JP6667164B2 - マッサージ機 - Google Patents

Description

本発明は足裏を施療可能なマッサージ機に関する。

足裏を施療可能なマッサージ機が知られている。その一例である特許文献１のマッサージ機は足を支持する足置台、および、足置台に設けられる一対の施療部を備える。各施療部は足裏を施療可能な複数のローラー、および、足置台に対して回転できるように足置台に設けられ、複数のローラーを支持する支持軸を含む。このマッサージ機によれば、各支持軸の回転にともない複数のローラーが回転し、複数のローラーが足裏と接触することにより足裏がマッサージされる。

特開平１１−２６７１６８号公報

上記マッサージ機では、各施療部の動作により足裏のうちの異なる２箇所が同時にマッサージされる。この場合、各施療部により与えられる個々の刺激についてユーザーが強い印象を受けにくい。特許文献１ではこの点について特に考慮されておらず、ユーザーに強い印象を与える点において改善の余地がある。

本発明に従うマッサージ機の一形態は、足を支持する足置台と、足裏をマッサージできるように前記足置台に設けられる第１の施療部と、足裏のうちの前記第１の施療部によりマッサージされる部位とは別の部位をマッサージできるように前記足置台に設けられる第２の施療部と、少なくとも前記第１の施療部を駆動する駆動部とを備え、前記第１の施療部は前記足置台に対して回転可能な回転ローラー、および、前記回転ローラーの外周面に設けられる少なくとも１つの凸部を含み、前記回転ローラーの外周面は足裏が前記凸部に接触することなく足裏を支持できるように前記凸部が設けられていない曲面部を含む。

上記マッサージ機は強い印象を与えるマッサージを足裏に施すことができる。

実施の形態のマッサージ機の斜視図。 図１のオットマンの内部構造を示す斜視図。 図１の足置台の断面図。 図２の足置台の内部構造を示す斜視図。 図４の足裏施療ブロックの斜視図。 図５の第１の施療部の斜視図。 図５の足裏施療部の側面図。 第１の回転状態における足裏施療部と足裏との関係を示す側面図。 第２の回転状態における足裏施療部と足裏との関係を示す側面図。 第３の回転状態における足裏施療部と足裏との関係を示す側面図。 第４の回転状態における足裏施療部と足裏との関係を示す側面図。 足裏施療部と足裏との関係を示す底面図。 足裏施療部と足裏との関係を示す底面図。 図２の足施療部を展開したときの正面図。 図２の足置台の正面図。 第１の施療部材と踝の周囲との関係を示す側面図。 第２の施療部材と踝の周囲との関係を示す側面図。

（マッサージ機が取り得る形態の一例）
〔１〕本発明に従うマッサージ機の一形態は、足を支持する足置台と、足裏をマッサージできるように前記足置台に設けられる第１の施療部と、足裏のうちの前記第１の施療部によりマッサージされる部位とは別の部位をマッサージできるように前記足置台に設けられる第２の施療部と、少なくとも前記第１の施療部を駆動する駆動部とを備え、前記第１の施療部は前記足置台に対して回転可能な回転ローラー、および、前記回転ローラーの外周面に設けられる少なくとも１つの凸部を含み、前記回転ローラーの外周面は足裏が前記凸部に接触することなく足裏を支持できるように前記凸部が設けられていない曲面部を含む。

上記マッサージ機によれば、回転ローラーの回転にともない凸部および曲面部と足裏との関係が変化する。凸部が足裏をマッサージしている状態において第２の施療部が足裏をマッサージしない場合、ユーザーは第１の施療部により足裏に与えられるマッサージ感だけを覚える。このため、第１の施療部および第２の施療部の両方により足裏がマッサージされる場合と比較して、ユーザーが足裏に施されたマッサージについて強い印象を受けやすい。一方、曲面部が足裏に接触している場合、第１の施療部は実質的に足裏をマッサージしない。この状態において第２の施療部が足裏をマッサージする場合、ユーザーが第２の施療部により足裏に与えられるマッサージ感だけを覚える。このため、第１の施療部および第２の施療部の両方により足裏がマッサージされる場合と比較して、ユーザーは足裏に施されたマッサージについて強い印象を受けやすい。このように、上記マッサージ機は強い印象を与えるマッサージを足裏に施すことができる。

〔２〕前記マッサージ機の一例によれば、前記第２の施療部は足裏をマッサージする少なくとも１つの凸部を含み、前記第１の施療部および前記第２の施療部は、前記第１の施療部の凸部の先端が足裏に接触するときのその先端の位置が、前記第２の施療部の凸部の先端が足裏に接触するときのその先端の位置よりも高くなるように前記足置台に設けられる。

上記マッサージ機によれば、第１の施療部の凸部および第２の施療部の凸部のそれぞれが足裏に接触している場合に第１の施療部の凸部により足裏が強くマッサージされる。すなわち、曲面部が足裏に接触しておらず、各施療部の凸部が足裏に接触している場合にも、強い印象を与えるマッサージを足裏に施すことができる。

〔３〕前記マッサージ機の一例によれば、前記駆動部は足の前後方向において前記第１の施療部と前記第２の施療部とを相対的に移動させる相対駆動部を含む。
〔４〕前記マッサージ機の一例によれば、前記駆動部は前記回転ローラーを支持する支持軸、および、前記支持軸を回転させるモーターをさらに含み、前記相対駆動部は前記支持軸に対して偏心回転する偏心軸、および、前記第２の施療部が少なくとも足の前後方向において前記第１の施療部に対して移動するように前記偏心軸と前記第２の施療部とを連結するリンクを含む。

〔５〕前記マッサージ機の一例によれば、前記相対駆動部は、足の前後方向において前記第１の施療部の凸部と前記第２の施療部とが最も接近する場合に前記第２の施療部が前記回転ローラーから最も離れるように構成される。

第２の施療部と凸部とが最も接近するときに第２の施療部が回転ローラーに最も接近する場合、第２の施療部と凸部とが接触しないようにリンクを長くする必要がある。このため、第２の施療部が回転ローラーから最も離れるときに第２の施療部と回転ローラーとの間隔が広くなる。これは、マッサージ機の小型化を妨げるおそれがある。一方、上記マッサージ機は上記〔５〕のとおり相対駆動部が構成されるため、マッサージ機を小型化しやすい。

〔６〕前記マッサージ機の一例によれば、前記相対駆動部は、足の前後方向において前記曲面部と前記第２の施療部とが最も接近する場合に前記第２の施療部が前記回転ローラーと最も接近するように構成される。

上記マッサージ機によれば、上記〔６〕のとおり相対駆動部が構成されるため、第２の施療部と凸部とが最も接近するときに第２の施療部が回転ローラーに最も接近する場合と比較して、マッサージ機を小型化しやすい。

〔７〕前記マッサージ機の一例によれば、前記第２の施療部の凸部は足裏における母指球、小指球、および、その間の範囲のうちの少なくとも１箇所をマッサージできるように前記相対駆動部に設けられ、前記相対駆動部は、足の前後方向において前記第２の施療部が後方に移動する場合に足裏と前記曲面部とが接触するように構成される。

凸部を前方から後方に移動させながら母子球、小指球、および、その間の範囲をマッサージすることにより、マッサージ感が強められる。上記マッサージ機によれば、そのような効果が得られるように第２の施療部が動作する場合に曲面部が足裏と接触するため、ユーザーが第２の施療部により足裏に施されたマッサージについてより強い印象を受けやすい。

