JP2002137909A - ヘリウムガスの精製方法 - Google Patents
ヘリウムガスの精製方法Info
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- JP2002137909A JP2002137909A JP2000330396A JP2000330396A JP2002137909A JP 2002137909 A JP2002137909 A JP 2002137909A JP 2000330396 A JP2000330396 A JP 2000330396A JP 2000330396 A JP2000330396 A JP 2000330396A JP 2002137909 A JP2002137909 A JP 2002137909A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 吸着塔を大型化させることなく、大気圧プラ
ズマ発生装置からの酸素、アルゴンを多く含んだ排ガス
ヘリウムから高純度ヘリウムガスを回収する。 【解決手段】 大気圧プラズマ発生装置１から排出され
たヘリウムガスを主成分とし、不純物として酸素、窒
素、アルゴン、水分を含む排ガスヘリウムを、精製に必
要な圧力まで昇圧したのち、水分を選択的に吸着する吸
着剤が充填された第１吸着装置１０に導入して水分を吸
着除去する。しかるのち、活性炭と合成ゼオライトを２
層に充填した第２吸着装置２１内に導入して酸素、窒
素、アルゴンを吸着除去し、高純度ヘリウムを回収す
る。これによって、吸着塔を大型化させることなく、ヘ
リウムガスを高純度、高収率で回収できる。
ズマ発生装置からの酸素、アルゴンを多く含んだ排ガス
ヘリウムから高純度ヘリウムガスを回収する。 【解決手段】 大気圧プラズマ発生装置１から排出され
たヘリウムガスを主成分とし、不純物として酸素、窒
素、アルゴン、水分を含む排ガスヘリウムを、精製に必
要な圧力まで昇圧したのち、水分を選択的に吸着する吸
着剤が充填された第１吸着装置１０に導入して水分を吸
着除去する。しかるのち、活性炭と合成ゼオライトを２
層に充填した第２吸着装置２１内に導入して酸素、窒
素、アルゴンを吸着除去し、高純度ヘリウムを回収す
る。これによって、吸着塔を大型化させることなく、ヘ
リウムガスを高純度、高収率で回収できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ヘリウムガスを
使用する大気圧プラズマ発生装置から排出される排ガス
ヘリウムを精製する方法に関するもので、詳しくは、化
繊、フィルム、ポリマーセパレーター、半導体部品等プ
ラズマを当てることによって表面改質をするプラズマ発
生の雰囲気ガスとして用いた後の排ガスヘリウム中の不
純物を取除き、高純度ヘリウムガスとして精製回収する
方法に関する。
使用する大気圧プラズマ発生装置から排出される排ガス
ヘリウムを精製する方法に関するもので、詳しくは、化
繊、フィルム、ポリマーセパレーター、半導体部品等プ
ラズマを当てることによって表面改質をするプラズマ発
生の雰囲気ガスとして用いた後の排ガスヘリウム中の不
純物を取除き、高純度ヘリウムガスとして精製回収する
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ヘリウムガスは、化学的に不活性な特性
および特定の物理的性質を有しているため、種々のプロ
セスにおいて用いられている。例えば、加圧パージ、溶
接、雰囲気コントロールガス等として各種産業分野で広
く使用されている。また、プラズマ関係では、プラズマ
発生の雰囲気ガスの主成分としてヘリウムガスが数多く
使用されている。
および特定の物理的性質を有しているため、種々のプロ
セスにおいて用いられている。例えば、加圧パージ、溶
接、雰囲気コントロールガス等として各種産業分野で広
く使用されている。また、プラズマ関係では、プラズマ
発生の雰囲気ガスの主成分としてヘリウムガスが数多く
使用されている。
【０００３】しかし、使用後のヘリウムガスは、不純
物が多く含まれる、使用量が少ない、等の理由から殆
ど大気中に放出されているが、潜水ガス、レーザー、冷
媒用として大量使用する場合には、使用後の排ガスヘリ
ウムを精製して再利用する技術が提案されている。
物が多く含まれる、使用量が少ない、等の理由から殆
ど大気中に放出されているが、潜水ガス、レーザー、冷
媒用として大量使用する場合には、使用後の排ガスヘリ
ウムを精製して再利用する技術が提案されている。
【０００４】例えば、圧力揺動吸着分離装置（以下ＰＳ
Ａ装置という）を用いてヘリウムを含む原料ガスからヘ
リウムガスを回収し精製する方法において、製品ヘリウ
ムガスの取出側のヘリウム濃度を常時測定し、上記ヘリ
ウム濃度が一定になるようにガス流量をヘリウム濃度に
応じて常時調整し、かつＰＳＡ装置の排気ガスを原料ガ
スに混合しリサイクルしながらヘリウムガスを回収する
方法（特開平６−１８２１３３号公報）、被加工材にレ
ーザビームを照射し、その照射点近傍にヘリウムガスを
吹き付けながら、被加工材のレーザ加工を行う加工装置
本体と、レーザ照射点近傍に吹き付けられるヘリウムガ
スを回収するべく、レーザ照射点近傍を回収フードによ
り覆って回収フードの内部をフード上部より吸引し、そ
の回収ガスを精製するヘリウムガス回収系とを具備した
レーザ加工装置（特開平１０−６０６９号公報）、空気
が大量に混入したヘリウム濃度５〜７０容量％の排ガス
を昇圧したのち液体窒素を冷媒源として冷却し、排ガス
中の空気を液化分離した後、残余の微量成分を活性炭等
の吸着剤で除去して高純度ヘリウムを得るヘリウム回収
方法において、前記排ガスを昇圧したのち光ファイバー
製造工程や光ガラス製造工程にガス化したのち供給され
る液体窒素を冷媒源として使用すると共に、冷熱のみを
利用された低温窒素ガスを加温器で常温に昇温したのち
光ファイバー製造工程や光ガラス製造工程に供給するヘ
リウム回収方法（特開平１０−３１１６７４号公報）等
が提案されている。
