得られる精留塔内の超高純度液化炭酸ガスの製品品質は、少なくとも、以下に示す製品データが確認出来ている。純度:≧99.9999vol.%,水分量:≦1vol.ppm,油分(=不揮発性炭化水素):≦1wt.ppb,パーティクル(≧0.1μm):なし
精製液化炭酸ガスの精製工程に於いて使用される充填容器11は、上部に2個のバルブが設けられたもの、あるいは、弁本体に2個のバルブが設けられた2口バルブ10a,10bを用いた充填容器11が使用され、容器内面及びバルブの接流体部分に関し、製品汚染の点に配慮した材料、電解研磨処理などの容器製品材料選定が必要とされる。
また、充填の際には、事前に、精製液化炭酸ガスによる充填容器内の油分及びパーティクルの完全除去・洗浄を行い、且つ、水分除去目的の為、高温環境下で高真空引きさせたクリーンな容器を用いる必要がある。
前記精製液化炭酸ガスの精製工程で精製された超高純度の精製液化炭酸ガスを充填する精製液化炭酸ガスの充填工程に於いて、図1に示すように精製液化炭酸ガスを前記精留塔7底部から、充填通路14で、送液・昇圧ポンプ15を介して、充填容器11のサイホン管12と連通するバルブ10aを介して内部へ充填すると共に、充填容器11内の気体の不純物等を他方のバルブ10bより、前記原料容器2と前記気化器3との間の前記供給通路8へ回収通路17を用いて排出・回収しながら、充填容器11内底部より徐々に満たす技法により充填を行い、容器内の満液を以て、容器充填完了となる。
これにより、経時変化と共に充填容器11内上部側に蓄積される事となるイナートガス等の不純物は、容器バルブのガス供給側10bから、容器外部に払い出される事となる。本方法ならば、事前の容器洗浄では置換出来なかった微量残留不純物除去に関しても完全置換除去が可能で、容器置換効率の面で、1口バルブ容器充填に比べ、製品汚染を抑えた充填が可能となる。
一般に市販されている高純度製品に於ける1口バルブ容器への充填法は、精留塔から容器への充填ライン配管中の洗浄、充填容器の洗浄を十分に管理した上で、液体圧縮ポンプを用いて精製液化炭酸ガスを充填する方法が一般的であるが、容器バルブの一方で圧力を抜きながら充填する本方法ならば、充填に用いるポンプは送液ポンプでも構わない。これにより、液体圧縮ポンプに必要なポンプヘッド等の冷却、昇圧エネルギーをさほど要しなくても済む。
また、通常の炭酸ガス容器充填方法では、過充填量に関しては外気にブローする事で、正規充填としているが、本方法では、設定以上に充填された余剰分の液化炭酸ガスは、容器内満液状態から正規充填量への容器管理方法として、満液後、サイフォン管直結側の液体供給口10aを閉止した後、製品充填容器11自体を外部からヒーター等で加温する事により(容器加温器18)、容器内の圧力が上昇し、加熱に由来する過充填量のCOを更に本体プロセスへと回収する事が出来るシステムとして可能である。
外部環境に排出される事がなく、炭酸ガス回収をする事で、環境配慮、CO再利用の面からも製造効率を高く管理出来る。尚、図1の19は排出ブロー弁である。
[発明を実施するための異なる形態]
次に、図2ないし図5に示す本発明を実施するための異なる形態につき説明する。なお、これらの本発明を実施するための異なる形態の説明に当って、前記本発明を実施するための最良の第一の形態と同一構成部分には同一符号を付して重複する説明を省略する。
図2に示す本発明を実施するための第2の形態において、前記本発明を実施するための最良の第1の形態と主に異なる点は、気化器3、活性炭塔5、除湿装置4を順次介装した供給通路8Aを用いた点で、このような精製液化炭酸ガスの精製工程を用いる超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置にしても、前記本発明を実施するための最良の第1の形態と同様な作用効果が得られる。