〔８〕前記マッサージ機の一例によれば、前記第１の施療部は複数の前記凸部をさらに含む。
（実施の形態）
図１はマッサージ機１の外観である。マッサージ機１は例えば床面等の設置面（図示略）に設置され、商用電源（図示略）から供給される電力により駆動する。マッサージ機１は、椅子１０、施療装置２０、コントローラー３０、および、制御装置（図示略）を備える。

椅子１０の機能は身体を支持することである。椅子１０は座１１、背もたれ１２、一対の肘掛け１３、および、オットマン１００を含む。背もたれ１２は例えば座１１の後方に設けられ、座１１との接続部分を軸として回転可能に座１１に取り付けられている。オットマン１００は例えば座１１の前方に設けられ、座１１との接続部分を軸として回転可能に座１１に取り付けられている。

施療装置２０の機能は各種のマッサージ動作を形成し、身体の背中等をマッサージすることである。施療装置２０は施療ブロック２１、一対のアーム２２、複数の揉み玉２３、および、一対のレール２４を含む。

施療ブロック２１の機能は複数の揉み玉２３を駆動することである。施療ブロック２１は複数の機械要素により構成され、背もたれ１２内に設けられる。施療ブロック２１はレール２４に沿って移動可能にレール２４に支持されている。レール２４は背もたれ１２内に設けられ、背もたれ１２の高さ方向に伸びている。すなわち、施療ブロック２１は背もたれ１２の高さ方向において背もたれ１２に対して移動可能である。

アーム２２の機能は１つまたは複数の揉み玉２３を支持することである。図１に示される例では、一対のアーム２２は互いに１つの揉み玉２３を支持している。一対のアーム２２は例えば椅子１０の幅方向に伸びる施療ブロック２１の回転軸（図示略）まわりに回転可能、および、椅子１０の幅方向に沿って移動可能にその回転軸に支持される。

揉み玉２３の機能は身体をマッサージすることである。揉み玉２３は例えばアーム２２の先端に取り付けられる。一対の揉み玉２３は施療ブロック２１がレール２４に沿って移動することにより背もたれ１２の高さ方向に移動し、アーム２２が回転軸まわりに回転することにより椅子１０の前後方向に移動し、アーム２２が回転軸に沿って移動することにより椅子１０の幅方向に移動する。このように、施療装置２０は揉み玉２３を移動させることにより各種のマッサージ動作を形成する。

コントローラー３０の機能はマッサージ機１の動作に関する情報を入力および出力することである。コントローラー３０は例えばマッサージ機１の電源のオンおよびオフを切り替えるための電源ボタン（図示略）等を含む。コントローラー３０は制御装置と電気的に接続されている。コントローラー３０は入力された情報を制御装置に出力する。制御装置の機能はコントローラーから入力された情報に基づいて施療装置２０およびオットマン１００等を制御することである。制御装置は例えば座１１の内部に設けられる。

オットマン１００は脚支持部１１０、足置台１３０、および、一対の連結支持部１５０を含む。連結支持部１５０の機能は脚支持部１１０および足置台１３０を支持することである。一対の連結支持部１５０は脚支持部１１０および足置台１３０を挟み込むように設けられ、座１１との接続部分を軸として回転可能に座１１に取り付けられている。

脚支持部１１０の機能は脚を支持することである。脚支持部１１０は例えば一対の連結支持部１５０に支持されている。脚支持部１１０は内側壁１１１、一対の外側壁１１２、背壁１１３、および、カバー１１４を含む。内側壁１１１の機能は脚の内側を支持することである。外側壁１１２の機能は脚の外側を支持することである。背壁１１３の機能は脚の背面を支持することである。内側壁１１１および外側壁１１２は脚を挟み込むように背壁１１３と結合している。内側壁１１１、外側壁１１２、および、背壁１１３は例えばカバー１１４により覆われている。

足置台１３０の機能は足を支持することである。足置台１３０は例えば一対の連結支持部１５０に支持されている。足置台１３０は内側壁１３１、一対の外側壁１３２、底壁１３３、背壁１３４、および、カバー１３６を含む。内側壁１３１の機能は足の内側を支持することである。外側壁１３２の機能は足の外側を支持することである。底壁１３３の機能は足裏を支持することである。背壁１３４の機能は足の背面を支持することである。内側壁１３１および外側壁１３２は足を挟み込むように底壁１３３および背壁１３４と結合している。内側壁１３１、外側壁１３２、底壁１３３、および、背壁１３４は例えばカバー１３６により覆われている。

図２はオットマン１００の内部構造を示す。なお、図２に示されるオットマン１００はカバー１１４、１３６を省略した形態である。
脚支持部１１０は複数の内脚用エアバッグ１２１、複数の外脚用エアバッグ１２２、および、複数の脚背面エアバッグ１２３をさらに含む。複数の内脚用エアバッグ１２１の数の一例は４つである。内脚用エアバッグ１２１は例えば内側壁１１１のうちの脚を支持する一方の面、および、内側壁１１１のうちの脚を支持する他方の面に２つずつ設けられる。複数の外脚用エアバッグ１２２の数の一例は４つである。外脚用エアバッグ１２２は例えば一方の外側壁１１２のうちの脚を支持する面、および、他方の外側壁１１２のうちの脚を支持する面に２つずつ設けられる。複数の脚背面エアバッグ１２３の数の一例は２つである。脚背面エアバッグ１２３は例えば背壁１１３のうちの一方の脚を支持する面、および、背壁１１３のうちの他方の脚を支持する面に１つずつ設けられる。各エアバッグ１２１〜１２３が膨張および収縮を繰り返すことにより脚がマッサージされる。

足置台１３０は複数の内足用エアバッグ１４１および複数の外足用エアバッグ１４２をさらに含む。複数の内足用エアバッグ１４１の数の一例は２つである。内足用エアバッグ１４１は例えば内側壁１３１のうちの足を支持する一方の面、および、内側壁１３１のうちの足を支持する他方の面に１つずつ設けられる。複数の外足用エアバッグ１４２の数の一例は２つである。外足用エアバッグ１４２は例えば一方の外側壁１３２のうちの足を支持する面、および、他方の外側壁１３２のうちの足を支持する面に１つずつ設けられる。各エアバッグ１４１、１４２が膨張および収縮を繰り返すことにより足がマッサージされ、各エアバッグ１４１、１４２が膨張した状態を維持することにより足置台１３０に対する足の位置が保持される。

オットマン１００は足裏施療ブロック２００および一対の足施療部３００をさらに含む。足施療部３００の機能は踝の周囲を集中的にマッサージすることである。足施療部３００は例えば足置台１３０に設けられる。足施療部３００は例えばカバー１３６により覆われている（図１参照）。

足裏施療ブロック２００は一対の足裏施療部２１０および駆動部２４０（図４参照）を含む。足裏施療部２１０の機能は足裏をマッサージすることである。各足裏施療部２１０は例えば底壁１３３のうちの足を支持する面に形成された一対の凹部１３３Ａにそれぞれ設けられ、その一部が凹部１３３Ａから露出している。足裏施療部２１０は例えばカバー１３６により覆われている（図１参照）。

図４に示される駆動部２４０の機能は足裏施療部２１０を駆動することである。駆動部２４０は例えば足置台１３０の内部に設けられる。駆動部２４０は支持軸２４１、モーター２４２、および、一対の相対駆動部２４３を含む（図４参照）。

図３は足置台１３０の断面構造を示す。足裏施療部２１０は第１の施療部２２０および第２の施療部２３０を含む。第１の施療部２２０の機能は足裏のうちの土踏まずあたりの部位をマッサージすることである。第２の施療部２３０の機能は足裏のうちの第１の施療部２２０によりマッサージされる部位とは別の部位をマッサージすることである。一例では、第２の施療部２３０は足裏のうちの指の付け根あたりをマッサージ可能である。