Ａ装置という）を用いてヘリウムを含む原料ガスからヘ
リウムガスを回収し精製する方法において、製品ヘリウ
ムガスの取出側のヘリウム濃度を常時測定し、上記ヘリ
ウム濃度が一定になるようにガス流量をヘリウム濃度に
応じて常時調整し、かつＰＳＡ装置の排気ガスを原料ガ
スに混合しリサイクルしながらヘリウムガスを回収する
方法（特開平６−１８２１３３号公報）、被加工材にレ
ーザビームを照射し、その照射点近傍にヘリウムガスを
吹き付けながら、被加工材のレーザ加工を行う加工装置
本体と、レーザ照射点近傍に吹き付けられるヘリウムガ
スを回収するべく、レーザ照射点近傍を回収フードによ
り覆って回収フードの内部をフード上部より吸引し、そ
の回収ガスを精製するヘリウムガス回収系とを具備した
レーザ加工装置（特開平１０−６０６９号公報）、空気
が大量に混入したヘリウム濃度５〜７０容量％の排ガス
を昇圧したのち液体窒素を冷媒源として冷却し、排ガス
中の空気を液化分離した後、残余の微量成分を活性炭等
の吸着剤で除去して高純度ヘリウムを得るヘリウム回収
方法において、前記排ガスを昇圧したのち光ファイバー
製造工程や光ガラス製造工程にガス化したのち供給され
る液体窒素を冷媒源として使用すると共に、冷熱のみを
利用された低温窒素ガスを加温器で常温に昇温したのち
光ファイバー製造工程や光ガラス製造工程に供給するヘ
リウム回収方法（特開平１０−３１１６７４号公報）等
が提案されている。
【０００５】しかし、上記特開平６−１８２１３３号公
報、特開平１０−６０６９号公報および特開平１０−３
１１６７４号公報に開示の排ガスヘリウム精製技術は、
そのほとんどが不純物として空気を含む排ガスヘリウム
からの精製技術である。
報、特開平１０−６０６９号公報および特開平１０−３
１１６７４号公報に開示の排ガスヘリウム精製技術は、
そのほとんどが不純物として空気を含む排ガスヘリウム
からの精製技術である。
【０００６】これに対し、大気圧プラズマ発生装置は、
大量のヘリウムガスを必要とし、プラズマを発生させる
のに必要な組成とするため、ヘリウムに酸素、アルゴン
等を混合して使用すること、装置外へ排出される前に窒
素ガスや空気、水分等を含んでしまうことから、空気成
分以上に酸素やアルゴンを多く含み、容易に精製するこ
とが困難で、大気圧プラズマ発生装置からの排ガスヘリ
ウムは再利用することなく大気に放出しているのが実状
である。このため、大気圧プラズマ発生装置は、ガスコ
ストが高くなってしまうという問題があった。
大量のヘリウムガスを必要とし、プラズマを発生させる
のに必要な組成とするため、ヘリウムに酸素、アルゴン
等を混合して使用すること、装置外へ排出される前に窒
素ガスや空気、水分等を含んでしまうことから、空気成
分以上に酸素やアルゴンを多く含み、容易に精製するこ
とが困難で、大気圧プラズマ発生装置からの排ガスヘリ
ウムは再利用することなく大気に放出しているのが実状
である。このため、大気圧プラズマ発生装置は、ガスコ
ストが高くなってしまうという問題があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従来提案されている空
気成分を不純物として含んだ排ガスヘリウムからヘリウ
ムガスを回収する方法としては、蒸留法や低温吸着法が
あり、高純度、高回収率で回収可能と考えられるが、こ
れらの方法では低温源にコストがかかってしまい、経済
的にメリットがなく、しかも、メンテナンス性や安全性
にも問題を有している。また、排ガスヘリウムからヘリ
ウムガスを回収する他の方法としては、常温のＰＳＡ法
を用いた方法も提案されている。
気成分を不純物として含んだ排ガスヘリウムからヘリウ
ムガスを回収する方法としては、蒸留法や低温吸着法が
あり、高純度、高回収率で回収可能と考えられるが、こ
れらの方法では低温源にコストがかかってしまい、経済
的にメリットがなく、しかも、メンテナンス性や安全性
にも問題を有している。また、排ガスヘリウムからヘリ
ウムガスを回収する他の方法としては、常温のＰＳＡ法
を用いた方法も提案されている。
【０００８】これらの方法では、空気成分以上に酸素、
アルゴンを多く含んだ大気圧プラズマ発生装置からの排
ガスヘリウムを原料とした場合、吸着塔へ活性炭やゼオ
ライト等を１種類充填しているため、装置が大型化する
という問題がある。つまり、活性炭のみでは、不純物の
吸着絶対量は多いが、低分圧領域での吸着量が低いため
高純度に精製することが困難である。合成ゼオライトで
は、低分圧領域での吸着量が高いため高純度に精製でき
るが、不純物の吸着絶対量が少ないため多量の吸着剤が
必要となる。
アルゴンを多く含んだ大気圧プラズマ発生装置からの排
ガスヘリウムを原料とした場合、吸着塔へ活性炭やゼオ
ライト等を１種類充填しているため、装置が大型化する
という問題がある。つまり、活性炭のみでは、不純物の
吸着絶対量は多いが、低分圧領域での吸着量が低いため
高純度に精製することが困難である。合成ゼオライトで
は、低分圧領域での吸着量が高いため高純度に精製でき
るが、不純物の吸着絶対量が少ないため多量の吸着剤が
必要となる。
【０００９】本発明の目的は、上記従来の低温分離法に
おける経済性、メンテナンス性、安全性の問題、１種類
の吸着剤を充填した吸着塔でのＰＳＡ法による装置の大
型化の問題点を解消し、吸着塔を大型化させることな
く、ＰＳＡ法を用いて大気圧プラズマ発生装置からの酸
素、アルゴンを多く含んだ排ガスヘリウムから高純度ヘ
リウムガスを回収できるヘリウムガスの精製方法を提供
することにある。
おける経済性、メンテナンス性、安全性の問題、１種類
の吸着剤を充填した吸着塔でのＰＳＡ法による装置の大
型化の問題点を解消し、吸着塔を大型化させることな
く、ＰＳＡ法を用いて大気圧プラズマ発生装置からの酸
素、アルゴンを多く含んだ排ガスヘリウムから高純度ヘ
リウムガスを回収できるヘリウムガスの精製方法を提供
することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１のヘリ