図3に示す本発明を実施する為の第3の形態に於いて、前記本発明を実施する為の最良の第1の形態と異なる点は、製品容器及び、液化炭酸ガス充填ラインの洗浄・置換等の品質管理が事前に完全な際には、精製液化炭酸ガスの充填工程での充填容器11内の気体の不純物やイナートガス等を他方のバルブ10bより、回収通路17Aを経て、精留塔7へ供給する事が出来るようにした点で、この様なガスブロー、過充填量の液化炭酸ガスの容器外排出先を精留塔7に戻す超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置にしても、前記本発明を実施する為の最良の第1の形態と同様な作用効果が得られる。
図4に示す本発明を実施するための第4の形態において、前記本発明を実施するための第1の形態と主に異なる点は、液化操作の際に上部に蓄積されるイナートガスを含む低純度の炭酸ガスを排出させながら精製液化を行えるように上部に小径に形成したイナートガス収納部23を形成し、該イナートガス収納部23に冷凍機からの冷媒を用いての熱交換器24と、開閉弁25を備えた排出通路26を備える精留塔7Aを用いて、高精製炭酸ガスの精製液化操作を行ったもので、本製法を用いての超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置にしても、前記本発明を実施するための最良の第1の形態と同様な、更に良い作用効果が得られる。
本方法ならばイナートガスをより選択的に分離させ、系外へ排出効率を高くすることともに、全体としての炭酸ガス液化効率を高くする効果が得られ、製造ロス低減の面からも優位となる。
なお、本発明の実施の形態で使用する精留塔7Aは前記本発明を実施するための最良の第1、2、3、第5の形態にも同様に使用することができる。
図5に示す本発明を実施する為の第5の形態に於いて、前記本発明を実施する為の最良の第1の形態と異なる点は、製品容器及び、液化炭酸ガス充填ラインの洗浄・置換等の品質管理が事前に完全な際には、精留塔7の下部位置に充填容器11を設置し、充填通路14と、充填容器11と精留塔7の気相とを結ぶ回収通路17Aとを配置する事により、液柱差を利用した充填が可能となる。
このノーポンプ方式ならば、ポンプ駆動に基づくパーティクル発生等の製品汚染や、省エネルギー面での問題を軽減させる事も可能である。
この様な精製液化炭酸ガスの精製工程を用いて、超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置にしても、前記本発明を実施する為の最良の第1の形態と同様な作用効果が得られる。
前記本発明の各実施の形態では充填容器11として、2個のバルブを設けたもの、あるいは弁本体に2個のバルブを形成した2口バルブを用いたものについて説明したが、本発明はこれに限らず、従来から使用されている1口バルブの充填容器に超高純度精製液化炭酸ガスを充填しても良い。
なお、前記本発明の各実施の形態では原料容器2の原料として純度が99.99vol.%程度の高純度炭酸ガスを用いるものについて説明したが、本発明はこれ以外の純度の炭酸ガスを用いても良い。
前記本発明の各実施の形態の説明に於いて例示する圧力及び温度範囲に関しては、規定するものではなく、炭酸ガス飽和蒸気圧曲線に基づく、液化、ガス化がなされる範囲領域において可能である。
本発明は超高純度液化炭酸ガスを製造する産業で利用される。
本発明を実施するための最良の第1の形態の概略説明図。 本発明を実施するための第2の形態の概略説明図。 本発明を実施するための第3の形態の概略説明図。 本発明を実施するための第4の形態の概略説明図。 本発明を実施するための第5の形態の概略説明図。
符号の説明
2:原料容器、 3:気化器、
4:除湿装置、 5:活性炭塔、
6:精密フィルター、 7、7A:精留塔、
8、8A:供給通路、
10:2口バルブ、 11:充填容器、
12:サイホン管、
14:充填通路、 15:送液昇圧ポンプ、
17、17A:回収通路、
18:容器加温器、 19:開閉弁、
23:イナートガス収納部、
25:開閉弁、 26:排出通路。