相対駆動部２４３の機能は、足の前後方向において第１の施療部２２０と第２の施療部２３０とを相対的に移動させることである。相対駆動部２４３は第１の施療部２２０と第２の施療部２３０とが相対的に移動できるように各施療部２２０、２３０を互いに連結している。なお、足の前後方向は足置台１３０の前後方向に沿う。

カバー１３６は補強部分１３６Ａを含む。補強部分１３６Ａの機能はカバー１３６の耐久性を高めることである。補強部分１３６Ａは例えば弾性材料により構成される。補強部分１３６Ａは例えばカバー１３６のうちの足裏施療部２１０と強く接触する部分に形成される。図３に示される例では、補強部分１３６Ａは足裏施療部２１０のうちの第１の施療部２２０と接触する部分に設けられる。このため、カバー１３６は第１の施療部２２０との接触により摩耗しにくい。

足置台１３０を構成する背壁１３４は例えば底壁１３３に対して傾斜するように底壁１３３と結合している。具体的には、側壁１３１、１３２側における底壁１３３と背壁１３４とのなす角が鈍角である。このため、背壁１３４に沿って足を滑らせることにより、足置台１３０の適切な位置に足を配置しやすい。また、カバー１３６は背壁１３４に沿うように底壁１３３に対して傾斜している。

図４は足置台１３０と足裏施療ブロック２００との接続関係を示す。駆動部２４０は支持軸２４１、モーター２４２、および、一対の相対駆動部２４３により構成される。支持軸２４１の機能は各第１の施療部２２０を支持することである。支持軸２４１は足置台１３０の幅方向に伸びている。モーター２４２の機能は支持軸２４１を回転させることである。モーター２４２が回転することによりウォームギア（図示略）等を介して支持軸２４１が回転し、その回転にともない各第１の施療部２２０が回転する。モーター２４２は例えば足置台１３０の内側壁１３１（図２参照）に収容される。

足置台１３０はフレーム１３５をさらに含む。フレーム１３５の機能は支持軸２４１を回転可能に支持することである。フレーム１３５は足置台１３０の外郭を構成する。フレーム１３５は内側壁フレーム１３５Ａ、一対の外側壁フレーム１３５Ｂ、背壁フレーム１３５Ｃ、および、支持フレーム１３５Ｄを含む。

内側壁フレーム１３５Ａは足置台１３０の前後方向に伸び、内側壁１３１に収容される。一対の外側壁フレーム１３５Ｂは足置台１３０の前後方向に伸び、対応する外側壁１３２（図２参照）に収容される。一方の外側壁フレーム１３５Ｂは支持軸２４１の一方の端部を回転可能に支持する。他方の外側壁フレーム１３５Ｂは支持軸２４１の他方の端部を回転可能に支持する。背壁フレーム１３５Ｃは足置台１３０の幅方向に伸び、背壁１３４（図１参照）に収容される。背壁フレーム１３５Ｃは内側壁フレーム１３５Ａおよび一対の外側壁フレーム１３５Ｂと連結している。

支持フレーム１３５Ｄの機能は足置台１３０の高さ方向における第２の施療部２３０の位置を保持することである。支持フレーム１３５Ｄは足置台１３０の幅方向に伸び、底壁１３３（図２参照）に収容される。支持フレーム１３５Ｄは足置台１３０の前後方向において支持軸２４１よりも前方、かつ、足置台１３０の高さ方向において第２の施療部２３０よりも下方に設けられ、一対の外側壁フレーム１３５Ｂを互いに連結している。支持フレーム１３５Ｄは、例えば足置台１３０の前後方向における第２の施療部２３０の移動を規制しないように第２の施療部２３０の底部を支持する。すなわち、第２の施療部２３０は支持フレーム１３５Ｄ上に置かれた状態である。このため、第２の施療部２３０は足置台１３０の高さ方向における位置が支持フレーム１３５Ｄにより保持されながら、足置台１３０の前後方向に移動可能である。

図５を参照して、足裏施療部２１０の構成について説明する。
第１の施療部２２０は回転ローラー２２１、第１の凸部２２２、および、第２の凸部２２３を含む。回転ローラー２２１はその中心に支持軸２４１が挿入され、支持軸２４１が回転するとともに回転する。

第１の凸部２２２の機能は足裏の内側を施療することである。足裏の内側は土踏まずあたりの部位を含む。第１の凸部２２２は例えば回転ローラー２２１の外周面に設けられ、円弧状に形成される。このため、第１の凸部２２２の根元に生じる応力集中の度合が緩和される。第２の凸部２２３の機能は足裏の外側を施療することである。第２の凸部２２３は例えば回転ローラー２２１の外周面に設けられ、円弧状に形成される。このため、第２の凸部２２３の根元に生じる応力集中の度合が緩和される。第１の凸部２２２および第２の凸部２２３は例えば回転ローラー２２１の軸方向における位置、ならびに、回転ローラー２２１の周方向における位置が異なる。

回転ローラー２２１の外周面は曲面部２２４を含む。曲面部２２４は足裏が各凸部２２２、２２３と接触することなく足裏を支持できるように凸部が設けられていない。曲面部２２４の周方向の長さは、第１の凸部２２２の周方向の長さおよび第２の凸部２２３の周方向の長さよりも長い。

第２の施療部２３０は第１の凸部２３１、第２の凸部２３２、第３の凸部２３３、および、支持台２３４を含む。支持台２３４の機能は各凸部２３１〜２３３を支持することである。支持台２３４は支持フレーム１３５Ｄ（図３参照）に支持される。

第１の凸部２３１の機能は足裏のうちの母指球あたりの部位をマッサージすることである。第３の凸部２３３の機能は足裏のうちの小指球あたりの部位をマッサージすることである。第２の凸部２３２の機能は足裏のうちの母指球と小指球との間の範囲の部位をマッサージすることである。すなわち、第２の凸部２３２は回転ローラー２２１の軸方向において第１の凸部２３１と第３の凸部２３３との間に設けられる。各凸部２３１〜２３３は例えば棒のような形状を有し、支持台２３４から上方に伸びている。

第１の凸部２３１の高さは第２の凸部２３２および第３の凸部２３３よりも低い。第２の凸部２３２の高さは第１の凸部２３１および第３の凸部２３３よりも高い。第３の凸部２３３は第１の凸部２３１よりも高く、第２の凸部２３２よりも低い。これらの各凸部２３１〜２３３の高さの関係は足裏における母指球、小指球、および、母指球と小指球との間の範囲の形状に沿うように設定されている。このため、足裏のうちの指の付け根あたりの部位に好ましいマッサージ感が与えられやすい。

オットマン１００は第１の検出部２５１および第２の検出部２５２をさらに含む。第１の検出部２５１の機能は回転ローラー２２１の回転状態を検出することである。第１の検出部２５１は例えば支持軸２４１まわりに設けられる。第２の検出部２５２の機能はモーター２４２の回転速度および回転方向等を検出することである。第２の検出部２５２はモーター２４２の出力軸付近に設けられる。各検出部２５１、２５２は例えば検出した情報を制御装置に出力する。