ウムガスの精製方法は、大気圧プラズマ発生装置から排
出されたヘリウムガスを主成分とし、不純物として酸
素、窒素、アルゴン、水分等を含む排ガスヘリウムを、
精製に必要な圧力まで昇圧したのち、水分を選択的に吸
着する吸着剤が充填された第１吸着装置に導入して水分
を吸着除去し、次いで活性炭と合成ゼオライトが２層に
充填された第２吸着装置内に導入して酸素、窒素、アル
ゴンを吸着除去し、高純度ヘリウムを回収することを特
徴とする。
ウムガスの精製方法は、大気圧プラズマ発生装置から排
出されたヘリウムガスを主成分とし、不純物として酸
素、窒素、アルゴン、水分等を含む排ガスヘリウムを、
精製に必要な圧力まで昇圧したのち、水分を選択的に吸
着する吸着剤が充填された第１吸着装置に導入して水分
を吸着除去し、次いで活性炭と合成ゼオライトが２層に
充填された第２吸着装置内に導入して酸素、窒素、アル
ゴンを吸着除去し、高純度ヘリウムを回収することを特
徴とする。
【００１１】このように、本発明の請求項１のヘリウム
ガスの精製方法は、不純物の吸着絶対量の多い活性炭
と、低分圧領域での吸着能力の高い合成ゼオライトを効
率的に組合せることによって、吸着塔を大型化させるこ
となく、ＰＳＡ法を用いて大気圧プラズマ発生装置から
の酸素、アルゴンを多く含んだ排ガスヘリウムから高純
度ヘリウムガスを回収することができる。
ガスの精製方法は、不純物の吸着絶対量の多い活性炭
と、低分圧領域での吸着能力の高い合成ゼオライトを効
率的に組合せることによって、吸着塔を大型化させるこ
となく、ＰＳＡ法を用いて大気圧プラズマ発生装置から
の酸素、アルゴンを多く含んだ排ガスヘリウムから高純
度ヘリウムガスを回収することができる。
【００１２】本発明の請求項２のヘリウムガスの精製方
法は、大気圧プラズマ発生装置から排出されたヘリウム
ガスを主成分とし、不純物として酸素、窒素、アルゴ
ン、水分等を含む排ガスヘリウムを、精製に必要な圧力
まで昇圧したのち、水分を選択的に吸着する吸着剤、活
性炭、合成ゼオライトを３層に充填したＰＳＡ吸着装置
内に導入し、水分、酸素、窒素、アルゴンを吸着除去
し、高純度ヘリウムを回収することを特徴とする。
法は、大気圧プラズマ発生装置から排出されたヘリウム
ガスを主成分とし、不純物として酸素、窒素、アルゴ
ン、水分等を含む排ガスヘリウムを、精製に必要な圧力
まで昇圧したのち、水分を選択的に吸着する吸着剤、活
性炭、合成ゼオライトを３層に充填したＰＳＡ吸着装置
内に導入し、水分、酸素、窒素、アルゴンを吸着除去
し、高純度ヘリウムを回収することを特徴とする。
【００１３】このように、本発明の請求項２のヘリウム
ガスの精製方法は、水分を選択的に吸着する吸着剤と、
不純物の吸着絶対量の多い活性炭と、低分圧領域での吸
着能力の高い合成ゼオライトを効率的に組合せることに
よって、ＰＳＡ法を用いて大気圧プラズマ発生装置から
の酸素、アルゴンを多く含んだ排ガスヘリウムから高純
度ヘリウムガスを回収することができる。
ガスの精製方法は、水分を選択的に吸着する吸着剤と、
不純物の吸着絶対量の多い活性炭と、低分圧領域での吸
着能力の高い合成ゼオライトを効率的に組合せることに
よって、ＰＳＡ法を用いて大気圧プラズマ発生装置から
の酸素、アルゴンを多く含んだ排ガスヘリウムから高純
度ヘリウムガスを回収することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の大気圧プラズマ発生装置
からの排ガスヘリウムの精製方法を図１に基づいて説明
する。図１はこの発明の請求項１の大気圧プラズマ発生
装置からの排ガスヘリウムの精製方法の系統図である。
からの排ガスヘリウムの精製方法を図１に基づいて説明
する。図１はこの発明の請求項１の大気圧プラズマ発生
装置からの排ガスヘリウムの精製方法の系統図である。
【００１５】図１において、１は大気圧プラズマ発生装
置、２は大気圧プラズマ発生装置１の雰囲気ガスとして
使用した排ガスヘリウムを排出する配管で、この排ガス
ヘリウムは、不純物として多くの酸素、アルゴンと共に
窒素、水分等を含んでいる。３は配管２を介して排出さ
れた排ガスヘリウムを吸引して１００ｍｍＡｑ程度の圧
力で排出するブロアーである。
置、２は大気圧プラズマ発生装置１の雰囲気ガスとして
使用した排ガスヘリウムを排出する配管で、この排ガス
ヘリウムは、不純物として多くの酸素、アルゴンと共に
窒素、水分等を含んでいる。３は配管２を介して排出さ
れた排ガスヘリウムを吸引して１００ｍｍＡｑ程度の圧
力で排出するブロアーである。
【００１６】４はブロアー３により排出された排ガスヘ
リウムを脱着ガス回収タンク２６からの脱着ガスの一部
と混合して圧縮機５に導く配管である。６は常温吸着で
の処理に必要な圧力、例えば、０．５ＭＰａ・Ｇ以上ま
で昇圧された排ガスヘリウムを排ガス冷却器７に導入す
る配管である。排ガス冷却器７では、昇圧された排ガス
ヘリウムが冷却水８と間接熱交換して２０〜４０℃まで
冷却され、飽和蒸気圧以上の水分が凝縮する。９はドレ
ンポットで、凝縮した水分を貯めて定期的に系外に排出
する。
リウムを脱着ガス回収タンク２６からの脱着ガスの一部
と混合して圧縮機５に導く配管である。６は常温吸着で
の処理に必要な圧力、例えば、０．５ＭＰａ・Ｇ以上ま
で昇圧された排ガスヘリウムを排ガス冷却器７に導入す
る配管である。排ガス冷却器７では、昇圧された排ガス
ヘリウムが冷却水８と間接熱交換して２０〜４０℃まで
冷却され、飽和蒸気圧以上の水分が凝縮する。９はドレ
ンポットで、凝縮した水分を貯めて定期的に系外に排出
する。
【００１７】１０ａ、１０ｂは２塔切替方式の吸着剤と
して水分を選択的に吸着する活性アルミナ、シリカゲ
ル、活性炭あるいは合成ゼオライトが充填されている温
度揺動吸着分離装置（以下ＴＳＡ装置という）からなる
第１吸着装置で、逐次吸着、再生を切替え使用してい
る。ドレンポット９で凝縮した水分の除去された２０〜
４０℃の飽和蒸気圧分の水分と酸素、窒素、アルゴン等
を含んだ排ガスヘリウムは、配管１１により導入され
る。１２ａ、１２ｂは第１吸着装置１０ａ、１０ｂへ排
