JP2006341251A - 機能性素子の製造方法およびその製造装置 - Google Patents
機能性素子の製造方法およびその製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006341251A JP2006341251A JP2006194059A JP2006194059A JP2006341251A JP 2006341251 A JP2006341251 A JP 2006341251A JP 2006194059 A JP2006194059 A JP 2006194059A JP 2006194059 A JP2006194059 A JP 2006194059A JP 2006341251 A JP2006341251 A JP 2006341251A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- functional
- functional element
- functional layer
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 109
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 61
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 144
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims abstract description 132
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 130
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 90
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 79
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 58
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 137
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 claims description 53
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 33
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 22
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 21
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 21
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 19
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims description 14
- 230000002940 repellent Effects 0.000 claims description 10
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 6
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 39
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000002585 base Substances 0.000 description 16
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 description 16
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 13
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 13
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000009471 action Effects 0.000 description 10
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 10
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 9
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 3
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 239000012086 standard solution Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOCCOC(C)=O VXQBJTKSVGFQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMINFSMURORWKH-UHFFFAOYSA-N 3,6-dioxabicyclo[6.2.2]dodeca-1(10),8,11-triene-2,7-dione Chemical compound O=C1OCCOC(=O)C2=CC=C1C=C2 MMINFSMURORWKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004693 Polybenzimidazole Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 101100422634 Postia placenta (strain ATCC 44394 / Madison 698-R) STS-02 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000004966 cyanoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 231100000956 nontoxicity Toxicity 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000013032 photocatalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001443 photoexcitation Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002480 polybenzimidazole Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- QLNOVKKVHFRGMA-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical group [CH2]CC[Si](OC)(OC)OC QLNOVKKVHFRGMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten trioxide Chemical compound O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、溶媒を含む機能層形成用塗工液を基材上に塗布した後、乾燥させて固化させる乾燥工程を有する機能性素子の製造方法において、製造される機能層の平坦性を得るために、予め製造された機能層の形状を検査し、中心部が凸形状の場合は、前記乾燥工程における溶媒の揮発速度を速くし、中心部が凹形状の場合は、前記乾燥工程における溶媒の揮発速度を遅くするように制御することを特徴とする機能性素子の製造方法を提供する。
【選択図】図1
Description
D1−D2>D1/10
の範囲内にある場合であり、また、上記中心部が凹形状の場合とは、
D2−D1>D1/10
の範囲内にある場合とした。
|D1−D2|≦D1/10
の範囲内の平坦性を有することを特徴とする機能性素子を提供する。
|D1−D2|≦D1/10
の範囲内にある場合を平坦と定義する。
D1−D2>D1/10
の範囲内にある。一方、図3に示す凹形状の場合は、D1<D2であるため、両者の関係は、
D2−D1>D1/10
の範囲内にあるといえる。
まず、平坦化を実現する本発明の機能性素子の製造方法について説明する。本発明の機能性素子の製造方法は、溶媒を含む機能層形成用塗工液を基材上に塗布した後、乾燥させて固化させる乾燥工程を有する機能性素子の製造方法において、製造される機能層の平坦性を得るために、予め製造された機能層の形状を検査し、中心部が凸形状の場合は、前記乾燥工程における溶媒の揮発速度を速くし、中心部が凹形状の場合は、前記乾燥工程における溶媒の揮発速度を遅くするように制御することを特徴とする。
本工程は、基材上に塗布された機能層形成用塗工液を乾燥、固化させることにより機能層を形成する工程である。本工程においては、凸形状および凹形状の両方の形状を平坦化の対象とし、各々の形状によりその平坦化の方法が異なるため、以下、各形状ごとに平坦化を伴う乾燥工程について説明する。
本発明において凸形状とは、特に限定されるものではないが、機能層の中心の膜厚をD1とし、中心から端までの幅の中心から3/4の位置の膜厚をD2とした場合、D1>D2から、両者の関係が、
D1−D2>D1/10
の範囲内にある場合をいう。
本発明において凹形状とは、特に限定されるものではないが、機能層の中心の膜厚をD1とし、中心から端までの幅の中心から3/4の位置の膜厚をD2とした場合、D1<D2から、両者の関係が、
D2−D1>D1/10
の範囲内にある場合をいう。
本発明においては、上記乾燥工程の前工程として、一般的には、基材調製工程、塗布工程等が行われる。以下、これらの工程について簡単に説明する。
本発明においては、塗布法の中でも特に吐出法により機能層を形成することが好ましい。また、吐出法により機能層を形成した場合には、粘性が低い塗工液が用いられる。従って、このような塗工液が基材上に塗布されると、塗工液の粘性の低さから過剰に濡れ広がることがある。そこで、このような塗工液の過剰な濡れ広がりを防止する方法を予め基材に施すことが好ましい。このような方法としては、隔壁を設置し塗工液の進行を防止する方法や親液性および撥液性の濡れ性の差によるパターンが形成されたパターン形成層を基材上に設ける方法等がある。本発明における基材調製工程においては、このような隔壁や濡れ性の差を有するパターン形成層が基材上に形成される。