図６は第１の施療部２２０の構造を示す斜視図である。
回転ローラー２２１の形状の一例は中空の円筒である。回転ローラー２２１は複数の第１のローラーリブ２２１Ａ、第２のローラーリブ２２１Ｂ、および、複数のローラーリブ空間２２１Ｃを含む。第１のローラーリブ２２１Ａは円筒内の空間を回転ローラー２２１の径方向において区画するリブである。第２のローラーリブ２２１Ｂは円筒内の空間を回転ローラー２２１の周方向において区画するリブである。複数の第１のローラーリブ２２１Ａは例えば回転ローラー２２１の内周面から第２のローラーリブ２２１Ｂに向けて伸びる複数の第１のローラーリブ２２１Ａ、および、第２のローラーリブ２２１Ｂから回転ローラー２２１の回転中心に向けて伸びる複数の第１のローラーリブ２２１Ａを含む。ローラーリブ空間２２１Ｃは複数の第１のローラーリブ２２１Ａおよび第２のローラーリブ２２１Ｂ等に囲まれて形成される空間である。複数の第１のローラーリブ２２１Ａ、第２のローラーリブ２２１Ｂ、および、複数のローラーリブ空間２２１Ｃは例えば回転ローラー２２１の一方の側面に設けられる。

第１の凸部２２２は複数の第１のリブ２２２Ａ、第２のリブ２２２Ｂ、および、複数のリブ空間２２２Ｃを含む。第１のリブ２２２Ａは例えば第１の凸部２２２の外周の形状と相似形を有し、第１の凸部２２２の側面に設けられる。第２のリブ２２２Ｂは第１の凸部２２２の径方向に沿うように第１の凸部２２２の側面に設けられる。図６に示される例では、第２のリブ２２２Ｂは回転ローラー２２１の外周面から概ね垂直方向に伸びている。

複数のリブ空間２２２Ｃは複数の第１のリブ２２２Ａ、第２のリブ２２２Ｂ、第１の凸部２２２の内周面、および、回転ローラー２２１の外周面等に囲まれて形成される空間である。図６に示される例では、リブ空間２２２Ｃは円弧状の溝を構成する。複数の第１のリブ２２２Ａおよび第２のリブ２２２Ｂは、指が入り込まない大きさのリブ空間２２２Ｃが形成されるように第１の凸部２２２の側面に設けられる。このため、第１の凸部２２２における安全性が高められる。第１の凸部２２２の両側面は実質的に同じ構成である。なお、指が入り込まない大きさの一例は５ｍｍ以下である。

第２の凸部２２３は複数のリブ２２３Ａおよびリブ空間２２３Ｂを含む。リブ２２３Ａは例えば第２の凸部２２３の外周の形状と相似形を有し、第２の凸部２２３の側面に設けられる。リブ空間２２３Ｂは複数のリブ２２３Ａ、第２の凸部２２３の内周面、および、回転ローラー２２１の外周面等に囲まれて形成される空間である。図６に示される例では、リブ空間２２３Ｂは円弧状の溝を構成する。複数のリブ２２３Ａは、指が入り込まない大きさのリブ空間２２３Ｂが形成されるように第２の凸部２２３の側面に設けられる。このため、第２の凸部２２３における安全性が高められる。第２の凸部２２３の両側面は実質的に同じ構成である。

図７は足裏施療部２１０と相対駆動部２４３との関係を示す。
第１の凸部２２２は第２の凸部２２３よりも高い。具体的には、回転ローラー２２１の外周面と第１の凸部２２２の先端との距離である第１の距離ＣＨ１は、回転ローラー２２１の外周面と第２の凸部２２３の先端との距離である第２の距離ＣＨ２よりも長い。このため、第１の凸部２２２は第２の凸部２２３よりも足置台１３０の凹部１３３Ａ（図３参照）から露出する。

一般的な人の足裏の形状は足裏の内側が外側に対して凹んでいる。一方、第１の凸部２２２の高さと第２の凸部２２３の高さとの関係は一般的な人の足裏の形状に沿うように設定されている。このため、第１の凸部２２２が第２の凸部２２３よりも低いまたは第２の凸部２２３と実質的に同じ高さである場合と比較して、第１の凸部２２２が足裏の内側に強く接触し、足裏の形状に応じたマッサージが提供される。このため、足裏に好ましいマッサージ感が与えられる。

第１の凸部２２２および第２の凸部２２３の曲率は互いに異なる。一例では、第２の凸部２２３は第１の凸部２２２よりも曲率が大きい。このため、第２の凸部２２３は足裏との接触時において、第１の凸部２２２よりも強い刺激を足裏に与えることができる。

相対駆動部２４３は偏心軸２４３Ａおよびリンク２４３Ｂを含む。偏心軸２４３Ａは例えば回転ローラー２２１の他方の側面において、回転ローラー２２１の回転中心からずれた位置に設けられる。偏心軸２４３Ａは、支持軸２４１が回転することにより回転ローラー２２１とともに支持軸２４１まわりに回転する。このため、回転ローラー２２１に対する偏心軸２４３Ａの位置が足の前後方向および高さ方向に移動する。すなわち、偏心軸２４３Ａが支持軸２４１に対して偏心回転する。

リンク２４３Ｂの機能は偏心軸２４３Ａの回転による偏心運動を足の前後方向に沿う直線運動に変換することである。リンク２４３Ｂは足の前後方向において第２の施療部２３０が第１の施療部２２０に対して移動するように偏心軸２４３Ａと第２の施療部２３０の支持台２３４とを連結している。偏心軸２４３Ａおよびリンク２４３Ｂは互いに相対的に回転するように連結される。このため、偏心軸２４３Ａが偏心回転することによりリンク２４３Ｂが足の前後方向に沿う直線運動を形成し、第２の施療部２３０が第１の施療部２２０に対して足の前後方向に移動する。

また、支持軸２４１が回転することにより回転ローラー２２１に対する偏心軸２４３Ａの位置が足の高さ方向にも移動するため、リンク２４３Ｂと偏心軸２４３Ａとの連結部分が足の高さ方向にも移動する。このため、第２の施療部２３０は足の高さ方向において各凸部２３１〜２３３の先端の位置が変化するように揺動する。

第１の施療部２２０および第２の施療部２３０は、第１の施療部２２０の各凸部２２２、２２３の先端が足裏に接触するときのその先端の位置が第２の施療部２３０の各凸部２３１〜２３３の先端が足裏に接触するときのその先端の位置よりも高くなるように足置台１３０（図３参照）に設けられる。このため、第１の施療部２２０の各凸部２２２、２２３は第２の施療部２３０の各凸部２３１〜２３３よりもカバー１３６（図３参照）と強く接触する。

相対駆動部２４３は足の前後方向において、第１の施療部２２０の第１の凸部２２２と第２の施療部２３０とが最も接近する場合に第２の施療部２３０が回転ローラー２２１から最も離れるように構成される（図１０参照）。すなわち、回転ローラー２２１に対する偏心軸２４３Ａの位置が足の前後方向において最も前方の位置を取るとき、第１の凸部２２２が回転ローラー２２１の周方向において第２の施療部２３０と対向する位置を取る。

相対駆動部２４３の構成によれば、次の効果が得られる。第２の施療部２３０と第１の凸部２２２とが最も接近するときに第２の施療部２３０が回転ローラー２２１に最も接近する場合、第２の施療部２３０と第１の凸部２２２とが接触しないようにリンク２４３Ｂを長くする必要がある。このため、第２の施療部２３０が回転ローラー２２１から最も離れるときに第２の施療部２３０と回転ローラー２２１との間隔が広くなる。これは、マッサージ機の小型化を妨げるおそれがある。一方、マッサージ機１は上述したように相対駆動部２４３が構成されるため、マッサージ機１を小型化しやすい。

