JP2006346273A - 椅子型マッサージ機 - Google Patents

Abstract

【課題】 踵及び足裏を効果的に施療することができる椅子型マッサージ機を提供する。
【解決手段】 被施療者ｈが着座するための座面３ａと、着座した被施療者ｈが土踏まずｈ６を載せることのできる土踏まず用突起５ｔと、土踏まず用突起５ｔに土踏まずｈ６を載せた足載置状態で踵ｈ３を挟んで押圧することのできる踵施療エアセル５３とを有する椅子型マッサージ機１とした。
【選択図】 図１

Description

本発明は、椅子型マッサージ機に関するものである。

椅子型マッサージ機には、踵や足裏をマッサージできるものがある。たとえば特許文献１には、被施療者の足底を支持する足底支持面と、該足底支持面の後ろ側に立設され踵の後部を支持する踵支持面とを備え、踵支持面には踵の後部を挟んで押圧する踵施療部が設けられ、足底支持面には足底を押圧する足底施療部が設けられている椅子型マッサージ機が開示されている。
特開２００４−２１５９３８号公報（請求項１、請求項５、請求項８、図３、図６等）

人体の踵はその端部に向かって徐々に細くなる形状であるため、踵を挟んで押圧する踵施療部の押圧力は、足裏長手方向に対して足指側に傾斜することとなり、当該足指方向に向かう分力を生ずる。よって、踵施療部で踵を挟持することにより当該踵が踵施療部から押し出されるように移動してしまい、踵施療部による効果的な押圧ができなくなる場合があった。また、上記のように踵が押し出されて足裏（足底）が足指方向に移動してしまうと、足裏への押圧位置がずれてしまうため、足裏への施療効果も低下する場合があった。

本発明はかかる状況に鑑みなされたものであって、踵及び足裏を効果的に施療することができる椅子型マッサージ機を提供することを目的としている。

本発明の椅子型マッサージ機は、被施療者が着座するための座面と、着座した上記被施療者が土踏まずを載せることのできる土踏まず用突起と、上記土踏まず用突起に土踏まずを載せた足載置状態で、踵を挟んで押圧することのできる踵施療部と、を有することを特徴とする。
この場合、土踏まず用突起の凸部を凹状の土踏まずに当接させながら踵を施療することができるので、土踏まず用突起の物理的係止効果により、踵を挟んで押圧しても足裏が足指方向に逃げにくく（移動しにくく）なる。また、土踏まず用突起は土踏まずに対して指圧効果を奏する。よって、踵及び土踏まずが効果的に施療される。

上記土踏まず用突起の周囲であって上記足載置状態における踵配置側には、上記土踏まず用突起よりも足裏法線方向下方に拡がる空間が設けられているのが好ましい。この場合、被施療者が足首の角度を変えて踵を上記空間に挿入することができるので、土踏まず用突起に対する足裏の当接角度や当接位置の自由度が高まる。よって、土踏まず用突起による足裏への施療効果が一層高くなる。

また、上記土踏まず用突起の周囲であって上記足載置状態における踵配置側は、足裏法線方向下方にむかって開放されているのが好ましい。この場合、上記した踵配置側の空間が確保されるのに加え、足裏がムレにくくなり、また足裏から離脱したゴミや埃などが土踏まず用突起近傍に溜まりにくくなる。よって、極めて快適な状態で足裏を施療することができる。

また、上記足載置状態における上記踵配置位置の足裏長手方向後方に踵を挿入しうる空間が設けられているのが好ましい。この場合、当該空間に踵を挿入して足裏の足裏長手方向位置をずらすことができ、足裏の足裏長手方向位置の自由度が高まる。よって、土踏まず用突起を足裏の好みの位置に当接させることができる。また、踵施療部による施療位置の選択自由度が高まる。

上記土踏まず用突起は被施療者の土踏まずに直接当接するように露出しているのが好ましい。
この場合、土踏まず用突起を覆うカバー体等により土踏まず用突起が平坦化されてしまうことがない。よって、上述した土踏まず用突起の物理的係止効果がより一層高まり、土踏まず及び踵への施療がより効果的となる。