本発明における隔壁とは、機能層形成用塗工液の濡れ広がりを、隔壁側面または表面にて食い止めることができるものである。このような隔壁としては、例えば、断面形状が四角形状、T字形状、逆テーパ形状等のものを挙げることができる。さらに、より効果的に塗工液の濡れ広がりを防止するために、撥液性を保持させた隔壁としてもよい。このような隔壁は、隔壁自体を撥液性を保持する材料から形成する方法や、表面に撥液性処理を施し隔壁表面に撥液性を保持させる方法等により形成することが可能である。
本発明においては、上記隔壁を設置し塗工液の過剰な濡れ広がりを防止する方法の他に、基材表面に塗工液と良好な濡れ性を有する親液性領域と、塗工液との濡れ性が悪い撥液性領域とのパターンが形成されたパターン形成層を設けることにより、撥液性領域への塗工液の濡れ広がりを防止し、パターニング精度を向上させる方法がある。このようなパターン形成層の形成方法としては、親液性が要求される領域に親液性の表面処理を施す方法や、エネルギー照射により表面の濡れ性が変化する濡れ性変化層を基材上に形成し、エネルギーのパターン照射により濡れ性の差によるパターンを形成する方法等が挙げられる。
本発明においては、上記基材調製工程の後に塗布工程が行われる。この塗布工程とは、基材上の所定の位置に、塗布法により機能層形成用塗工液をパターン状に塗布する工程である。以下、本工程について説明する。
本発明は、凸形状または凹形状に形成されるおそれがある機能層を平坦化することを主目的とする発明である。従って、塗布法としては、機能層を凸形状または凹形状に形成する場合がある塗布法であれば特に限定されない。具体的には、印刷法、ディッピング法、吐出法を挙げることができる。中でも、吐出法であることが好ましい。吐出法は、その塗布方法から機能層が上記形状に形成されるおそれが大きいからである。さらに、吐出法の中でも、インクジェット法であることが好ましい。インクジェット法は、一般的に汎用されている吐出法であり、材料効率に優れ、製造工程が短い等製造効率上有利であるからである。
本発明における機能層とは、発光層、着色層および色変換層等を挙げることができ、これら各層を形成する際の塗工液が本発明で言う機能層形成用塗工液となる。
本発明の機能性素子の製造方法により形成される機能層としては、EL素子の発光層、CFの着色層または色変換フィルターの色変換層等が挙げられる。ここで、色変換フィルターとは、例えば、発光部から青色または白色の発光を受けた際に、多数色、例えば赤色、緑色、および青色の3原色に色を変換することができる色変換層を有するフィルターを示すものであり、必要に応じて色補正用のCFを有するものであってもよい。
次に、本発明の機能性素子の製造装置について説明する。本発明の機能性素子の製造装置は、吐出法により塗工液を塗布する塗布手段と、前記塗布手段により塗布された塗工液を送風しながら乾燥させる乾燥手段とを有することを特徴とする。
本発明における塗布手段としては、機能層形成用塗工液を吐出させて塗布する吐出装置であれば特に限定はされない。その中でも、インクジェット装置であることが好ましい。インクジェット装置は、吐出装置の中でも最も汎用されている装置であり、塗布手段として製造効率に優れ、短い製造工程で塗布することを可能とするからである。
本発明における乾燥手段は、送風しながら乾燥させる乾燥手段である。このような乾燥手段に用いる送風装置としては、揮発溶媒の飽和を抑制させるものであれば特に限定はされない。このような送風装置としては、例えば、薄く平板状に噴出させた空気を一定方向に移動させながら送風するエアナイフ方式、上面から空気を吹き付けるダウンフロー方式、揮発溶媒を吸引するバキューム方式等が挙げられる。その中でもエアナイフ方式またはダウンフロー方式による送風装置であることが好ましい。これらは、風量の強度調節が可能なため、要求される平坦性の度合いに応じて柔軟に対応することができるからである。さらに、空気を基材に吹き付け揮発溶媒の拡散を図る方法であることから、基材の隅々にまで空気が行き渡り、入り組んだ緻密なパターンを有する機能層の場合においても、パターンごとのムラが少なく、均一な平坦化を可能とするからである。
上記本発明の機能性素子の製造装置は、種々の機能性素子の製造に用いることが可能である。しかしながら、中でもEL素子の発光層、CFの着色層または色変換フィルターの色変換層を製造する際に用いられる製造装置であることが好ましい。これは当該製造装置により上記各機能層を形成することにより、機能層の中心部および端部の膜厚の差が好適に小さい平坦化された機能層を得ることができ、EL素子、CFまたは色変換フィルターとして用いることにより、素子特性が向上し、高精細な発色が可能となるからである。
本発明の機能性素子は、基材と、前記基材上に形成された、塗工液との接触角が小さい濡れ性を呈する親液性領域および塗工液との接触角が上記親液性領域よりも大きい濡れ性を呈する撥液性領域を有するパターン形成層と、前記パターン形成層の親液性領域上に形成された機能層とを少なくとも有する機能性素子において、前記機能層は、機能層の中心の膜厚をD1とし、中心から端までの幅の中心から3/4の位置の膜厚をD2とした場合、