ガスヘリウムを導入するための切替弁である。１３ａ、
１３ｂは第１吸着装置１０ａ、１０ｂで水分の除去され
た排ガスヘリウムを導出するための切替弁である。１４
ａ、１４ｂは第１吸着装置１０ａ、１０ｂから吸着され
た水分を脱着するための切替弁である。１５ａ、１５ｂ
は第１吸着装置１０ａ、１０ｂに回収ヘリウムガスの一
部を配管１６を介して導入するための切替弁である。
して水分を選択的に吸着する活性アルミナ、シリカゲ
ル、活性炭あるいは合成ゼオライトが充填されている温
度揺動吸着分離装置（以下ＴＳＡ装置という）からなる
第１吸着装置で、逐次吸着、再生を切替え使用してい
る。ドレンポット９で凝縮した水分の除去された２０〜
４０℃の飽和蒸気圧分の水分と酸素、窒素、アルゴン等
を含んだ排ガスヘリウムは、配管１１により導入され
る。１２ａ、１２ｂは第１吸着装置１０ａ、１０ｂへ排
ガスヘリウムを導入するための切替弁である。１３ａ、
１３ｂは第１吸着装置１０ａ、１０ｂで水分の除去され
た排ガスヘリウムを導出するための切替弁である。１４
ａ、１４ｂは第１吸着装置１０ａ、１０ｂから吸着され
た水分を脱着するための切替弁である。１５ａ、１５ｂ
は第１吸着装置１０ａ、１０ｂに回収ヘリウムガスの一
部を配管１６を介して導入するための切替弁である。
【００１８】１７は第１吸着装置１０ａ、１０ｂを１０
０Ｔｏｒｒ以下まで減圧する真空ポンブで、切替弁１８
を介して接続されている。１９は切替弁１４ａ、１４ｂ
を介して第１吸着装置１０ａ、１０ｂに接続された切替
弁で、吸着剤再生時の０．５ＭＰａ・Ｇ以上から大気圧
までの減圧時に生じる排ガスヘリウムを大気に放出す
る。
０Ｔｏｒｒ以下まで減圧する真空ポンブで、切替弁１８
を介して接続されている。１９は切替弁１４ａ、１４ｂ
を介して第１吸着装置１０ａ、１０ｂに接続された切替
弁で、吸着剤再生時の０．５ＭＰａ・Ｇ以上から大気圧
までの減圧時に生じる排ガスヘリウムを大気に放出す
る。
【００１９】２０は水分の除去された排ガスヘリウムを
第２吸着装置であるＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄに導入
する配管である。ＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄには、排
ガスヘリウムの組成に応じて２種類の吸着剤、例えば、
活性炭（下部）：合成ゼオライト（上部）＝３：１の高
さで２層に充填され、吸着、脱着、洗浄、充圧を逐次切
替えて使用している。２２ａ〜２２ｄはＰＳＡ吸着塔２
１ａ〜２１ｄに排ガスヘリウムを導入するための切替弁
である。２３ａ〜２３ｄはＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄ
で酸素、窒素およびアルゴンが除去され、精製されたヘ
リウムガスを導出するための切替弁である。２４ａ〜２
４ｄはＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄから吸着された酸
素、窒素およびアルゴンを脱着するための切替弁であ
る。２５ａ〜２５ｄはＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄの活
性炭、合成ゼオライト再生時の０．５ＭＰａ・Ｇ以上か
ら０．２ＭＰａ・Ｇ程度までの減圧時に生じる脱着ガス
を脱着ガス回収タンク２６に配管２７、流量調整弁２８
を介して導出するための切替弁である。２９ａ〜２９ｄ
はＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄの充圧時に他のＰＳＡ吸
着塔２１ａ〜２１ｄから精製されたヘリウムガスを導入
するための切替弁である。
第２吸着装置であるＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄに導入
する配管である。ＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄには、排
ガスヘリウムの組成に応じて２種類の吸着剤、例えば、
活性炭（下部）：合成ゼオライト（上部）＝３：１の高
さで２層に充填され、吸着、脱着、洗浄、充圧を逐次切
替えて使用している。２２ａ〜２２ｄはＰＳＡ吸着塔２
１ａ〜２１ｄに排ガスヘリウムを導入するための切替弁
である。２３ａ〜２３ｄはＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄ
で酸素、窒素およびアルゴンが除去され、精製されたヘ
リウムガスを導出するための切替弁である。２４ａ〜２
４ｄはＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄから吸着された酸
素、窒素およびアルゴンを脱着するための切替弁であ
る。２５ａ〜２５ｄはＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄの活
性炭、合成ゼオライト再生時の０．５ＭＰａ・Ｇ以上か
ら０．２ＭＰａ・Ｇ程度までの減圧時に生じる脱着ガス
を脱着ガス回収タンク２６に配管２７、流量調整弁２８
を介して導出するための切替弁である。２９ａ〜２９ｄ
はＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄの充圧時に他のＰＳＡ吸
着塔２１ａ〜２１ｄから精製されたヘリウムガスを導入
するための切替弁である。
【００２０】３０はＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄを２０
Ｔｏｒｒ以下まで減圧する真空ポンブで、切替弁２４ａ
〜２４ｄ、切替弁３１を介して接続されている。３２は
切替弁２４ａ〜２４ｄを介してＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２
１ｄに接続された切替弁で、吸着剤再生時の０．２ＭＰ
ａ・Ｇから大気圧までの減圧時に生じる脱着ガスを大気
に放出する。