踵を挟んで施療する踵施療部と土踏まず用突起とを用いることにより、足裏の移動を抑制することができ、踵及び足裏の効果的な施療が可能となる。

以下に、本発明の実施形態を図面を参照しつつ説明する。
図１は、本発明の一実施形態である椅子型マッサージ機１の全体を示す斜視図であり、図２はその側面図である。これらの図に示すように、椅子型マッサージ機１は、着座した被施療者ｈの背中や頭部を支持しうる背もたれ部２と、上記被施療者ｈの尻部や太股部を支持しうる座面３ａを上面とする座部３と、左右両側に設けられ上記被施療者ｈの肘を支持しうる肘掛け部４と、上記被施療者ｈのふくらはぎや足裏が配置されうるフットレスト５とを備えている。なお図１では、フットレスト５の内部機構を開示すべく、フットレスト５を覆うカバーを除去した状態の図としている。

図示されないが、背もたれ部２や座部３の内部には被施療者ｈを施療するためのエアセルや施療子、バイブレータ等の施療体が適宜配置されている。また、座部３の下部には、これらのエアセル及び後述するフットレスト５のエアセルにエアを供給するエア供給機構や、各施療体の動作を制御する制御部等が収容されている（図示省略）。そして図１に示すように、フットレスト５には、ふくらはぎ、踵、足裏等を施療するためのエアセルが多数配置されている（詳細は後述する）。

椅子型マッサージ機１は、背もたれ部２の傾斜角度を可変とするリクライニング機構ｒを有している。図６及び図７は、リクライニング機構ｒの内部機構を示す側面図である。これらの図に示すように、リクライニング機構ｒは、座部３内に設けられ座部３の奥行き方向に延びるフレーム部材７と、フレーム部材７の一端部（背もたれ部２側の端部）と背もたれ部２の下部とを回動可能に連結する第一回動軸ｚ１と、背もたれ部２の下部に配置された第二回動軸ｚ２と、フレーム部材７の他端部（フットレスト５側の端部）に配置された第三回動軸ｚ３とを有している。第二回動軸ｚ２は、第一回動軸ｚ１よりも背もたれ部長手方向下端側に配置されている。また第二回動軸ｚ２は、背もたれ部２の下端部に配置されている。第一回動軸ｚ１は、背もたれ部２の下部であって座部３の座面近傍に配置されている。そして、伸縮可能なアクチュエータ６の一端部が第二回動軸ｚ２により背もたれ部２の下部と回動可能に連結され、アクチュエータ６の他端部が第三回動軸ｚ３によりフレーム部材７の他端部と回動可能に連結されている。かかる構造のリクライニング機構ｒは、アクチュエータ６が伸びるほど背もたれ部２が倒れ、アクチュエータ６が縮むほど背もたれ部２が起立する。図６は背もたれ部２が最も起立した状態の図であり、図７は背もたれ部２を所定角度倒した状態の図である。
なお、座部３のフレーム部材７は座部３の左右両側に設けられているが、図６及び図７においては、リクライニング機構ｒの内部機構を見やすくするため、左右両側に配置されたフレーム部材７のうち図面手前側のフレーム部材７を取り除いた図としている。

また椅子型マッサージ機１は、背もたれ部２の上記傾動と連動してフットレスト５の座部３（あるいは椅子設置面）に対する角度を変化させるフットレスト角度連動機構ｆを有している。図６及び図７に示すように、フットレスト角度連動機構ｆは、背もたれ部２の下部に設けられた回動軸ｚ４と、その一端部が回動軸ｚ４により背もたれ部２の下部と接続されるとともに、その他端部がフットレスト５（の裏側部分５ｃ）と当接するリンク部材９と、リンク部材９の上記一端部と上記他端部との間においてリンク部材９をスライド自在に挟持する一対のローラ１５とを有している。ローラ１５は、左右両側のフレーム部材７の他端部同士を連結し左右方向に延びる横断フレーム部材８に固定されている。このローラ１５は、座部３とリンク部材９との間隔を維持しつつリンク部材９のスライド移動を可能としている。背もたれ部２が傾く方向に傾動すると、リンク部材９は、回動軸ｚ４回りに回動するとともにローラ１５に対して前側（フットレスト５側）にスライド移動して、フットレスト５を押し上げる。リンク部材９の他端部は、フットレスト５の裏面部に当接しているが、その当接位置は固定されていない。よって、フットレスト５の傾動に伴い、リンク部材９の他端部はフットレスト５の裏面部を摺動（すべり移動）しながらフットレスト５を押し上げる。

