JP2006341346A - 非接触型搬送装置 - Google Patents

非接触型搬送装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2006341346A
JP2006341346A JP2005169771A JP2005169771A JP2006341346A JP 2006341346 A JP2006341346 A JP 2006341346A JP 2005169771 A JP2005169771 A JP 2005169771A JP 2005169771 A JP2005169771 A JP 2005169771A JP 2006341346 A JP2006341346 A JP 2006341346A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
baffle plate
contact type
plate member
conveyed
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005169771A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuyuki Yokohashi
克幸 横橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fujifilm Holdings Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Holdings Corp filed Critical Fujifilm Holdings Corp
Priority to JP2005169771A priority Critical patent/JP2006341346A/ja
Publication of JP2006341346A publication Critical patent/JP2006341346A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Manipulator (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

【課題】 半導体素子等の硬く脆い被搬送物を非接触状態で搬送するとき被搬送物の破損を防止する。
【解決手段】 椀状体12の開口部12a中央に邪魔板部材15を設け、開口部12aを被搬送物20に対面させて邪魔板部材15の背部から気体aを椀状体12内に供給し、該気体が被搬送物20の表面に沿って流れることで邪魔板部材15と被搬送物20との間の空間Xに発生する相対負圧を利用して被搬送物20を椀状体12に非接触で保持させる非接触型搬送装置において、邪魔板部材15を椀状体12内部に設けると共に開口部12aを被搬送物20より大面積とし、椀状体12の周壁部に前記表面に沿う気体流を排出する排気孔12bを設ける。
【選択図】 図4