Ｔｏｒｒ以下まで減圧する真空ポンブで、切替弁２４ａ
〜２４ｄ、切替弁３１を介して接続されている。３２は
切替弁２４ａ〜２４ｄを介してＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２
１ｄに接続された切替弁で、吸着剤再生時の０．２ＭＰ
ａ・Ｇから大気圧までの減圧時に生じる脱着ガスを大気
に放出する。
【００２１】３３はヘリウムガスタンクで、ＰＳＡ吸着
塔２１ａ〜２１ｄから切替弁２３ａ〜２３ｄ、配管３４
および圧力調整弁３５を介して導出されたヘリウムガス
を貯蔵する。３６は圧力調整弁３７を介して回収したヘ
リウムガスを大気圧プラズマ発生装置１に供給するガス
供給装置である。
塔２１ａ〜２１ｄから切替弁２３ａ〜２３ｄ、配管３４
および圧力調整弁３５を介して導出されたヘリウムガス
を貯蔵する。３６は圧力調整弁３７を介して回収したヘ
リウムガスを大気圧プラズマ発生装置１に供給するガス
供給装置である。
【００２２】大気圧プラズマ発生装置１から配管２を介
して排出された排ガスヘリウムは、ブロアー３により吸
引されて１００ｍｍＡｑ程度の圧力で排出され、脱着ガ
ス回収タンク２６から圧力調整弁３８を介して供給され
る脱着ガスの一部と混合され、配管４を介して圧縮機５
に導かれ、常温吸着での処理に必要な圧力、例えば０．
５ＭＰａ・Ｇ以上に昇圧される。０．５ＭＰａ・Ｇ以上
に昇圧され排ガスヘリウムは、配管６を介して排ガス冷
却器７に導入され、冷却水８と間接熱交換して２０〜４
０℃に冷却され、飽和蒸気圧以上の水分が凝縮する。
して排出された排ガスヘリウムは、ブロアー３により吸
引されて１００ｍｍＡｑ程度の圧力で排出され、脱着ガ
ス回収タンク２６から圧力調整弁３８を介して供給され
る脱着ガスの一部と混合され、配管４を介して圧縮機５
に導かれ、常温吸着での処理に必要な圧力、例えば０．
５ＭＰａ・Ｇ以上に昇圧される。０．５ＭＰａ・Ｇ以上
に昇圧され排ガスヘリウムは、配管６を介して排ガス冷
却器７に導入され、冷却水８と間接熱交換して２０〜４
０℃に冷却され、飽和蒸気圧以上の水分が凝縮する。
【００２３】排ガスヘリウム中の飽和蒸気圧以上の凝縮
した水分は、ドレンポット９に貯められ定期的に系外へ
放出される。飽和蒸気圧以上の凝縮した水分が除去され
た排ガスヘリウムは、配管１１、切替弁１２ａ、１２ｂ
を介して第１吸着装置１０ａ、１０ｂに導入される。
した水分は、ドレンポット９に貯められ定期的に系外へ
放出される。飽和蒸気圧以上の凝縮した水分が除去され
た排ガスヘリウムは、配管１１、切替弁１２ａ、１２ｂ
を介して第１吸着装置１０ａ、１０ｂに導入される。
【００２４】第１吸着装置１０ａが吸着工程、第１吸着
装置１０ｂが再生工程である場合、すなわち、切替弁１
２ａ、１３ａ、１４ｂ、１５ｂが開放、切替弁１２ｂ、
１３ｂ、１４ａ、１５ａが閉止の状態では、排ガスヘリ
ウムは第１吸着装置１０ａに導入され、水分の大部分が
吸着剤に吸着されて除去されたのち、切替弁１３ａ、配
管２０を介してＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄに導入され
る。
装置１０ｂが再生工程である場合、すなわち、切替弁１
２ａ、１３ａ、１４ｂ、１５ｂが開放、切替弁１２ｂ、
１３ｂ、１４ａ、１５ａが閉止の状態では、排ガスヘリ
ウムは第１吸着装置１０ａに導入され、水分の大部分が
吸着剤に吸着されて除去されたのち、切替弁１３ａ、配
管２０を介してＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄに導入され
る。
【００２５】一方、再生工程の第１吸着装置１０ｂは、
図示しないヒーターによって１５０〜２５０℃に昇温
後、切替弁１４ｂ、切替弁１９が開放されて吸着剤再生
時の高圧状態から大気圧までの減圧時に生じる排ガスヘ
リウムを大気に放出する。そして、切替弁１９を閉止し
たのち真空ポンプ１７を起動して切替弁１８を開放して
１００Ｔｏｒｒまで減圧し、第１吸着装置１０ｂ内の吸
着剤に吸着された水分を脱着しつつ、ヘリウムガスタン
ク３３から配管１６、切替弁１５ｂを介してヘリウムガ
スを供給して吸着剤を洗浄する。しかるのち、切替弁１
４ｂ、１８を閉止して真空ポンプ１７を停止し、第１吸
着装置１０ｂ内を所定圧力に充圧して切替弁１５ｂを閉
止し、第１吸着装置１０ｂの再生を完了する。
図示しないヒーターによって１５０〜２５０℃に昇温
後、切替弁１４ｂ、切替弁１９が開放されて吸着剤再生
時の高圧状態から大気圧までの減圧時に生じる排ガスヘ
リウムを大気に放出する。そして、切替弁１９を閉止し
たのち真空ポンプ１７を起動して切替弁１８を開放して
１００Ｔｏｒｒまで減圧し、第１吸着装置１０ｂ内の吸
着剤に吸着された水分を脱着しつつ、ヘリウムガスタン
ク３３から配管１６、切替弁１５ｂを介してヘリウムガ
スを供給して吸着剤を洗浄する。しかるのち、切替弁１
４ｂ、１８を閉止して真空ポンプ１７を停止し、第１吸
着装置１０ｂ内を所定圧力に充圧して切替弁１５ｂを閉
止し、第１吸着装置１０ｂの再生を完了する。
【００２６】第１吸着装置１０ａで水分の大部分が除去
された排ガスヘリウムは、配管２０、切替弁２２ａ〜２
２ｄを介して吸着、脱着、洗浄、充圧を逐次切替えてい
るＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄに導入される。例えば、
ＰＳＡ吸着塔２１ａが吸着工程、ＰＳＡ吸着塔２１ｂが
脱着工程、ＰＳＡ吸着塔２１ｃが洗浄工程、ＰＳＡ吸着
塔２１ｄが充圧工程の場合は、排ガスヘリウムは切替弁
２２ａを介してＰＳＡ吸着塔２１ａに導入される。
された排ガスヘリウムは、配管２０、切替弁２２ａ〜２
２ｄを介して吸着、脱着、洗浄、充圧を逐次切替えてい
るＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄに導入される。例えば、
ＰＳＡ吸着塔２１ａが吸着工程、ＰＳＡ吸着塔２１ｂが
脱着工程、ＰＳＡ吸着塔２１ｃが洗浄工程、ＰＳＡ吸着
塔２１ｄが充圧工程の場合は、排ガスヘリウムは切替弁