フットレスト５について更に詳細に説明する。フットレスト５は、座部３の前部に回動可能に取り付けられており、上記フットレスト角度連動機構ｆにより座部３あるいは椅子設置面（水平面）に対して傾動する。
またフットレスト５は、フットレスト５を座部３に対して接離可能とする第一接離機構を有する。図７に示すように、フットレスト５の第一分割体５ａは、フットレスト支持軸ｚ５により座部３に回動可能に連結されている。そして、第一分割体５ａとフットレスト支持軸ｚ５とは、第一分割体５ａに対してスライド可能な第一スライド体５ｄにより連結されている。第一分割体５ａが第一スライド体５ｄ上をスライドすることにより座部３とフットレスト５との間隔が変化する。図７は、上記第一接離機構によりフットレスト５を座部３から離間させた状態を示している。

またフットレスト５は、主として被施療者ｈのふくらはぎを施療するための第一分割体５ａと、主として被施療者ｈの踵、足の甲、及び足裏を施療するための第二分割体５ｂとを備えた分割構造とされている。さらにフットレスト５は、第一分割体５ａと第二分割体５ｂとを互いに接離可能とする第二接離機構を有する。すなわち図７に示すように、第一分割体５ａと第二分割体５ｂとは第二スライド体５ｅにより連結されている。この第二スライド体５ｅは、第一分割体５ａ又は第二分割体５ｂのいずれか一方に固定され他方とはスライド可能とされている。かかる第二スライド体５ｅにより、第一分割体５ａと第二分割体５ｂとの間隔が変化する。図７は、上記第二接離機構により第一分割体５ａと第二分割体５ｂとを互いに離間させた状態を示す。
上述した第一接離機構及び第二接離機構により、被施療者ｈの脚の長さや着座状態に合わせて第一分割体５ａや第二分割体５ｂの配置を調節することができる。

図示しないが、上記第一接離機構及び第二接離機構のそれぞれは、接離間隔を狭める方向に付勢する弾性体（バネ等）を有している。具体的には、第一スライド体５ｄ及び第二スライド体５ｅのそれぞれには、バネ等の弾性体が備えられている。第一スライド体５ｄの弾性体は、第一分割体５ａと座部３との間隔を狭める方向（第一スライド体５ｄを縮める方向）に付勢している。第二スライド体５ｅの弾性体は、第一分割体５ａと第二分割体５ｂとの間隔を狭める方向（第二スライド体５ｅを縮める方向）に付勢している。これらの弾性体の付勢力を超える伸長方向の力を与えることにより、各スライド体５ｄ，５ｅが伸長する。第一スライド体５ｄの弾性体の弾性係数（バネ定数等）を、第二スライド体５ｅの弾性体の弾性係数（バネ定数等）よりも大きくした場合、第一スライド体５ｄのスライド量よりも第二スライド体５ｅのスライド量を大きくすることができる。なぜならこの場合、弾性係数の小さい第二スライド体５ｅが弾性係数の大きい第一スライド体５ｄよりも優先的に伸長するからである。逆に第一スライド体５ｄの弾性体の弾性係数（バネ定数等）を、第二スライド体５ｅの弾性体の弾性係数（バネ定数等）よりも小さくした場合、第二スライド体５ｅのスライド量よりも第一スライド体５ｄのスライド量を大きくすることができる。なぜならこの場合、弾性係数の小さい第一スライド体５ｄが弾性係数の大きい第二スライド体５ｅよりも優先的に伸長するからである。このように、第一接離機構と第二接離機構の両方に弾性体（バネ等）を設けると、それぞれの弾性体（バネ）の強さ（弾性係数）を調節することにより第一分割体５ａや第二分割体５ｂの配置のさせ方（座部３に対するフットレスト５の配置、及び、第一分割体５ａと第二分割体５ｂとの相互間隔）を変更することができる。

図１に示すように、フットレスト５の第一分割体５ａは、左右両側に立設され互いに対向する第一両側壁部５ａ１を有している。これら第一両側壁部５ａ１の左右方向内側面には、ふくらはぎを外側から押圧するための外側エアセル５１が設けられている。また両第一両側壁部５ａ１間の左右方向中央位置には、ふくらはぎを内側から押圧するための中央エアセル５２が設けられている。この中央エアセル５２は、フットレスト５の左右方向中央線を挟んで左右それぞれに設けられている。そして、被施療者ｈが施療を受ける際には、被施療者の左右の脚（のふくらはぎ部）のそれぞれが外側エアセル５１と中央エアセル５２との間に配置される。外側エアセル５１はエアの供給によって左右方向内側に膨張し、中央エアセル５２はエアの供給によって左右方向外側に膨張する。よって第一分割体５ａは、外側エアセル５１と中央エアセル５２とにより被施療者ｈのふくらはぎを挟み込んで施療することができる。