相対駆動部２４３は足の前後方向において、曲面部２２４と第２の施療部２３０とが最も接近する場合に第２の施療部２３０が回転ローラー２２１と最も接近するように構成される（図８参照）。すなわち、回転ローラー２２１に対する偏心軸２４３Ａの位置が足の前後方向において最も後方の位置を取るとき、曲面部２２４の一部が回転ローラー２２１の周方向において第２の施療部２３０と対向する位置を取る。このため、第２の施療部２３０と各凸部２２２、２２３とが最も接近するときに第２の施療部２３０が回転ローラー２２１に最も接近する場合と比較して、マッサージ機１を小型化しやすい。

相対駆動部２４３は足の前後方向において第２の施療部２３０が後方に移動する場合に足裏と曲面部２２４とが接触するように構成される。すなわち、回転ローラー２２１に対する偏心軸２４３Ａの位置が足の前後方向において前方から後方に移動する過程において、曲面部２２４が回転ローラー２２１の周方向において足裏と対向する位置を取る。具体的には、回転ローラー２２１が図１１に示される状態から図８に示される状態まで回転する過程において、曲面部２２４と足裏とが接触した状態が維持される。

図８〜図１１を参照して、足裏施療部２１０の動作について説明する。
回転ローラー２２１は支持軸２４１が回転することにより第１の回転状態、第２の回転状態、第３の回転状態、および、第４の回転状態を順番に形成する。

図８に示されるとおり、回転ローラー２２１は初期状態である第１の回転状態として、例えば回転ローラー２２１に対する偏心軸２４３Ａの位置が足の前後方向において最も後方の位置を取る。第１の回転状態では、第１の施療部２２０の曲面部２２４および第２の施療部２３０の各凸部２３１〜２３３が足裏と接触している。このため、マッサージ機１を使用するユーザーが足置台１３０に足を配置したときに、第１の施療部２２０の各凸部２２２、２２３が足裏と接触する場合と比較して足裏に強い刺激が与えられにくい。そして、回転ローラー２２１は支持軸２４１が回転することにより第１の回転状態から回転し始める。

図９に示されるとおり、回転ローラー２２１は第２の回転状態として、例えば回転ローラー２２１に対する偏心軸２４３Ａの位置が足の高さ方向において最も高い位置を取る。すなわち、第２の回転状態は図８に示される側面視において、第１の回転状態における回転ローラー２２１が反時計回りに９０°回転した状態である。回転ローラー２２１が第１の回転状態から第２の回転状態に移行する過程において、第１の施療部２２０の第１の凸部２２２および第２の施療部２３０の凸部２３１〜２３３が足裏と接触する。このため、第１の凸部２２２により足裏の内側がマッサージされ、第２の施療部２３０の凸部２３１〜２３３により足裏のうちの指の付け根あたりの部位がマッサージされる。

図１０に示されるとおり、回転ローラー２２１は第３の回転状態として、例えば回転ローラー２２１に対する偏心軸２４３Ａの位置が足の前後方向において最も前方の位置を取る。すなわち、第３の回転状態は図９に示される側面視において、第２の回転状態における回転ローラー２２１が反時計回りに９０°回転した状態である。回転ローラー２２１が第２の回転状態から第３の回転状態に移行する過程において、第１の施療部２２０の第２の凸部２２３および第２の施療部２３０の凸部２３１〜２３３が足裏と接触する。このため、第２の凸部２２３により足裏の外側がマッサージされ、第２の施療部２３０の凸部２３１〜２３３により足裏のうちの指の付け根あたりの部位がマッサージされる。

図１１に示されるとおり、回転ローラー２２１は第４の回転状態として、例えば回転ローラー２２１に対する偏心軸２４３Ａの位置が足の高さ方向において最も低い位置を取る。すなわち、第４の回転状態は図１０に示される側面視において、第３の回転状態における回転ローラー２２１が反時計回りに９０°回転した状態である。回転ローラー２２１が第３の回転状態から第４の回転状態に移行する過程において、第１の施療部２２０の曲面部２２４および第２の施療部２３０の各凸部２３１〜２３３が足裏と接触する。

第１の施療部２２０の曲面部２２４が足裏に接触している場合、第１の施療部２２０は実質的に足裏をマッサージしない。この状態において第２の施療部２３０の各凸部２３１〜２３３が足裏をマッサージする場合、ユーザーは各凸部２３１〜２３３により足裏に与えられるマッサージ感だけを覚える。

例えば、第１の施療部２２０の各凸部２２２、２２３と足裏とが接触している状態において、第２の施療部２３０の凸部２３１〜２３３により足裏がマッサージされる場合、第１の施療部２２０の各凸部２２２、２２３により足裏に与えられる力が第２の施療部２３０よりも強く、ユーザーは第２の施療部２３０により足裏に施されたマッサージについて強い印象を受けにくい。一方、図１１に示される第４の回転状態では、第１の施療部２２０により足裏が実質的にマッサージされないため、ユーザーは第２の施療部２３０の各凸部２３１〜２３３により足裏に施されたマッサージについて強い印象を受けやすい。このため、足裏のうちの指の付け根あたりの部位に好ましいマッサージ感が与えられる。

そして、回転ローラー２２１は図１１に示される側面視において、第４の回転状態から反時計回りに９０°回転し、図８に示される第１の回転状態に移行する。回転ローラー２２１が第４の回転状態から第１の回転状態に移行する過程において、第１の施療部２２０の曲面部２２４および第２の施療部２３０の各凸部２３１〜２３３が足裏と接触する。このとき、足の前後方向において各凸部２３１〜２３３が後方に移動しながら足裏と接触するため、足裏のうちの指の付け根あたりの部位が引っ掻くようにマッサージされる。このため、ユーザーは各凸部２３１〜２３３により足裏に施されたマッサージについてより強い印象を受けやすい。

このように、回転ローラー２２１は支持軸２４１が回転することにより第１の回転状態、第２の回転状態、第３の回転状態、および、第４の回転状態を繰り返し形成する。そして、マッサージ機１の電源がオフに設定されることにより、回転ローラー２２１が初期状態である第１の回転状態を形成した後、マッサージ機１の動作が停止する。なお、回転ローラー２２１が図８に示される側面視において時計回りに回転するように支持軸２４１が回転した場合、回転ローラー２２１は第１の回転状態、第４の回転状態、第３の回転状態、および、第２の回転状態を繰り返し形成する。

図１２および図１３を参照して、足置台１３０に足を配置したときの足裏施療部２１０と足裏との関係について説明する。なお、図１２は足の前後方向において第２の施療部２３０が最も前方の位置を取るときの足裏との関係を示し、図１３は足の前後方向において第２の施療部２３０が最も後方の位置を取るときの足裏との関係を示す。

第１の施療部２２０の第１の凸部２２２は、回転ローラー２２１が回転することにより足裏のうちの土踏まずあたりの部位と接触する。このため、足裏のうちの土踏まずあたりの部位が第１の凸部２２２によりマッサージされる。第１の施療部２２０の第２の凸部２２３は、回転ローラー２２１が回転することにより足裏のうちの土踏まずよりも外側の部位と接触する。このため、足裏のうちの土踏まずよりも外側の部位が第２の凸部２２３によりマッサージされる。なお、足裏の前後方向において第１の凸部２２２が接触する足裏の位置と第２の凸部２２３が接触する足裏の位置とは実質的に同じである。

図１２に示されるとおり、第２の施療部２３０は足裏のうちの指の付け根あたりの部位と接触する。具体的には、第１の凸部２３１が足裏のうちの親指の付け根あたりの部位と接触し、第２の凸部２３２が足裏のうちの人差し指および中指の付け根あたりの部位と接触し、第３の凸部２３３が足裏のうちの薬指および小指の付け根あたりの部位と接触する。このため、足裏のうちの各指の付け根あたりの部位が各凸部２３１〜２３３によりマッサージされる。