Description

本発明は真空発生器を用いて被搬送物を吸着し搬送する非接触型搬送装置に係り、特に、硬く脆い材質である半導体を基板にして製造された半導体素子を非接触で搬送するのに好適な非接触型搬送装置に関する。
図6は、下記特許文献1に記載されている真空発生器の構成図である。この真空発生器1は、椀状体2と、椀状体2の開口面中央部に配置固定された邪魔板3と、椀状体2の開口部外周に設けられたフランジ部4と、椀状体2の邪魔板3背部に設けられ椀状体2内に空気を供給する空気流入口5とを備える。
この真空発生器1の椀状体2を、被搬送物である板材6に対して、その開口面が板材6に近接するように配置し、空気Aを空気流入口5から椀状体2内に供給する。椀状体2内に流入した空気は、邪魔板3に当たるため板材6に直接当たることはなく、空気の流入圧が直接板材6に加わらない構造になっている。
そして、椀状体2内に流入した空気が、フランジ部4と板材6との間の隙間を通って空気流Bとして外部に吹き出すと、この空気流Bに従って、邪魔板3と板材6との間の隙間部分7内の空気も一緒に流出し、この隙間部分7内の圧力が大気圧に対して相対的に負圧となる。これにより、板材6には矢印C方向の大気圧が加わって真空発生器1に非接触状態で吸引され、真空発生器1を移動させると、これに伴って板材6も搬送されることになる。
特開平7―88792号公報
上述した真空発生器1を用いて被搬送物を所要箇所に搬送する場合、被搬送物6の全体が外部に露出しているため、搬送中に他所に当たる危険性が高い。金属製や木製の板材が被搬送物であれば、少しくらい当たったところで被搬送物が破損することはない。
しかし、例えば、シリコン等の半導体を基板として製造された半導体素子を被搬送物とした場合、半導体自体が硬く脆い材質のため、何処かに少し当たっただけで半導体基板が破損してしまい、半導体素子が破壊されてしまうという問題がある。また、清浄な精密装置内で半導体素子を搬送するときに半導体基板が破損してしまうと、破損したことで発生する半導体粒子がゴミとして精密装置内に散らばるため、精密装置内での作業に支障が生じるという問題もある。
本発明の目的は、半導体素子等の硬く脆い被搬送物を非接触状態で搬送するとき被搬送物の破損を防止することが可能な非接触型搬送装置を提供することにある。
本発明の非接触型搬送装置は、椀状体の開口部中央に邪魔板部材を設け、前記開口部を被搬送物に対面させて前記邪魔板部材の背部から気体を前記椀状体内に供給し、該気体が前記被搬送物の表面に沿って流れることで前記邪魔板部材と前記被搬送物との間の空間に発生する相対負圧を利用して前記被搬送物を前記椀状体に非接触で保持させる非接触型搬送装置において、前記邪魔板部材を前記椀状体内部に設けると共に前記開口部を前記被搬送物より大面積とし、前記椀状体の周壁部に前記表面に沿う気体流を排出する排気孔を設けたことを特徴とする。
本発明の非接触型搬送装置は、前記開口部と前記邪魔板部材との距離が前記被搬送物の厚さ以上であることを特徴とする。
本発明の非接触型搬送装置の前記椀状体は、内部に気体供給通路が形成されると共に軸心部分に前記邪魔板部材が形成された柱状体と、一端面が前記開口部となり他端面側が前記柱状体の周囲に気密に嵌合される筒状部材とでなることを特徴とする。
本発明の非接触型搬送装置の前記排気孔は、排気される気体流が前記被搬送物と反対方向且つ斜め方向に向く形状としたことを特徴とする。
本発明の非接触型搬送装置で用いる前記気体は、空気または窒素であることを特徴とする。
本発明によれば、非接触型搬送装置に吸着保持される被搬送物は、椀状体内に保持されるため、搬送中に他所と衝突する危険がなくなり、被搬送物の破損や破損によるゴミの発生が抑制される。
以下、本発明の一実施形態について、図面を参照して説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係る非接触型搬送装置の外観を示す側面図であり、図2はその縦断面図、図3は底面図である。
本実施形態に係る非接触型搬送装置10は、図6で説明したと同様の椀状体を備えるが、本実施形態の椀状体は、柱状の真空発生器11と、筒状ガイド部12とで構成される。筒状ガイド部12の上半部は、真空発生器11の下半部外周に気密に嵌合され、筒状ガイド部12の下面側に開口12aが設けられる。この開口12aの面積は、被搬送物より大面積となっており、被搬送物が開口12a内に完全に入ることが可能な大きさとなっている。
筒状ガイド部12の側壁部には、適宜の複数箇所に排気孔12bが穿設されており、各排気孔12bは、その周壁面12cが、斜め上方(真空発生器11方向)にアールを描きながら筒状ガイド部12の外輪に向かって広がっていく形状になっている。
真空発生器11を構成する柱状体には、筒状ガイド部12の上端面12dより上方位置の側壁面から底面(筒状ガイド部12が嵌合された側の端面)にかけて連通する空気供給通路13が穿設されており、柱状体11の中心軸に沿って上記底面側に支杆14が延設され、この支杆14の先端部分に邪魔板部材15が設けられている。この邪魔板部材15は、筒状ガイド部12の開口12a位置より内側(筒状ガイド部12の内部側)に設けられており、邪魔板部材15と開口12aとの距離tは、好ましくは、被搬送物の厚さ以上とするのが良い。
そして、空気供給通路13の上記底面側の開口13aは、テーパ状に拡径され、邪魔板部材15を中心とし邪魔板部材15より大径となるように拡径されている。邪魔板部材15は、空気供給通路13に供給された空気が開口13aから吹き出すとき空気流のうち直下流成分を阻止する大きさとなっている。
次に、上述した構成の非接触型搬送装置10を用い、半導体素子、例えば多数のCCD型固体撮像素子が製造された半導体ウェハをダイシングして個片化された個々のCCD型固体撮像素子をパッケージ化するために搬送する方法について説明する。
図4に示す様に個片化されているCCD型固体撮像素子20の上方位置に、非接触型搬送装置10を移動させ、筒状ガイド部12の開口12a内にCCD型固体撮像素子20が入る位置まで非接触型搬送装置10を下動させる。そして、高圧空気aを空気供給通路13に供給すると、空気aは、真空発生器11の底面開口13aから吹き出す。
このとき、邪魔板部材15が存在するために、空気流bは、CCD型固体撮像素子20に直接当たることはなく、筒状ガイド部12の側壁方向に流れ、排気孔12bから空気流cとして排出される。この空気流cは斜め上方にアールを描いて排出されるため、軽いCCD型固体撮像素子20が空気流cによって下方向の力を受けることはない。
この様な空気流b,cが発生することで、邪魔板部材15とCCD型固体撮像素子20との間の空間X内の空気も空気流b,cに沿って一緒に排出され、空間X内の圧力は大気圧に対して相対的に負圧となる。
これにより、CCD型固体撮像素子20には矢印Yに示す浮上力(真空発生器11の吸着力)が加わり、CCD型固体撮像素子20は真空発生器11側に浮上する。この浮上によってCCD型固体撮像素子20には空気流bが当たるが、この空気流bに当たることにより発生する加重及びCCD型固体撮像素子20の自重と、上記負圧とがバランスした位置で止まる。即ち、CCD型固体撮像素子20は、真空発生器11に非接触状態で保持され、また、CCD型固体撮像素子20の大部分、好ましくは全部が、筒状ガイド部12内に保持されることになる。
この状態で、非接触型搬送装置10をパッケージ位置まで搬送することになるが、この搬送中に何処かに当たったとしても、CCD型固体撮像素子20に直接当たることはなく、筒状ガイド部12に当たることになる。このため、硬く脆い材質である半導体基板が破損してしまうことはない。従って、半導体素子の破損に起因して半導体屑が発生することもなくなる。
図5は、CCD型固体撮像素子20を吸着した非接触型搬送装置10の底面図である。CCD型固体撮像素子20は、筒状ガイド部12の開口12a内に収納された形となっている。この状態でCCD型固体撮像素子20に回転力が加わっても、CCD型固体撮像素子20の角部が筒状ガイド部12の内輪に接することで発生する摩擦力により、回転が阻止される。尚、内輪部に突起など周り止めを設けて確実にCCD型固体撮像素子20の回転を防止する構成にすることも可能である。
尚、上述した実施形態では、空気流を用いてCCD型固体撮像素子20を吸着したが、空気ではなく、他の気体、例えば窒素等を用いても良いことはいうまでもない。
以上述べた実施形態の非接触型搬送装置によれば、硬く脆い材質でなる半導体素子を、非接触状態で、且つ、金属等の強い部材でなる筒状ガイド部材で半導体素子の周囲を保護しながら搬送する構成のため、半導体素子が欠けたり、欠けによって半導体屑が発生するのを防止することができる。
本発明に係る非接触型搬送装置は、非接触状態で、且つ、金属等の強い部材でなる筒状ガイド部材で周囲を保護しながら搬送する構成のため、半導体素子等の硬く脆い材質でなる部品の搬送に有用である。
本発明の一実施形態に係る非接触型搬送装置の外観側面図である。 図1に示す非接触型搬送装置の縦断面図である。 図1に示す非接触型搬送装置の底面図である。 図1に示す非接触型搬送装置の動作説明図である。 図1に示す非接触型搬送装置で半導体部品を吸着したときの底面図である。 従来の非接触型搬送装置の説明図である。
符号の説明
10 非接触型搬送装置
11 真空発生器(柱状体)
12 筒状ガイド部
12a 開口
12b 排気孔(貫通孔)
13 空気供給通路
13a 開口(空気吹き出し孔)
14 支杆
15 邪魔板部材
20 CCD型固体撮像素子
a,b,c 空気流