次にフットレスト５の第二分割体５ｂについて説明する。
なお、本願においては、フットレスト５及び第二分割体５ｂに対する方向を次のように定める。図２に示すように着座状態の被施療者ｈの脚を、足首角度を略９０度とした通常の状態でフットレスト５に配置した基準足載置状態において、被施療者ｈの足裏ｈ１の長手方向に略沿った方向を足裏長手方向Ｕとし、足裏面に対する法線方向（被施療者ｈのふくらはぎｈ２の長手方向）に略沿った方向を足裏法線方向Ｈとする。足裏長手方向Ｕと足裏法線方向Ｈとは互いに略垂直である。

そして、足裏長手方向Ｕのうち、上記基準足載置状態の被施療者ｈにおける踵ｈ３から足指ｈ４へと向かう方向を足裏長手方向前方Ｕ１とし、逆に足指ｈ４から踵ｈ３へと向かう方向を足裏長手方向後方Ｕ２とする（図２等参照）。
また、足裏法線方向Ｈのうち、上記基準足載置状態の被施療者ｈにおける足裏ｈ１から膝ｈ５へと向かう方向を足裏法線方向上方Ｈ１とし、逆に膝ｈ５から足裏ｈ１へと向かう方向を足裏法線方向下方Ｈ２とする（図２等参照）。

よって、椅子型マッサージ機１の左右方向ｓｙは、足裏長手方向Ｕに垂直で且つ足裏法線方向Ｈに垂直な方向となる。また図７に示すように、フットレスト５の傾動に伴い足裏長手方向Ｕ及び足裏法線方向Ｈと鉛直方向との関係は変動する。フットレスト５は、その足裏法線方向Ｈが略鉛直方向となる状態（図１及び図２に示す）から、足裏法線方向Ｈが水平に近い状態にまで回動することができる。

図３は、第二分割体５ｂ単体を足裏法線方向上方からみた図であり、図４は第二分割体５ｂ単体を足裏長手方向前方からみた図である。図１、図３及び図４で示すように、第二分割体５ｂは、左右両側に立設され互いに対向する第二両側壁部５ｂ１と、これら第二両側壁部５ｂ１間における左右方向中央位置に立設された第二中央壁部５ｂ２とを有している。

図３に示すように、第二両側壁部５ｂ１は、第二中央壁部５ｂ２と対向する後壁部５ｃ１と、この後壁部５ｃ１から足裏長手方向前方に延びるとともに第二中央壁部５ｂ２よりも足裏長手方向前方に突出する前壁部５ｃ２とを有する。後壁部５ｃ１と第二中央壁部５ｂ２（の側面）とは互いに左右方向に対向しているが、その左右方向対向間隔は、足裏長手方向後方にいくにつれて徐々に狭くなっている。そして、後壁部５ｃ１及び第二中央壁部５ｂ２の両対向面には、踵施療部として、被施療者ｈの踵ｈ３を左右両側から挟んで押圧するための踵施療エアセル５３が設けられている。踵施療エアセル５３は、踵ｈ３に加えて被施療者ｈのアキレス腱をも左右両側から挟んで施療することができる。

図４及び図３に示すように、踵施療エアセル５３の足裏法線方向下端位置で且つ踵施療エアセル５３の足裏長手方向前端位置には土踏まず用突起５ｔが設けられている。土踏まず用突起５ｔは、上述した基準足載置状態における被施療者ｈの土踏まずｈ６配置位置に略対応した位置に設けられている。左右の土踏まず用突起５ｔのそれぞれは、足裏法線方向上方に向かって突出した形状をなしているので（図４参照）、土踏まずｈ６をはじめ被施療者ｈの足裏ｈ１を刺激することができる。また、土踏まず用突起５ｔは、互いに対向する第二両側壁部５ｂ１同士を左右方向に連結する棒状体５ｇにより支持されている。この棒状体５ｇの足裏長手方向幅は、土踏まず用突起５ｔの足裏長手方向幅よりも小さい。第二分割体５ｂでは、上記足載置状態おける足裏の足裏法線方向下方に存在するのは土踏まず用突起５ｔ及び棒状体５ｇのみである。したがって第二分割体５ｂでは、土踏まず用突起５ｔの周囲であって上記足載置状態における踵配置側は、足裏法線方向下方にむかって開放されている。さらに、土踏まず用突起５ｔの周囲であって上記足載置状態における足指配置側は、足裏法線方向下方にむかって開放されている。
なお、土踏まず用突起５ｔの材質は特に限定されず、樹脂、ゴム、金属等を適宜用いることができる。