図１３に示されるとおり、第２の施療部２３０は足裏のうちの指の付け根よりも後方の部位と接触する。具体的には、第１の凸部２３１が足裏のうちの母指球あたりの部位と接触し、第２の凸部２３２が足裏のうちの母指球と小指球との間の範囲の部位と接触し、第３の凸部２３３が足裏のうちの小指球あたりの部位と接触する。このため、母指球、小指球、および、母指球と小指球との間の範囲の部位が各凸部２３１〜２３３によりマッサージされる。なお、各凸部２３１〜２３３によりマッサージされる部位は足の形状および大きさ等に依存する。

図１４は足施療部３００を展開した状態を示す。
足施療部３００は第１の施療部材３１１、第２の施療部材３１２、および、支持部３２０を含む。第１の施療部材３１１の機能は足の内側に位置する踝の周囲を集中的にマッサージすることである。第２の施療部材３１２の機能は足の外側に位置する踝の周囲を集中的にマッサージすることである。

踝の周囲をマッサージすることにより、足に心地よいマッサージ感が与えられることが確認された。このため、各施療部材３１１、３１２により踝の周囲がマッサージされることにより、足に心地よいマッサージ感が与えられる。一方、踝の周囲に近接する別の部位が踝の周囲と同時にマッサージされる場合、ユーザーが感じるマッサージ感が低下する。これは、互いに近接する複数の部位が同時にマッサージされた場合にそれぞれの部位に与えられるマッサージ感がぼやけやすいことが関係している。また、足施療部３００により踝の周囲に加えて別の部位も同時にマッサージされる場合、足施療部３００により加えられる力が分散し、踝の周囲に与えられるマッサージ感が低下する。図１４に示される足施療部３００によれば、各施療部材３１１、３１２により踝の周囲が集中的にマッサージされるため、踝の周囲に好ましいマッサージ感が与えられる。

各施療部材３１１、３１２の材料の一例はＴＰＶ（Thermo-Plastic-Vulcanizates）樹脂である。各施療部材３１１、３１２は支持部３２０に支持される。
支持部３２０の機能は各施療部材３１１、３１２によるマッサージの強さを調節できるように各施療部材３１１、３１２を支持することである。支持部３２０は第１の側部３２１、第２の側部３２２、および、中間部３２３を含む。第１の側部３２１の機能は第１の施療部材３１１を支持することである。第２の側部３２２の機能は第２の施療部材３１２を支持することである。中間部３２３は第１の側部３２１および第２の側部３２２と繋がる部分である。

支持部３２０はエアバッグを含む。一例では、支持部３２０はエアバッグを構成する。このため、支持部３２０とエアバッグとが個別に設けられる場合と比較して、マッサージ機１を構成する部品の点数が削減される。支持部３２０は非膨張部３２３Ａおよび給気口３２３Ｂをさらに含む。非膨張部３２３Ａは支持部３２０のうちの膨張しない部分であり、例えば支持部３２０の一方の面と他方の面とが互いに溶着されることにより形成される。非膨張部３２３Ａは例えば中間部３２３に設けられる。すなわち、中間部３２３は実質的に膨張しない。

給気口３２３Ｂは支持部３２０内に空気を供給するための孔である。給気口３２３Ｂは例えば中間部３２３に設けられる。給気口３２３Ｂはマッサージ機１の一部を構成する調節部であるエアポンプ３４０と接続される。エアポンプ３４０から空気が供給されることにより支持部３２０のうちの第１の側部３２１および第２の側部３２２が膨張し、各施療部材３１１、３１２が踝の周囲に押し付けられる。すなわち、エアポンプ３４０は足施療部３００によるマッサージの強さを調節可能である。なお、エアポンプ３４０は一対の足施療部３００の両方の給気口３２３Ｂと接続されている。

各施療部材３１１、３１２の形状は踝の周囲に沿うように湾曲した形状である。この形状では、足置台１３０（図１５参照）に足が配置されたときに各施療部材３１１、３１２が踝の周囲にフィットしやすい。このため、各施療部材３１１、３１２と踝の周囲とが適切に接触し、踝の周囲に好ましいマッサージ感が与えられる。

第１の施療部材３１１および第２の施療部材３１２は、例えば支持部３２０の幅方向の中心線に対して線対称の関係を有する。図１４に示される例では、第１の施療部材３１１および第２の施療部材３１２は支持部３２０上においてハの字を構成するように湾曲している。すなわち、第１の施療部材３１１は踝の周囲における水泉ＦＳ（図１６参照）をマッサージするように支持部３２０に支持される。また、第２の施療部材３１２は踝の周囲における僕参ＦＢおよびリンパ節ＦＬ（図１７参照）の少なくとも一方をマッサージするように支持部３２０に支持される。

支持部３２０は第１の固定部３３１、第２の固定部３３２、および、第３の固定部３３３をさらに含む。各固定部３３１〜３３３の機能は足置台１３０に対する支持部３２０の位置を固定することである。第１の固定部３３１および第２の固定部３３２は例えば中間部３２３の底部に設けられる。第３の固定部３３３は例えば第１の側部３２１の底部に設けられる。

図１５は一対の足施療部３００が足置台１３０に取り付けられた状態を示す。
支持部３２０は例えば足置台１３０の底壁１３３に取り付けられる。一例では、第１の側部３２１が内側壁１３１と面するように設けられ、第２の側部３２２が外側壁１３２と面するように設けられ、中間部３２３が背壁１３４と面するように設けられる。各固定部３３１〜３３３は例えば底壁１３３に固定される。これにより、第１の側部３２１および中間部３２３は足置台１３０に対して変位しにくい。一方、第２の側部３２２は足置台１３０に対して変位できるように足置台１３０のいずれの部位にも固定されていない。

足の外側に位置する踝およびその周辺の骨に強い力が加えられた場合、ユーザーが不快感を覚えやすい。これは、足の外側に位置する踝およびその周辺の骨が痛みを感じやすいことが関係している。一方、第２の側部３２２が足置台１３０に対して変位可能であるため、第２の施療部材３１２と足の骨とが接触したとしても、痛み等に反応して足が動くことにより足の骨に対する第２の施療部材３１２の位置がずれやすい。このため、踝およびその周辺の骨と第２の施療部材３１２とが強く接触しにくく、ユーザーが不快感を覚えるおそれが低減される。

支持部３２０は、例えば第１の側部３２１が内足用エアバッグ１４１と重なるように、および、第２の側部３２２が外足用エアバッグ１４２と重なるように足置台１３０に設けられる。すなわち、各施療部材３１１、３１２が少なくとも２つのエアバッグの力により踝の周囲に押し付けられる。図１５に示される例では、第１の側部３２１の一部が内足用エアバッグ１４１と重なり、第２の側部３２２の一部が外足用エアバッグ１４２と重なる。このため、各施療部材３１１、３１２により踝の周囲により強い力を加えることができ、膨張させるエアバッグの組合せによっては踝の周囲に多様な強さのマッサージを提供できる。

支持部３２０は第１の施療部材３１１と第２の施療部材３１２とが互いに対向するように足置台１３０に取り付けられる。エアポンプ３４０（図１４参照）から給気口３２３Ｂを介して支持部３２０に空気が供給され、第１の側部３２１および第２の側部３２２が膨張することにより第１の施療部材３１１と第２の施療部材３１２とが近づけられる。このため、各施療部材３１１、３１２が踝の周囲に押し付けられる。