Claims (3)

  1. 原料容器からの炭酸ガスを精留塔へ供給して、該精留塔で超高純度の精製液化炭酸ガスを精製して充填容器に充填する超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置において、前記原料容器からの炭酸ガスを精留塔へ供給する供給通路に、該原料容器からの液化炭酸ガスを、容器の気相部から気体状の炭酸ガスを取り出し、前記精留塔へ供給できる気化器を介装したことを特徴とする超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置。
  2. 原料容器からの炭酸ガスを精留塔へ供給して、該精留塔で超高純度の精製液化炭酸ガスを精製して充填容器に充填する超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置において、前記原料容器からの炭酸ガスを精留塔へ供給する供給通路に、該原料容器からの液化炭酸ガスを、容器の気相部から気体状の炭酸ガスを取り出し、前記精留塔へ供給できるように介装した気化器と、この気化器の下流の前記供給通路に介装された気体状の炭酸ガス中の水分除去を行う除湿装置、気体状の炭酸ガス中に溶解している微量油分等の有機物除去や脱臭を行う活性炭塔およびサブミクロンオーダーでのパーティクル除去を行なう精密フィルターとを用いたことを特徴とする超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置。
  3. 原料容器からの炭酸ガスを精留塔へ供給して、該精留塔で超高純度の精製液化炭酸ガスを精製して充填容器に充填する超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置において、前記原料容器からの炭酸ガスを精留塔へ供給する供給通路に、該原料容器からの液化炭酸ガスを、容器の気相部から気体状の炭酸ガスを取り出し、前記精留塔へ供給できる気化器を介装するとともに、前記精留塔では精製ガスを冷却して液化し、上部よりイナートガスを排出させながら精製液化することを特徴とする超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置。
JP2005178701A 2005-06-20 2005-06-20 超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置 Active JP4724477B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005178701A JP4724477B2 (ja) 2005-06-20 2005-06-20 超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005178701A JP4724477B2 (ja) 2005-06-20 2005-06-20 超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006347842A true JP2006347842A (ja) 2006-12-28
JP4724477B2 JP4724477B2 (ja) 2011-07-13

Family

ID=37644070

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005178701A Active JP4724477B2 (ja) 2005-06-20 2005-06-20 超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4724477B2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006347843A (ja) * 2005-06-20 2006-12-28 Showa Tansan Co Ltd 超高純度液化炭素ガスの精製充填方法
JP2012240870A (ja) * 2011-05-18 2012-12-10 Showa Denko Gas Products Co Ltd 超高純度液化炭酸ガスの精製供給装置
JP2013203576A (ja) * 2012-03-28 2013-10-07 Tokyo Gas Co Ltd 液化炭酸の高純度化方法
CN103547531A (zh) * 2011-05-18 2014-01-29 奥加诺株式会社 用于制备高纯度液化二氧化碳的方法和设备