Claims (5)

  1. 椀状体の開口部中央に邪魔板部材を設け、前記開口部を被搬送物に対面させて前記邪魔板部材の背部から気体を前記椀状体内に供給し、該気体が前記被搬送物の表面に沿って流れることで前記邪魔板部材と前記被搬送物との間の空間に発生する相対負圧を利用して前記被搬送物を前記椀状体に非接触で保持させる非接触型搬送装置において、前記邪魔板部材を前記椀状体内部に設けると共に前記開口部を前記被搬送物より大面積とし、前記椀状体の周壁部に前記表面に沿う気体流を排出する排気孔を設けたことを特徴とする非接触型搬送装置。
  2. 前記開口部と前記邪魔板部材との距離が前記被搬送物の厚さ以上であることを特徴とする請求項1に記載の非接触型搬送装置。
  3. 前記椀状体は、内部に気体供給通路が形成されると共に軸心部分に前記邪魔板部材が形成された柱状体と、一端面が前記開口部となり他端面側が前記柱状体の周囲に気密に嵌合される筒状部材とでなることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の非接触型搬送装置。
  4. 前記排気孔は、排気される気体流が前記被搬送物と反対方向且つ斜め方向に向く形状としたことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の非接触型搬送装置。
  5. 前記気体は、空気または窒素であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の非接触型搬送装置。
JP2005169771A 2005-06-09 2005-06-09 非接触型搬送装置 Pending JP2006341346A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005169771A JP2006341346A (ja) 2005-06-09 2005-06-09 非接触型搬送装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005169771A JP2006341346A (ja) 2005-06-09 2005-06-09 非接触型搬送装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006341346A true JP2006341346A (ja) 2006-12-21