このように足裏法線方向下方に向かって開放させた結果、土踏まず用突起５ｔの周囲であって上記足載置状態における踵配置側には、土踏まず用突起５ｔ（の足裏法線方向下端位置ｐ５；図８において破線で示す）よりも足裏法線方向下方に拡がる空間としての第二空間ｋ２が設けられている（図３及び図８参照）。この場合、図８（ｂ）に示すように、被施療者ｈ被施療者が足首の角度を変える（９０度よりも小さくする）等により踵ｈ３を第二空間ｋ２に挿入することができる。換言すれば、踵ｈ３を土踏まず用突起５ｔの足裏法線方向下端位置ｐ５よりも足裏長手方向下方に位置させることができる（図８（ｂ）参照）。よって、土踏まず用突起５ｔに対する足裏の当接角度や当接位置の自由度が高まる。したがって、土踏まず用突起５ｔによる足裏への施療効果が一層高くなる。また、第二分割体５ｂでは、第二空間ｋ２を設けるのみならず、上記足載置状態における踵配置側を足裏法線方向下方にむかって開放させた。よって、上記した第二空間ｋ２が確保されるのに加え、足裏がムレにくくなり、また足裏から離脱したゴミや埃などが土踏まず用突起５ｔ近傍に溜まりにくくなるので、極めて快適な状態で足裏を施療することができる。
また、上記のように開放させたことにより、開放させない場合（たとえば特許文献１における足底支持面を設けた場合）と比較してフットレスト５を軽量化することができる。よって、フットレスト５を傾動させるための駆動装置（上記アクチュエータ６）の負担を軽減させることができ、当該駆動装置を小型化あるいは軽量化することができる。

またフットレスト５（の第二分割体５ｂ）には、足裏面の略全体を支持しうる足裏支持面（たとえば上述した特許文献１における足底支持面）が設けられていない。足裏支持面を設けた場合、図２のようにフットレスト５を起立させた場合において足裏ｈ１の位置が高くなるから、これに対応させて座面３ａなど椅子型マッサージ機１の全体を高くする必要が生ずる。しかし、椅子型マッサージ機１では、足裏支持面の厚みを確保する必要がないので、椅子全体を低くでき、椅子の小型化が可能となる。

図３に示すように、踵施療エアセル５３は、土踏まず用突起５ｔに被施療者ｈの土踏まずｈ６を載せた足載置状態において、踵ｈ３を挟んで押圧することができる位置に配置されている。そして、上記足載置状態における踵ｈ３の足裏長手方向後方には第一空間ｋ１が設けられている。すなわち、上記足載置状態において、踵ｈ３の足裏長手方向後方には踵ｈ３を挿入しうる第一空間ｋ１が確保されている。よって、第一空間ｋ１に踵ｈ３を挿入することにより足裏の足裏長手方向位置を調節することができるとともに、土踏まずｈ６を正確に土踏まず用突起５ｔ上に配置することができる。また、踵施療エアセル５３による施療位置の選択自由度が高まる。仮に第一空間ｋ１のような空間がなく、踵ｈ３の足裏長手方向後方に設けられた当接面に踵ｈ３を面当接させて足裏の位置決め（足裏長手方向位置の位置決め）を行う場合、足裏の足裏長手方向位置が当該踵当接面の位置に拘束されてしまい、土踏まずｈ６が土踏まず用突起５ｔからずれてしまうことがある。またこの場合、足裏を足裏長手方向後方にずらすことができないため、土踏まず用突起５ｔを好みの位置に配置できなかったり、踵施療エアセル５３による踵ｈ３の施療位置がずれたりしやすい。しかし上記構成とすることにより、足裏長手方向に対する足裏の位置自由度が高まるとともに、土踏まずｈ６の位置を基準として足裏の足裏長手方向位置を調節することができる。よって、土踏まずｈ６を土踏まず用突起５ｔ上に正確に配置することができ、また土踏まず用突起５ｔや側面エアセル５４による施療効果が高まる。