図１６および図１７を参照して、足置台１３０に足を配置したときの各施療部材３１１、３１２と踝の周囲との関係について説明する。
図１６に示されるとおり、第１の施療部材３１１は足の内側に位置する踝の周囲に接触する。具体的には、第１の施療部材３１１は足の内側に位置する踝の周囲における水泉ＦＳと接触する。このため、第１の側部３２１（図１４参照）が膨張することにより水泉ＦＳを含む踝の周囲が第１の施療部材３１１によりマッサージされる。

踝の周囲における水泉ＦＳをマッサージすれば、足の内側に位置する踝の周囲に一層好ましいマッサージ感が与えられることが確認された。このため、第１の施療部材３１１により水泉ＦＳがマッサージされることにより、足の内側に位置する踝の周囲に一層好ましいマッサージ感が与えられる。

図１７に示されるとおり、第２の施療部材３１２は足の外側に位置する踝の周囲に接触する。具体的には、第２の施療部材３１２は足の外側に位置する踝の周囲における僕参ＦＢおよびリンパ節ＦＬと接触する。このため、第２の側部３２２（図１４参照）が膨張することにより僕参ＦＢおよびリンパ節ＦＬを含む踝の周囲が第２の施療部材３１２によりマッサージされる。

踝の周囲における僕参ＦＢおよびリンパ節ＦＬの少なくとも一方をマッサージすれば、足の外側に位置する踝の周囲に一層好ましいマッサージ感が与えられることが確認された。このため、第２の施療部材３１２により僕参ＦＢおよびリンパ節ＦＬがマッサージされることにより、足の外側に位置する踝の周囲に一層好ましいマッサージ感が与えられる。

（変形例）
実施の形態に関する説明は本発明に従うマッサージ機が取り得る形態の例示であり、その形態を制限することを意図していない。本発明に従うマッサージ機は実施の形態以外に例えば以下に示される実施の形態の変形例、および、相互に矛盾しない少なくとも２つの変形例が組み合わせられた形態を取り得る。

・第１の側部３２１が内足用エアバッグ１４１と重なるか否かは任意に変更可能である。第１の例では、第１の側部３２１の全部が内足用エアバッグ１４１と重なる。第２の例では、第１の側部３２１は内足用エアバッグ１４１と重ならない。なお、第２の側部３２２においても同様の変形が成立する。

・支持部３２０がエアバッグを構成するか否かは任意に変更可能である。第１の例では、支持部３２０とエアバッグとが個別に設けられる。第２の例では、支持部３２０はエアバッグを省略した形態を取り得る。この第２の例によれば、マッサージ機１はエアポンプ３４０を省略した形態を取り得る。

・第３の固定部３３３が第１の側部３２１に設けられるか否かは任意に変更可能である。一例では、第３の固定部３３３は第２の側部３２２の底部に設けられる。
・変形例の支持部３２０は第１の固定部３３１、第２の固定部３３２、および、第３の固定部３３３に加えて別の固定部をさらに含む。一例では、別の固定部は第２の側部３２２の底部に設けられる。

・変形例の支持部３２０は第１の固定部３３１、第２の固定部３３２、および、第３の固定部３３３のうちの少なくとも１つを省略した形態を取り得る。第１の例では、支持部３２０は第３の固定部３３３を省略した形態を取り得る。第２の例では、支持部３２０は第１の固定部３３１および第２の固定部３３２の少なくとも一方を省略した形態を取り得る。第３の例では、支持部３２０は各固定部３３１〜３３３の全部を省略した形態を取り得る。この第３の例によれば、支持部３２０は例えばその背面が背壁１３４等に取り付けられる。

・第１の施療部材３１１の形状は任意に変更可能である。一例では、第１の施療部材３１１は直線形状である。なお、第２の施療部材３１２においても同様の変形が成立する。
・第１の施療部材３１１の構成は任意に変更可能である。第１の例では、第１の施療部材３１１は複数の部材が集合することにより構成される。第２の例では、第１の施療部材３１１は複数の部材が集合することにより構成され、互いに所定の間隔を空けて湾曲している。なお、第２の施療部材３１２においても同様の変形が成立する。

・変形例の足施療部３００は第１の施療部材３１１および第２の施療部材３１２の少なくとも一方を省略した形態を取り得る。
・相対駆動部２４３の構成は任意に変更可能である。第１の例では、相対駆動部２４３は足の前後方向において、第１の施療部２２０の第１の凸部２２２と第２の施療部２３０とが最も接近する場合に第２の施療部２３０が回転ローラー２２１から最も近づくように構成される。第２の例では、相対駆動部２４３は足の前後方向において、第１の施療部２２０の第２の凸部２２３と第２の施療部２３０とが最も接近する場合に第２の施療部２３０が回転ローラー２２１から最も離れるように構成される。第３の例では、相対駆動部２４３は足の前後方向において、曲面部２２４と第２の施療部２３０とが最も接近する場合に第２の施療部２３０が回転ローラー２２１と最も離れるように構成される。第４の例では、相対駆動部２４３は足の前後方向において第２の施療部２３０が後方に移動する場合に足裏と第１の凸部２２２および第２の凸部２２３の少なくとも一方とが接触するように構成される。

・変形例の足裏施療ブロック２００は相対駆動部２４３を省略した形態を取り得る。この変形例によれば、第２の施療部２３０は駆動部２４０とは別の駆動部により駆動する、または、第２の施療部２３０は足置台１３０等に固定される。

・変形例の第１の施療部２２０および第２の施療部２３０は、第１の施療部２２０の各凸部２２２、２２３の先端が足裏に接触するときのその先端の位置が第２の施療部２３０の各凸部２３１〜２３３の先端が足裏に接触するときのその先端の位置よりも低くなるように、または、実質的に同じ高さになるように足置台１３０に設けられる。

・変形例の第１の凸部２２２および第２の凸部２２３は回転ローラー２２１の周方向における位置が実質的に同じである。
・変形例の第１の凸部２２２および第２の凸部２２３は回転ローラー２２１の軸方向における位置が実質的に同じである。

・変形例の第１の凸部２２２は一方の側面と他方の側面とでその構成が異なる。一例では、第１の凸部２２２の一方の側面に設けられるリブの数と他方の側面に設けられるリブの数とが相違する。なお、第２の凸部２２３においても同様の変形が成立する。

・変形例の第１の凸部２２２は第２のリブ２２２Ｂを省略した形態を取り得る。この変形例によれば、複数の第１のリブ２２２Ａは指が入り込まない大きさのリブ空間２２２Ｃが形成されるように第１の凸部２２２の側面に設けられる。

・第１のリブ２２２Ａの形状は任意に変更可能である。一例では、第１のリブ２２２Ａは第１の凸部２２２の内周面の一部から別の一部に伸びる直線形状である。
・第１の凸部２２２の側面に指が入り込まない大きさのリブ空間２２２Ｃが形成されるか否かは任意に変更可能である。一例では、リブ空間２２２Ｃは指が入り込む可能性がある大きさである。なお、第２の凸部２２３のリブ空間２２３Ｂにおいても同様の変形が成立する。

・第１の距離ＣＨ１と第２の距離ＣＨ２との関係は任意に変更可能である。第１の例では、第１の距離ＣＨ１は第２の距離ＣＨ２よりも短い。第２の例では、第１の距離ＣＨ１は第２の距離ＣＨ２と実質的に同じ長さを有する。

・変形例の第２の凸部２２３はリブ２２３Ａに代えてまたは加えて、第１の凸部２２２の第２のリブ２２２Ｂと実質的に同じ構成を有する１つまたは複数のリブを含む。
・変形例の第１の施療部２２０は第１の凸部２２２および第２の凸部２２３の少なくとも一方に代えてまたは加えて、少なくとも１つの凸部を含む。別の変形例の第１の施療部２２０は第１の凸部２２２および第２の凸部２２３の少なくとも一方を省略した形態を取り得る。