２２ａを介してＰＳＡ吸着塔２１ａに導入される。
【００２７】この場合、ＰＳＡ吸着塔２１ａでは、切替
弁２２ａ、切替弁２３ａが開放、切替弁２４ａ、２５
ａ、２９ａは閉止である。ＰＳＡ吸着塔２１ａに導入さ
れた排ガスヘリウムは、ＰＳＡ吸着塔２１ａの下層に充
填された活性炭に大部分の酸素、窒素、アルゴン等が吸
着されたのち、上層の合成ゼオライトによって低濃度ま
で吸着除去され、回収ヘリウムとして切替弁２３ａ、配
管３４を介して圧力調整弁３５でＰＳＡ吸着塔２１ａ圧
力を０．５ＭＰａ／Ｇ以上の一定に制御しながらヘリウ
ムガスタンク３３に回収する。
弁２２ａ、切替弁２３ａが開放、切替弁２４ａ、２５
ａ、２９ａは閉止である。ＰＳＡ吸着塔２１ａに導入さ
れた排ガスヘリウムは、ＰＳＡ吸着塔２１ａの下層に充
填された活性炭に大部分の酸素、窒素、アルゴン等が吸
着されたのち、上層の合成ゼオライトによって低濃度ま
で吸着除去され、回収ヘリウムとして切替弁２３ａ、配
管３４を介して圧力調整弁３５でＰＳＡ吸着塔２１ａ圧
力を０．５ＭＰａ／Ｇ以上の一定に制御しながらヘリウ
ムガスタンク３３に回収する。
【００２８】ＰＳＡ吸着塔２１ｂの脱着工程では、切替
弁２２ｂ、切替弁２３ｂを閉止して吸着工程が終了した
状態から切替弁２５ｂ、切替弁２５ｄを開放し、配管２
７を介して充圧工程のＰＳＡ吸着塔２１ｄに比較的ヘリ
ウム濃度の高い脱着ガスを充圧し、残りを切替弁２５ｄ
を閉止して流量調整弁２８で流量を制御しながら脱着ガ
ス回収タンク２６へＰＳＡ吸着塔２１ｂ内圧力が０．２
ＭＰａとなるまで脱着ガスを回収する。その後、切替弁
２５ｂを閉止し、切替弁２４ａ、切替弁３２を開放して
ＰＳＡ吸着塔２１ｂ内に残った脱着ガスを塔下部から大
気へ放出し、切替弁２４ａ、切替弁３２を閉止してＰＳ
Ａ吸着塔２１ｂの脱着工程を完了する。
弁２２ｂ、切替弁２３ｂを閉止して吸着工程が終了した
状態から切替弁２５ｂ、切替弁２５ｄを開放し、配管２
７を介して充圧工程のＰＳＡ吸着塔２１ｄに比較的ヘリ
ウム濃度の高い脱着ガスを充圧し、残りを切替弁２５ｄ
を閉止して流量調整弁２８で流量を制御しながら脱着ガ
ス回収タンク２６へＰＳＡ吸着塔２１ｂ内圧力が０．２
ＭＰａとなるまで脱着ガスを回収する。その後、切替弁
２５ｂを閉止し、切替弁２４ａ、切替弁３２を開放して
ＰＳＡ吸着塔２１ｂ内に残った脱着ガスを塔下部から大
気へ放出し、切替弁２４ａ、切替弁３２を閉止してＰＳ
Ａ吸着塔２１ｂの脱着工程を完了する。
【００２９】ＰＳＡ吸着塔２１ｃの洗浄工程では、脱着
工程が終了した状態から切替弁２４ｃ、切替弁３１を開
放して真空ポンプ３０を起動し、ＰＳＡ吸着塔２１ｃ内
を８０Ｔｏｒｒ以下まで真空引きして活性炭および合成
ゼオライトに吸着された酸素、窒素、アルゴン等の殆ど
を脱着させて大気へ放出する。その後、真空ポンプ３０
で真空引きをしたまま、切替弁２９ｃを開放し、ＰＳＡ
吸着塔２１ａから切替弁２３ａを介して回収ヘリウムの
一部を少量流すことによって、活性炭および合成ゼオラ
イトを洗浄したのち、切替弁２５ｃ、切替弁２９ｃ、切
替弁２４ｃ、切替弁３１を閉止し、真空ポンプ３０を停
止してＰＳＡ吸着塔２１ｃの洗浄工程を完了する。
工程が終了した状態から切替弁２４ｃ、切替弁３１を開
放して真空ポンプ３０を起動し、ＰＳＡ吸着塔２１ｃ内
を８０Ｔｏｒｒ以下まで真空引きして活性炭および合成
ゼオライトに吸着された酸素、窒素、アルゴン等の殆ど
を脱着させて大気へ放出する。その後、真空ポンプ３０
で真空引きをしたまま、切替弁２９ｃを開放し、ＰＳＡ
吸着塔２１ａから切替弁２３ａを介して回収ヘリウムの
一部を少量流すことによって、活性炭および合成ゼオラ
イトを洗浄したのち、切替弁２５ｃ、切替弁２９ｃ、切
替弁２４ｃ、切替弁３１を閉止し、真空ポンプ３０を停
止してＰＳＡ吸着塔２１ｃの洗浄工程を完了する。
【００３０】ＰＳＡ吸着塔２１ｄの充圧工程では、洗浄
工程を終了した状態からＰＳＡ吸着塔２１ｂから切替弁
２５ｂ、配管２７、切替弁２５ｄを介して比較的ヘリウ
ム濃度の高い脱着ガスの一部が０．２ＭＰａ・Ｇまで充
圧されたのち、切替弁２５ｄを閉止し、切替弁２９ｄを
開放してＰＳＡ吸着塔２１ａから切替弁２３ａを介して
回収ヘリウムを吸着圧力０．５ＭＰａ・Ｇ以上まで充圧
し、切替弁２９ｄを閉止して充圧工程を終了する。
工程を終了した状態からＰＳＡ吸着塔２１ｂから切替弁
２５ｂ、配管２７、切替弁２５ｄを介して比較的ヘリウ
ム濃度の高い脱着ガスの一部が０．２ＭＰａ・Ｇまで充
圧されたのち、切替弁２５ｄを閉止し、切替弁２９ｄを
開放してＰＳＡ吸着塔２１ａから切替弁２３ａを介して
回収ヘリウムを吸着圧力０．５ＭＰａ・Ｇ以上まで充圧
し、切替弁２９ｄを閉止して充圧工程を終了する。
【００３１】以上の第１吸着装置１０ａ、１０ｂでの水
分の吸着、脱着操作、ＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄでの
酸素、窒素、アルゴン等の吸着、脱着、洗浄、充圧操作
を繰り返すことによって、大気圧プラズマ発生装置１で
使用された排ガスヘリウムを連続的に効率よくヘリウム
ガスタンク３３に回収することができる。ヘリウムガス
タンク３３に貯蔵された精製ヘリウムガスは、圧力調整
弁３７によって大気圧プラズマ発生装置１での使用圧力
まで減圧した後、ガス供給装置３６に戻入されて再利用
される。
分の吸着、脱着操作、ＰＳＡ吸着塔２１ａ〜２１ｄでの
酸素、窒素、アルゴン等の吸着、脱着、洗浄、充圧操作
を繰り返すことによって、大気圧プラズマ発生装置１で
使用された排ガスヘリウムを連続的に効率よくヘリウム
ガスタンク３３に回収することができる。ヘリウムガス
タンク３３に貯蔵された精製ヘリウムガスは、圧力調整
弁３７によって大気圧プラズマ発生装置１での使用圧力
まで減圧した後、ガス供給装置３６に戻入されて再利用
される。
【００３２】なお、図２はこの発明の請求項２の大気圧
プラズマ発生装置からの排ガスヘリウムの精製方法の一
例を示す系統図である。図２に示す排ガスヘリウムの精
製方法は、水分除去用の吸着剤を各ＰＳＡ吸着塔２１ａ