図３に示すように、人体の踵ｈ３はその端部に向かって徐々に細くなる形状である。さらに、互いに対向する踵施療エアセル５３は、踵ｈ３の形状に沿わせるべく、その対向間隔が足裏長手方向後方にいくにつれて狭くなるように配置されている。そのため、踵を挟んで押圧する踵施療エアセル５３の押圧力は、足裏長手方向に対して足指側に傾斜することとなり、当該足指方向に向かう分力を生ずる。よって、踵施療エアセル５３で踵ｈ３を挟持することにより当該踵（すなわち足裏全体）が踵施療部から押し出されるように移動しやすい。しかし、上記構成の第二分割体５ｂによれば、土踏まず用突起５ｔの凸部を凹状の土踏まずに当接させながら踵ｈ３を施療することができるので、土踏まず用突起５ｔの物理的係止効果により、踵ｈ３を挟持押圧しても足裏が足指方向に（足裏長手方向前方に）逃げにくく（移動しにくく）なる。よって、踵ｈ３や土踏まずｈ６が効果的に施療される。

足裏が足裏長手方向前方に移動しにくくなると、第一分割体５ａによるふくらはぎへの施療効果も高くなる。足裏が足裏長手方向前方にずれると、ふくらはぎも同方向のずれることとなり、ふくらはぎｈ２が外側エアセル５１と中央エアセル５２との間から移動してしまう。よってこの場合、エアセル５１，５２によるふくらはぎｈ２への施療効果が減少する。しかし、上述したように、足裏が足裏長手方向前方に移動しにくくなるので、ふくらはぎｈ２への施療効果も高くなる。

図１等で記載を省略したが、フットレスト５に設けられたエアセル、すなわち外側エアセル５１、中央エアセル５２、踵施療エアセル５３、側面エアセル５４は布や皮革等よりなるカバー体で覆われている。しかし、土踏まず用突起５ｔはカバー体等で覆われておらず露出している。よって土踏まず用突起５ｔは、被施療者ｈの土踏まずｈ６に直接当接する。この場合、土踏まず用突起を覆うカバー体等により土踏まず用突起５ｔが平坦化されてしまうことがない。よって、土踏まず用突起５ｔの物理的係止効果がより一層高まり、土踏まずｈ６及び踵ｈ３への施療がより効果的となる。

第二分割体５ｂには、上述した踵施療エアセル５３の他にもエアセルが設けられている。すなわち、互いに対向する左右の前壁部５ｃ２の当該対向面のそれぞれには、主として被施療者ｈの足の甲ｈ７を押圧するための側面エアセル５４が設けられている。この側面エアセル５４は、重ねられた複数の空気室を互いに連通させることにより蛇腹状に構成されている。そして、図５に示すように、側面エアセル５４は、その足裏法線方向下側を支点として略扇状に膨張するようになっている。よって側面エアセル５４は、土踏まず用突起５ｔに土踏まずｈ６を載せた足載置状態における足の甲ｈ７を押圧することができる。

図３に示すように、土踏まず用突起５ｔの足裏長手方向中央位置Ｐ１は、側面エアセル５４の足裏長手方向設置範囲Ｗ１に含まれている。よって、土踏まず用突起５ｔと側面エアセル５４とで被施療者ｈの足を効率よく挟んで施療することができる。換言すれば、側面エアセル５４により被施療者ｈの足を土踏まず用突起５ｔに対して効率よく押し付けることができる。よって、土踏まず用突起５ｔによる施療効果（押圧効果）が一層高められている。

また、図３に示すように、側面エアセル５４の足裏長手方向中央位置Ｐ２は、上述した土踏まず用突起５ｔの足裏長手方向中央位置Ｐ１よりも足裏長手方向前方に位置している。さらに側面エアセル５４の足裏長手方向中央位置Ｐ２は、土踏まず用突起５ｔのうちで足裏法線方向上方に最も突出する最突出位置Ｐ３よりも足裏長手方向前方に位置している。よって、側面エアセル５４が膨張すると、当該側面エアセル５４の押圧力とこれに伴う土踏まず用突起５ｔからの抗力により足の甲ｈ７の足指寄りの部分が足裏法線方向下方に押し曲げられる。よって、前述した土踏まず用突起５ｔによる物理的係止効果がより一層高められ、且つ土踏まず用突起５ｔによる指圧効果も高まる。よって、フットレスト５による施療が極めて効果的となる。