・変形例の回転ローラー２２１は第１のローラーリブ２２１Ａおよび第２のローラーリブ２２１Ｂの少なくとも一方を省略した形態を取り得る。
・変形例の曲面部２２４の長さは、第１の凸部２２２の周方向の長さおよび第２の凸部２２３の周方向の長さの少なくとも一方よりも短い。

・変形例の回転ローラー２２１の外周面は曲面部２２４を省略した形態を取り得る。この変形例によれば、１つまたは複数の凸部が回転ローラー２２１の外周面に設けられる。
・変形例の足裏施療部２１０は第１の施療部２２０および第２の施療部２３０の一方を省略した形態を取り得る。足裏施療部２１０から第２の施療部２３０が省略される場合、相対駆動部２４３を省略してもよい。

・変形例のオットマン１００は足裏施療ブロック２００および足施療部３００の一方を省略した形態を取り得る。
・変形例のマッサージ機１は座１１、背もたれ１２、肘掛け１３、および、施療装置２０のうちの少なくとも１つを省略した形態を取り得る。一例では、マッサージ機１はオットマン１００を構成する。別の変形例のマッサージ機１は少なくとも足置台１３０および足裏施療ブロック２００を含む。この変形例によれば、マッサージ機１は足置台１３０のような形状である。

（課題を解決するための手段に関する付記）
〔付記１〕前記足置台の外郭を構成し、前記支持軸を回転可能に支持するフレームをさらに備え、前記フレームは、前記足置台の高さ方向における前記第２の施療部の位置を保持する支持フレームを含む、請求項４または請求項４を直接的あるいは間接的に引用する請求項５〜８のいずれか一項に記載のマッサージ機。

〔付記２〕前記支持パイプは前記第２の施療部の底部を支持する、付記１に記載のマッサージ機。
〔付記３〕前記複数の凸部の曲率は互いに異なる、請求項８または請求項８を直接的あるいは間接的に引用する付記１または２に記載のマッサージ機。

〔付記４〕前記複数の凸部は、第１の凸部および前記第１の凸部よりも低い第２の凸部を含み、前記第２の凸部は前記第１の凸部よりも曲率が大きい、付記３に記載のマッサージ機。

本発明に従うマッサージ機は家庭用および業務用をはじめとする各種のマッサージ機に利用できる。

１ ：マッサージ機
１３０ ：足置台
２２０ ：第１の施療部
２２１ ：回転ローラー
２２２ ：第１の凸部（凸部）
２２３ ：第２の凸部（凸部）
２２４ ：曲面部
２３０ ：第２の施療部
２３１ ：第１の凸部（凸部）
２３２ ：第２の凸部（凸部）
２３３ ：第３の凸部（凸部）
２４０ ：駆動部
２４１ ：支持軸
２４２ ：モーター
２４３ ：相対駆動部
２４３Ａ：偏心軸
２４３Ｂ：リンク

Claims (5)

1. 足を支持する足置台と、
   足裏をマッサージできるように前記足置台に設けられる第１の施療部と、
   足裏のうちの前記第１の施療部によりマッサージされる部位とは別の部位をマッサージできるように前記足置台に設けられる第２の施療部と、
   少なくとも前記第１の施療部を駆動する駆動部とを備え、
   前記第１の施療部は前記足置台に対して回転可能な回転ローラー、および、前記回転ローラーの外周面に設けられ、曲率が互いに異なる少なくとも２つの凸部を含み、
   前記回転ローラーの外周面は足裏が前記凸部に接触することなく足裏を支持できるように前記凸部が設けられていない曲面部を含み、
   前記駆動部は足の前後方向において前記第１の施療部と前記第２の施療部とを相対的に移動させる相対駆動部、前記回転ローラーを支持する支持軸、および、前記支持軸を回転させるモーターを含み、
   前記相対駆動部は前記支持軸に対して偏心回転する偏心軸、および、前記第２の施療部が少なくとも足の前後方向において前記第１の施療部に対して移動するように前記偏心軸と前記第２の施療部とを連結するリンクを含み、足の前後方向において前記第１の施療部の凸部と前記第２の施療部とが最も接近する場合に前記第２の施療部が前記回転ローラーから最も離れるように構成される
   マッサージ機。
2. 足を支持する足置台と、
   足裏をマッサージできるように前記足置台に設けられる第１の施療部と、
   足裏のうちの前記第１の施療部によりマッサージされる部位とは別の部位をマッサージできるように前記足置台に設けられる第２の施療部と、
   少なくとも前記第１の施療部を駆動する駆動部とを備え、
   前記第１の施療部は前記足置台に対して回転可能な回転ローラー、および、前記回転ローラーの外周面に設けられ、曲率が互いに異なる少なくとも２つの凸部を含み、
   前記回転ローラーの外周面は足裏が前記凸部に接触することなく足裏を支持できるように前記凸部が設けられていない曲面部を含み、
   前記駆動部は足の前後方向において前記第１の施療部と前記第２の施療部とを相対的に移動させる相対駆動部、前記回転ローラーを支持する支持軸、および、前記支持軸を回転させるモーターを含み、
   前記相対駆動部は前記支持軸に対して偏心回転する偏心軸、および、前記第２の施療部が少なくとも足の前後方向において前記第１の施療部に対して移動するように前記偏心軸と前記第２の施療部とを連結するリンクを含み、足の前後方向において前記曲面部と前記第２の施療部とが最も接近する場合に前記第２の施療部が前記回転ローラーと最も接近するように構成される
   マッサージ機。
3. 足を支持する足置台と、
   足裏をマッサージできるように前記足置台に設けられる第１の施療部と、
   足裏のうちの前記第１の施療部によりマッサージされる部位とは別の部位をマッサージできるように前記足置台に設けられる第２の施療部と、
   少なくとも前記第１の施療部を駆動する駆動部とを備え、
   前記第１の施療部は前記足置台に対して回転可能な回転ローラー、および、前記回転ローラーの外周面に設けられ、曲率が互いに異なる少なくとも２つの凸部を含み、
   前記回転ローラーの外周面は足裏が前記凸部に接触することなく足裏を支持できるように前記凸部が設けられていない曲面部を含み、
   前記駆動部は足の前後方向において前記第１の施療部と前記第２の施療部とを相対的に移動させる相対駆動部、前記回転ローラーを支持する支持軸、および、前記支持軸を回転させるモーターを含み、
   前記相対駆動部は前記支持軸に対して偏心回転する偏心軸、および、前記第２の施療部が少なくとも足の前後方向において前記第１の施療部に対して移動するように前記偏心軸と前記第２の施療部とを連結するリンクを含み、足の前後方向において前記第２の施療部が後方に移動する場合に足裏と前記曲面部とが接触するように構成され、
   前記第２の施療部の凸部は足裏における母指球、小指球、および、その間の範囲のうちの少なくとも１箇所をマッサージできるように前記相対駆動部に設けられる
   マッサージ機。
4. 前記第２の施療部は足裏をマッサージする少なくとも１つの凸部を含み、
   前記第１の施療部および前記第２の施療部は、前記第１の施療部の凸部の先端が足裏に接触するときのその先端の位置が前記第２の施療部の凸部の先端が足裏に接触するときのその先端の位置よりも高くなるように前記足置台に設けられる
   請求項１〜３のいずれか一項に記載のマッサージ機。
5. 前記第１の施療部は複数の凸部をさらに含む
   請求項１〜４のいずれか一項に記載のマッサージ機。

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