〜２１ｄに活性炭および合成ゼオライトと共に３層に充
填し、第１吸着装置１０ａ、１０ｂをなくしたものであ
る。この図２に示すプロセスでも図１と同様に排ガスヘ
リウムの精製が可能であるが、各ＰＳＡ吸着塔２１ａ〜
２１ｄの容積が大型化する分、大気に排出するヘリウム
ガス量が増加し、回収率を下げる原因となってしまう。
プラズマ発生装置からの排ガスヘリウムの精製方法の一
例を示す系統図である。図２に示す排ガスヘリウムの精
製方法は、水分除去用の吸着剤を各ＰＳＡ吸着塔２１ａ
〜２１ｄに活性炭および合成ゼオライトと共に３層に充
填し、第１吸着装置１０ａ、１０ｂをなくしたものであ
る。この図２に示すプロセスでも図１と同様に排ガスヘ
リウムの精製が可能であるが、各ＰＳＡ吸着塔２１ａ〜
２１ｄの容積が大型化する分、大気に排出するヘリウム
ガス量が増加し、回収率を下げる原因となってしまう。
【００３３】
【実施例】前記図１に示すプロセスを用いて実験を行っ
た。大気圧プラズマ発生装置１から排出されるヘリウム
７４容量％、酸素３．７容量％、窒素１４．９容量％、
アルゴン７．４容量％、水分飽和の排ガスヘリウム８Ｎ
ｍ3／Ｈｒを、ブロアー３によって１００ｍｍＡｑの圧
力に昇圧して排出し、脱着ガス回収タンク２６からのガ
ス１．５Ｎｍ3／Ｈｒと混合したのち、圧縮機５によっ
て０．７ＭＰａ・Ｇまで昇圧して冷却器７に導入し、冷
却器７で冷却水８と間接熱交換させて２５℃まで冷却
し、飽和水蒸気以上の水分を凝縮させたのち、凝縮した
水分をドレンポット９で分離した。
た。大気圧プラズマ発生装置１から排出されるヘリウム
７４容量％、酸素３．７容量％、窒素１４．９容量％、
アルゴン７．４容量％、水分飽和の排ガスヘリウム８Ｎ
ｍ3／Ｈｒを、ブロアー３によって１００ｍｍＡｑの圧
力に昇圧して排出し、脱着ガス回収タンク２６からのガ
ス１．５Ｎｍ3／Ｈｒと混合したのち、圧縮機５によっ
て０．７ＭＰａ・Ｇまで昇圧して冷却器７に導入し、冷
却器７で冷却水８と間接熱交換させて２５℃まで冷却
し、飽和水蒸気以上の水分を凝縮させたのち、凝縮した
水分をドレンポット９で分離した。
【００３４】しかるのち、活性アルミナを充填した水分
除去吸着装置１０ａ、１０ｂに導入し、水分の殆どを活
性アルミナに吸着させた。次いで、水分の殆どを除去さ
れた排ガスヘリウムは、下部に活性炭：上部に合成ゼオ
ライト＝３：１の高さで２層に充填したＰＳＡ吸着装置
２１ａ〜２１ｄに導入し、排ガスヘリウム中の酸素、窒
素、アルゴン等を活性炭および合成ゼオライトに吸着さ
せ、ヘリウム９９．９９７％以上、酸素１０ｐｐｍ以
下、窒素１０ｐｐｍ以下、アルゴン１０ｐｐｍ以下、水
分（露点−７０℃以下）となったヘリウムガスを、ＰＳ
Ａ吸着装置２１ａ〜２１ｄから温度２５℃、流量５Ｎｍ
3／Ｈｒで流出させ、ヘリウムガスタンク３３に回収し
た。
除去吸着装置１０ａ、１０ｂに導入し、水分の殆どを活
性アルミナに吸着させた。次いで、水分の殆どを除去さ
れた排ガスヘリウムは、下部に活性炭：上部に合成ゼオ
ライト＝３：１の高さで２層に充填したＰＳＡ吸着装置
２１ａ〜２１ｄに導入し、排ガスヘリウム中の酸素、窒
素、アルゴン等を活性炭および合成ゼオライトに吸着さ
せ、ヘリウム９９．９９７％以上、酸素１０ｐｐｍ以
下、窒素１０ｐｐｍ以下、アルゴン１０ｐｐｍ以下、水
分（露点−７０℃以下）となったヘリウムガスを、ＰＳ
Ａ吸着装置２１ａ〜２１ｄから温度２５℃、流量５Ｎｍ
3／Ｈｒで流出させ、ヘリウムガスタンク３３に回収し
た。
【００３５】ヘリウムガスタンク３３に回収した精製ヘ
リウムガスは、圧力調整弁３７によって０．２ＭＰａ・
Ｇまで減圧し、高純度ヘリウムガスとして大気圧プラズ
マ発生装置１で再使用することができた。この場合、排
ガスヘリウム（８Ｎｍ3／Ｈｒ、ヘリウム純度７４容量
％）に対し、回収した精製ヘリウム（５Ｎｍ3／Ｈｒ、
ヘリウム純度９９．９９７容量％）であるから、ヘリウ
ム回収率８５％といった高回収率で、かつ高純度でヘリ
ウムを回収することができた。
リウムガスは、圧力調整弁３７によって０．２ＭＰａ・
Ｇまで減圧し、高純度ヘリウムガスとして大気圧プラズ
マ発生装置１で再使用することができた。この場合、排
ガスヘリウム（８Ｎｍ3／Ｈｒ、ヘリウム純度７４容量
％）に対し、回収した精製ヘリウム（５Ｎｍ3／Ｈｒ、
ヘリウム純度９９．９９７容量％）であるから、ヘリウ
ム回収率８５％といった高回収率で、かつ高純度でヘリ
ウムを回収することができた。
【００３６】
【発明の効果】本発明の排ガスヘリウムの精製方法は、
大気圧プラズマ発生装置から排出される排ガスヘリウム
を放出することなく、ＰＳＡ法を主体としたプロセスを
用い、低コストで、しかも高純度に精製して高収率で回
収再利用することができ、大気圧プラズマ発生装置のガ
スコストを低減することができる。
大気圧プラズマ発生装置から排出される排ガスヘリウム
を放出することなく、ＰＳＡ法を主体としたプロセスを
用い、低コストで、しかも高純度に精製して高収率で回
収再利用することができ、大気圧プラズマ発生装置のガ
スコストを低減することができる。
【図１】この発明の排ガスヘリウムの精製方法の一例を
示す系統図である。
示す系統図である。
【図２】この発明の排ガスヘリウムの精製方法の他の一
例を示す系統図である。
例を示す系統図である。
１ 大気圧プラズマ発生装置 ２、４、６、１１、１６、２０、２７、３４ 配管 ３ ブロアー ５ 圧縮機 ７ 排ガス冷却器 ８ 冷却水 ９ ドレンポット １０ａ、１０ｂ 第１吸着装置 １２ａ、１２ｂ、１３ａ、１３ｂ、１４ａ、１４ｂ、１
５ａ、１５ｂ、１８、１９ 切替弁 １７、３０ 真空ポンブ ２１ａ〜２１ｄ ＰＳＡ吸着塔 ２２ａ〜２２ｄ、２３ａ〜２３ｄ、２４ａ〜２４ｄ、２
５ａ〜２５ｄ、２９ａ〜２９ｄ、３１、３２ 切替弁 ２６ 脱着ガス回収タンク ２８ 流量調整弁 ３３ ヘリウムガスタンク ３５、３７、３８ 圧力調整弁 ３６ ガス供給装置
５ａ、１５ｂ、１８、１９ 切替弁 １７、３０ 真空ポンブ ２１ａ〜２１ｄ ＰＳＡ吸着塔 ２２ａ〜２２ｄ、２３ａ〜２３ｄ、２４ａ〜２４ｄ、２