|D1−D2|≦D1/10
の範囲内の平坦性を有することを特徴とする。
本発明の機能層は、上述したように中心の膜厚D1と、中心から端までの幅の3/4の位置の膜厚D2とが、上記式の範囲内にあることを特徴とする。このように機能層の中心部と端部との膜厚の差が小さい機能層とすると、例えばEL素子の発光層、CFの着色層または色変換フィルターの色変換層として本発明の機能層を用いた際、高精細な発色を可能とする等の利点が得られる。
本発明におけるパターン形成層とは、塗工液との接触角が小さい濡れ性を呈する親液性領域および塗工液との接触角が上記親液性領域よりも大きい濡れ性を呈する撥液性領域とを有する層である。このようなパターン形成層としては、濡れ性の差によるパターンが形成されているものであれば特に限定はされないが、本発明においては、光触媒の作用からエネルギー照射により濡れ性が変化する性質を有する濡れ性変化層を用いて形成されていることが好ましい。このような濡れ性変化層は、親液性および撥液性のパターンに応じてエネルギーをパターン照射するのみで、濡れ性変化層上に濡れ性に差を有するパターンを容易に形成することができるからである。
パターン形成層を構成する濡れ性変化層は、光触媒の作用により表面の濡れ性が変化する層であれば特に限定されるものではないが、一般的にはエネルギーの照射に伴う光触媒の作用により、その濡れ性変化層表面における液体との接触角が低下するように濡れ性が変化する層であることが好ましい。また、光触媒を活性化させるエネルギーを透過させる材料である必要がある。
YnSiX(4−n)
(ここで、Yはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Xはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示す。nは0〜3までの整数である。)
で示される珪素化合物の1種または2種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであることが好ましい。なお、ここでYで示される基の炭素数は1〜20の範囲内であることが好ましく、また、Xで示されるアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。
本発明に用いられる光触媒含有層は、少なくとも光触媒とバインダとからなり、エネルギー照射により塗工液との接触角が低下する方向に濡れ性が変化するものである。このような光触媒含有層としては、上記濡れ性変化層に光触媒を含有させることにより得ることできる。そこで、バインダ等の濡れ性変化層と同様の構成のものについては、ここでの説明を省略し、以下、光触媒に関することについて説明する。
A.隔壁
本発明においては、機能層形成用塗工液の過剰な濡れ広がりを防止する手段として、上記機能層の平均膜厚よりも高い隔壁が設けられていないことが好ましい。
本発明に用いる基材は、特に限定されるものではないが、この基材面側に通常発光させるものであることから、透明性が高いものが好ましく、ガラス等の無機材料や、透明樹脂等を用いることができる。
1.光触媒含有層用塗布液の合成
酸化チタンゾル(商品名:ST-K03、石原産業(株)製)100g、2N塩酸90g、蒸留水110g、イソプロピルアルコール150g、フルオロアルキルシラン(商品名:MF-160E)トーケムプロダクツ社製、N−[3−(トリメトキシシリル)−プロピル]−Nエチルパーフルオロオクタンスルホンアミドのイソプロピルエーテル50重量%溶液)0.36gを混合し、75℃で1時間攪拌した。室温に冷却後イソプロピルアルコールで1.25倍に希釈して光触媒含有層用塗布液を得た。
300×400×0.7mmの無アルカリガラス基板に上記光触媒含有層用塗布液をスピンコーティングし、光触媒含有層を形成した。この状態で、濡れ性変化層は發液性(40mN/mの濡れ指数標準液での接触角:74°)を示した。紫外線を開口部90μm×200,000μm、100μmピッチで1024本のライン状のマスクパターンを介して照射したところ、光触媒含有層上に同ピッチの親液性(40mN/mの濡れ指数標準液での接触角:0°)のラインパターンが形成された。
固形分20%(バインダー:顔料=1:1)、溶剤がジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートからなるカラーフィルター層形成用塗工液を調整した。
128個の吐出穴を有するピエゾ駆動型ヘッドを用意し、上記カラーフィルター層形成用塗工液を吐出させ、上記親液性パターンを有する透明基板の親液性パターン部分に吐出させた。塗工液は親液性部分に均一に濡れ広がった。
上記インクジェット法により親液性部分に塗工液を吐出させた基板を130℃のホットプレート上に置き、カラーフィルターの上面から20mmのギャップを設けた位置から、0.45m/secの風速の空気を基板全面に3分間吹き付けた。次いで、紫外線で硬化させた後、230℃のオーブンで1時間焼成しカラーフィルターを作製した。
このようにして形成されたカラーフィルター層の表面は平坦であり、膜厚を測定した結果、カラーフィルター1画素内の中心の膜厚0.53μm(D1)に対して、中心から端までの幅の中心から3/4の位置の膜厚は0.51μm(D2)であり、
D1−D2(=0.02)<D1/10(=0.053)