なお、土踏まず用突起５ｔは、棒状体５ｇに対して着脱可能とされている。すなわち土踏まず用突起５ｔは、弾性変形させることにより断面円形の棒状体５ｇの周面に外嵌させうる係止用突起５ｔ１により棒状体５ｇに取り付けられている。よって、土踏まず用突起５ｔの取替が容易となり、被施療者ｈの好みにより大きさ、形状、又は硬さなどの仕様を変えた土踏まず用突起５ｔを選択することができる。なお、棒状体５ｇ及び／又は土踏まず用突起５ｔには、棒状体５ｇの長手方向に対する土踏まず用突起５ｔの移動を防止するための係止機構（凹凸や段差等）を設けるのが好ましい。また、棒状体５ｇ及び／又は土踏まず用突起５ｔには、棒状体５ｇの周方向に対する土踏まず用突起５ｔの回転を防止するための係止機構（凹凸や段差等）を設けるのが好ましい。これらの係止機構により、土踏まず用突起５ｔの位置固定が確実となり、土踏まず用突起５ｔによる施療効果が高まる。
更に、棒状体５ｇ及び／又は土踏まず用突起５ｔには、左右方向に対する土踏まず用突起５ｔの固定位置を調節するための調節機構を設けても良い。また、棒状体５ｇ及び／又は土踏まず用突起５ｔには、棒状体５ｇの土踏まず用突起５ｔに対する周方向位置を調節するための調節機構を設けても良い。これらの調節機構によれば、被施療者ｈの好みによって土踏まず用突起５ｔの配置を変更できるから、土踏まず用突起５ｔによる施療効果を更に高めることができる。

本発明の一実施形態である椅子型マッサージ機の斜視図である。 図１の椅子型マッサージ機の側面図である。 フットレストの第二分割体を足裏法線方向上方からみた図である。 フットレストの第二分割体を足裏長手方向前方からみた図である。 第二分割体により被施療者の足が施療される様子を示す図である。 リクライニング機構及びフットレスト角度連動機構を開示した椅子型マッサージ機の側面図であり、背もたれ部が最も起立した状態の図である。 リクライニング機構及びフットレスト角度連動機構を開示した椅子型マッサージ機の側面図であり、図６よりも背もたれ部を倒した状態の図である。 土踏まず用突起５ｔと足との当接状態を示す図である。

符号の説明

１ 椅子型マッサージ機
３ 座部
３ａ 座面
５ フットレスト
５３ 踵施療エアセル（踵施療部）
５ｔ 土踏まず用突起
Ｕ 足裏長手方向
Ｈ 足裏法線方向
ｋ１ 第一空間（足載置状態における踵配置位置の足裏長手方向後方の空間）
ｋ２ 第二空間（土踏まず用突起の周囲であって足載置状態における踵配置側において、土踏まず用突起よりも足裏法線方向下方に拡がる空間）
ｈ 被施療者
ｈ１ 足裏
ｈ３ 踵
ｈ６ 土踏まず

Claims (5)

1. 被施療者が着座するための座面と、
   着座した上記被施療者が土踏まずを載せることのできる土踏まず用突起と、
   上記土踏まず用突起に土踏まずを載せた足載置状態で、踵を挟んで押圧することのできる踵施療部と、
   を有することを特徴とする椅子型マッサージ機。
2. 上記土踏まず用突起の周囲であって上記足載置状態における踵配置側には、上記土踏まず用突起よりも足裏法線方向下方に拡がる空間が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の椅子型マッサージ機。
3. 上記土踏まず用突起の周囲であって上記足載置状態における踵配置側は、足裏法線方向下方にむかって開放されていることを特徴とする請求項１に記載の椅子型マッサージ機。
4. 上記足載置状態における上記踵配置位置の足裏長手方向後方に踵を挿入しうる空間が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の椅子型マッサージ機。
5. 上記土踏まず用突起は被施療者の土踏まずに直接当接するように露出していることを特徴とする請求項１に記載の椅子型マッサージ機。

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