５ａ〜２５ｄ、２９ａ〜２９ｄ、３１、３２ 切替弁 ２６ 脱着ガス回収タンク ２８ 流量調整弁 ３３ ヘリウムガスタンク ３５、３７、３８ 圧力調整弁 ３６ ガス供給装置
Claims (2)
- 【請求項１】 大気圧プラズマ発生装置から排出された
ヘリウムガスを主成分とし、不純物として酸素、窒素、
アルゴン、水分等を含む排ガスヘリウムを、精製に必要
な圧力まで昇圧したのち、水分を選択的に吸着する吸着
剤が充填された第１吸着装置に導入して水分を吸着除去
し、次いで活性炭と合成ゼオライトを２層に充填した第
２吸着装置内に導入して酸素、窒素、アルゴンを吸着除
去し、高純度ヘリウムを回収することを特徴とするヘリ
ウムガスの精製方法。 - 【請求項２】 大気圧プラズマ発生装置から排出された
ヘリウムガスを主成分とし、不純物として酸素、窒素、
アルゴン、水分等を含む排ガスヘリウムを、精製に必要
な圧力まで昇圧したのち、水分を選択的に吸着する吸着
剤、活性炭、合成ゼオライトを３層に充填したＰＳＡ吸
着装置内に導入し、水分、酸素、窒素、アルゴンを吸着
除去し、高純度ヘリウムを回収することを特徴とするヘ
リウムガスの精製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000330396A JP4070399B2 (ja) | 2000-10-30 | 2000-10-30 | ヘリウムガスの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000330396A JP4070399B2 (ja) | 2000-10-30 | 2000-10-30 | ヘリウムガスの精製方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002137909A true JP2002137909A (ja) | 2002-05-14 |
| JP2002137909A5 JP2002137909A5 (ja) | 2005-08-11 |
| JP4070399B2 JP4070399B2 (ja) | 2008-04-02 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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|---|---|
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Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010275150A (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-09 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | ヘリウム精製方法およびヘリウム精製装置 |
| JP2010285317A (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-24 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | アルゴン精製方法、アルゴン精製装置、目的ガス精製方法、および目的ガス精製装置 |
| CN108786371A (zh) * | 2018-08-01 | 2018-11-13 | 成都益志科技有限责任公司 | 一种高温富氧烟气回收氧气系统及其回收方法 |
| JP2022070440A (ja) * | 2020-10-27 | 2022-05-13 | 大陽日酸株式会社 | ガス精製装置及びガス精製方法 |
| JP7148748B1 (ja) | 2022-03-11 | 2022-10-05 | 大陽日酸株式会社 | ガス精製装置 |
| JP7289908B1 (ja) | 2021-12-28 | 2023-06-12 | 大陽日酸株式会社 | 圧力変動吸着式ガス分離装置 |
| JP7289909B1 (ja) | 2021-12-28 | 2023-06-12 | 大陽日酸株式会社 | 圧力変動吸着式ガス分離装置 |
| WO2023127485A1 (ja) * | 2021-12-28 | 2023-07-06 | 大陽日酸株式会社 | 圧力変動吸着式ガス分離装置 |
| JP2023097966A (ja) * | 2021-12-28 | 2023-07-10 | 大陽日酸株式会社 | 圧力変動吸着式ガス分離装置 |
| WO2024131552A1 (zh) * | 2022-12-23 | 2024-06-27 | 长庆工程设计有限公司 | 天然气提氦联产多产品的系统及方法 |
-
2000
- 2000-10-30 JP JP2000330396A patent/JP4070399B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| CN108786371B (zh) * | 2018-08-01 | 2023-10-13 | 成都益志科技有限责任公司 | 一种高温富氧烟气回收氧气系统及其回收方法 |
| CN108786371A (zh) * | 2018-08-01 | 2018-11-13 | 成都益志科技有限责任公司 | 一种高温富氧烟气回收氧气系统及其回收方法 |
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| JP7289909B1 (ja) | 2021-12-28 | 2023-06-12 | 大陽日酸株式会社 | 圧力変動吸着式ガス分離装置 |
| WO2023127485A1 (ja) * | 2021-12-28 | 2023-07-06 | 大陽日酸株式会社 | 圧力変動吸着式ガス分離装置 |
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