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0312260U (ja) * 1990-06-28 1991-02-07
JPH05124808A (ja) * 1991-11-01 1993-05-21 Nippon Steel Corp 高純度炭酸ガス精製プラントにおける原料ガスの処理方法
JPH10130010A (ja) * 1996-10-24 1998-05-19 Nippon Sanso Kk 炭酸ガスの精製方法及び装置
JPH11209117A (ja) * 1998-01-27 1999-08-03 Ube Ind Ltd 液化炭酸製造用粗製炭酸ガスの精製方法及び精製装置
JP2001261320A (ja) * 2000-03-21 2001-09-26 Nippon Sanso Corp 精製液化炭酸ガスの供給方法と装置並びにドライアイススノーによる洗浄方法と装置
JP2004323263A (ja) * 2003-04-22 2004-11-18 Osaka Gas Co Ltd 二酸化炭素回収装置
JP2006347843A (ja) * 2005-06-20 2006-12-28 Showa Tansan Co Ltd 超高純度液化炭素ガスの精製充填方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0312260U (ja) * 1990-06-28 1991-02-07
JPH05124808A (ja) * 1991-11-01 1993-05-21 Nippon Steel Corp 高純度炭酸ガス精製プラントにおける原料ガスの処理方法
JPH10130010A (ja) * 1996-10-24 1998-05-19 Nippon Sanso Kk 炭酸ガスの精製方法及び装置
JPH11209117A (ja) * 1998-01-27 1999-08-03 Ube Ind Ltd 液化炭酸製造用粗製炭酸ガスの精製方法及び精製装置
JP2001261320A (ja) * 2000-03-21 2001-09-26 Nippon Sanso Corp 精製液化炭酸ガスの供給方法と装置並びにドライアイススノーによる洗浄方法と装置
JP2004323263A (ja) * 2003-04-22 2004-11-18 Osaka Gas Co Ltd 二酸化炭素回収装置
JP2006347843A (ja) * 2005-06-20 2006-12-28 Showa Tansan Co Ltd 超高純度液化炭素ガスの精製充填方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006347843A (ja) * 2005-06-20 2006-12-28 Showa Tansan Co Ltd 超高純度液化炭素ガスの精製充填方法
JP2012240870A (ja) * 2011-05-18 2012-12-10 Showa Denko Gas Products Co Ltd 超高純度液化炭酸ガスの精製供給装置
CN103547531A (zh) * 2011-05-18 2014-01-29 奥加诺株式会社 用于制备高纯度液化二氧化碳的方法和设备
KR20160021305A (ko) 2011-05-18 2016-02-24 오르가노 가부시키가이샤 고순도 액화 탄산 가스 제조 방법 및 장치
US9605895B2 (en) 2011-05-18 2017-03-28 Organo Corporation Method and apparatus for producing high-purity liquefied carbon dioxide
KR20180011863A (ko) 2011-05-18 2018-02-02 오르가노 가부시키가이샤 고순도 액화 탄산 가스 제조 방법 및 장치
JP2013203576A (ja) * 2012-03-28 2013-10-07 Tokyo Gas Co Ltd 液化炭酸の高純度化方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4724477B2 (ja) 2011-07-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI494302B (zh) 純化乙炔之方法
TWI583435B (zh) 高純度液化二氧化碳氣體製造方法及裝置
WO2013115156A1 (ja) 流体二酸化炭素の供給装置及び供給方法
JP6305868B2 (ja) 水素ガスの精製方法及びその精製装置
WO2003033428A9 (en) Recycle for supercritical carbon dioxide
JP2000028264A (ja) 気相生成物を使用地点に配送するシステムおよび方法
JP4724477B2 (ja) 超高純度液化炭酸ガスの精製充填装置
JP5113992B2 (ja) 超高純度液化炭酸ガスの精製充填方法
CN107673351A (zh) 一种高纯度二氧化碳的生产方法
CN110217794A (zh) 一种高纯二氧化碳的生产方法及其生产装置
KR100359646B1 (ko) 초임계 이산화탄소의 재순환 방법 및 시스템
CN215781616U (zh) 一种低温工业氨制超纯氨的纯化装置
JP6742156B2 (ja) ハイドレート製造装置、および、ハイドレート製造方法
JP2002137909A (ja) ヘリウムガスの精製方法
JP4132614B2 (ja) 高純度nf3ガスの精製方法
JP5886281B2 (ja) 発酵工程からの二酸化炭素の高圧回収
TW565468B (en) Method and device for recovering hydrocarbon vapor
JP5237873B2 (ja) 水素精製法および水素吸蔵合金反応容器
TW201632485A (zh) 丙烷之製造方法及丙烷製造裝置
KR102064612B1 (ko) 이산화탄소 정제 공정에서의 수분 함량 제어 방법 및 장치
KR100905616B1 (ko) 액공탱크의 액체공기를 이용한 흡착기 재생방법
TWI698396B (zh) 二氧化碳的分離回收方法及分離回收系統
JP3373013B2 (ja) 窒素ガス製造装置
JP6800622B2 (ja) 精製ガスの製造方法および精製ガスの製造装置
JP2004035346A (ja) 超高純度液化二酸化炭素の製造方法およびその装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080522

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110221

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110405

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110411

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140415

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4724477

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140415

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140415

Year of fee payment: 3

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140415

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250