Family

ID=37638684

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005169771A Pending JP2006341346A (ja) 2005-06-09 2005-06-09 非接触型搬送装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006341346A (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008087796A1 (ja) * 2007-01-15 2008-07-24 Lintec Corporation 保持装置及び保持方法
JP2010247304A (ja) * 2009-04-20 2010-11-04 Chugai Ro Co Ltd ワークの吸着パッド装置
KR101063898B1 (ko) * 2009-05-28 2011-09-08 주식회사농심 비접촉 패드를 구비한 이송장치
KR101273571B1 (ko) * 2010-09-17 2013-06-13 주식회사 엘지씨엔에스 Led 웨이퍼 피커
KR101273570B1 (ko) * 2010-09-17 2013-06-13 주식회사 엘지씨엔에스 Led 웨이퍼 피커
WO2013127357A1 (zh) * 2012-02-28 2013-09-06 柳州市中晶科技有限公司 力发生装置
JP2014003238A (ja) * 2012-06-20 2014-01-09 Tokyo Electron Ltd 剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
CN103659826A (zh) * 2012-09-06 2014-03-26 J.施迈茨有限公司 面抽吸式抓取器
WO2016140171A1 (ja) * 2015-03-03 2016-09-09 株式会社ハーモテック 吸引装置
KR101800336B1 (ko) 2017-04-06 2017-11-22 (주)포스텔 비접촉식 기판 홀딩장치용 에어핀
CN111162038A (zh) * 2020-03-02 2020-05-15 浙江大学 一种非接触式硅片搬运的环状真空吸盘

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008087796A1 (ja) * 2007-01-15 2008-07-24 Lintec Corporation 保持装置及び保持方法
JP2008168413A (ja) * 2007-01-15 2008-07-24 Lintec Corp 保持装置及び保持方法
JP2010247304A (ja) * 2009-04-20 2010-11-04 Chugai Ro Co Ltd ワークの吸着パッド装置
KR101063898B1 (ko) * 2009-05-28 2011-09-08 주식회사농심 비접촉 패드를 구비한 이송장치
KR101273571B1 (ko) * 2010-09-17 2013-06-13 주식회사 엘지씨엔에스 Led 웨이퍼 피커
KR101273570B1 (ko) * 2010-09-17 2013-06-13 주식회사 엘지씨엔에스 Led 웨이퍼 피커
WO2013127357A1 (zh) * 2012-02-28 2013-09-06 柳州市中晶科技有限公司 力发生装置
JP2014003238A (ja) * 2012-06-20 2014-01-09 Tokyo Electron Ltd 剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
CN103659826A (zh) * 2012-09-06 2014-03-26 J.施迈茨有限公司 面抽吸式抓取器
WO2016140171A1 (ja) * 2015-03-03 2016-09-09 株式会社ハーモテック 吸引装置
KR101800336B1 (ko) 2017-04-06 2017-11-22 (주)포스텔 비접촉식 기판 홀딩장치용 에어핀
CN111162038A (zh) * 2020-03-02 2020-05-15 浙江大学 一种非接触式硅片搬运的环状真空吸盘
CN111162038B (zh) * 2020-03-02 2022-04-29 浙江大学 一种非接触式硅片搬运的环状真空吸盘

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006341346A (ja) 非接触型搬送装置
JP4884493B2 (ja) ウエハ状の物品を液体処理するための装置及び方法
TWI605916B (zh) Aspiration device
JP5581713B2 (ja) ウェーハ表面測定装置
WO2005100215A1 (ja) チップ部品搬送方法及び装置、並びに外観検査方法及び装置
JP2005051260A (ja) 非接触搬送装置
JP5921323B2 (ja) 搬送保持具及び搬送保持装置
US7360322B2 (en) Non-contacting conveyance equipment
TWI830833B (zh) 切削裝置
JP5452413B2 (ja) 非接触吸着装置
JP2007216329A (ja) ハンド
JP5183169B2 (ja) ウェーハ処理装置
JP5287491B2 (ja) 基板吸着装置
JP2015126174A (ja) 基板保持装置及び基板保持方法
JP2022171969A (ja) 基板処理装置
JPS631647A (ja) 無接触吸着装置
JP2005340522A (ja) ベルヌーイチャック
JPH02305740A (ja) 基板搬送装置
CN210573186U (zh) 光罩检测装置
WO2004097927A1 (ja) パージ装置およびパージ方法
JP2005033118A (ja) パージ装置およびパージ方法
JP5405267B2 (ja) 電子部品搬送装置
JP6462444B2 (ja) ウェーハ搬送装置
CN112433446A (zh) 光罩检测装置及光罩清洁方法
TW201906671A (zh) 基板處理裝置

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Effective date: 20061127

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Effective date: 20071109

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Effective date: 20071116

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20071126

A621 Written request for application examination

Effective date: 20080205

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Effective date: 20090925

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20090930

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A02 Decision of refusal

Effective date: 20100216

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02