の範囲内にあるものであった。
実施例1と同様に、透明基板上へ親液性パターンを形成し、この親液性パターン親液部にピエゾ型ヘッドからカラーフィルター層形成用塗工液を吐出した。
上記インクジェット法により親液性部分に塗工液を吐出させた基板を130℃のホットプレート上に置き、カラーフィルターの上面から10mmのギャップを設けた位置から、エアナイフを10mm/secの速さでカラーフィルター塗布方向に沿って基板面内を往復させながら1.5mm/secの風速の空気を吹き付けた。紫外線で硬化させた後、230℃のオーブンで1時間焼成しカラーフィルターを作製した。
このようにして形成されたカラーフィルター層の表面は平坦であり、膜厚を測定した結果、カラーフィルター1画素内の中心の膜厚0.50μm(D1)に対して、中心から端までの幅の中心から3/4の位置の膜厚は0.49μm(D2)であり、
D1−D2(=0.01)<D1/10(=0.05)
の範囲内にあるものであった。
塗膜の乾燥を130℃ホットプレートのみで行い、揮発した溶媒の拡散速度を実施例1と比較して遅くした以外は実施例1と同様にパターンの形成を行った。膜厚を測定した結果、形成されたカラーフィルター層の表面は凸形状であり、カラーフィルター1画素内の膜厚0.55μm(D1)に対して、中心から端までの幅の中心から3/4の位置の膜厚は0.48μm(D2)であり、
D1−D2(=0.07)>D1/10(=0.055)
の範囲内にあるものであった。
塗膜の乾燥時のホットプレート温度を150℃とし、実施例1と同様にパターンの形成を行った。膜厚を測定した結果、形成されたカラーフィルター層の表面は沿って凹形状であり、カラーフィルター1画素内の膜厚0.50μm(D1)に対して、中心から端までの幅の中心から3/4の位置の膜厚は0.56μm(D2)であり、
D2−D1(=0.06)>D1/10(=0.05)
の範囲内にあるものであった。
D2 … 機能層の中心から端までの幅の中心から3/4の位置の膜厚
Claims (19)
- 溶媒を含む機能層形成用塗工液を基材上に塗布した後、乾燥させて固化させる乾燥工程を有する機能性素子の製造方法において、製造される機能層の平坦性を得るために、予め製造された機能層の形状を検査し、中心部が凸形状の場合は、前記乾燥工程における溶媒の揮発速度を速くし、中心部が凹形状の場合は、前記乾燥工程における溶媒の揮発速度を遅くするように制御することを特徴とする機能性素子の製造方法。
- 予め製造された機能層の中心の膜厚をD1とし、中心から端までの幅の中心から3/4の位置の膜厚をD2とした場合、前記中心部が凸形状の場合とは、
D1−D2>D1/10
の範囲内にある場合であり、また、前記中心部が凹形状の場合とは、
D2−D1>D1/10
の範囲内にある場合であることを特徴とする請求項1に記載の機能性素子の製造方法。 - 前記機能層形成用塗工液が、吐出法により塗布されることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の機能性素子の製造方法。
- 前記吐出法は、インクジェット法であることを特徴とする請求項3に記載の機能性素子の製造方法。
- 前記溶媒の揮発速度を速くする方法が、基材上に塗布された機能層形成用塗工液に対して送風する方法であることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載の機能性素子の製造方法。
- 前記溶媒の揮発速度を速くする方法が、さらに加熱を行う方法であることを特徴とする請求項5に記載の機能性素子の製造方法。
- 前記機能層は、有機エレクトロルミネッセント素子の発光層、カラーフィルターの着色層、または、色変換フィルターの色変換層であることを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれかの請求項に記載の機能性素子の製造方法。
- 吐出法により塗工液を塗布する塗布手段と、前記塗布手段により塗布された塗工液を送風しながら乾燥させる乾燥手段とを有することを特徴とする機能性素子の製造装置。
- 前記送風しながら乾燥させる乾燥手段が、薄く平面状に噴出させた空気を一定方向に移動させながら送風するエアナイフ方式であることを特徴とする請求項8に記載の機能性素子の製造装置。
- 前記送風しながら乾燥させる乾燥手段が、上面から空気を吹き付けるダウンフロー方式であることを特徴とする請求項8に記載の機能性素子の製造装置。
- 基材側から熱を加える加熱手段を有することを特徴とする請求項8から請求項10までのいずれかの請求項に記載の機能性素子の製造装置。
- 前記加熱手段が、ホットプレートまたは遠赤外線ヒーターであることを特徴とする請求項11に記載の機能性素子の製造装置。
- 前記塗布手段はインクジェット装置であることを特徴とする請求項8から請求項12までのいずれかの請求項に記載の機能性素子の製造装置。
- 前記機能性素子が、有機エレクトロルミネッセント素子、カラーフィルター、または、色変換フィルターであることを特徴とする請求項8から請求項13までのいずれかの請求項に記載の機能性素子の製造装置。
- 基材と、前記基材上に形成された、塗工液との接触角が小さい濡れ性を呈する親液性領域および塗工液との接触角が前記親液性領域よりも大きい濡れ性を呈する撥液性領域を有するパターン形成層と、前記パターン形成層の親液性領域上に形成された機能層とを少なくとも有する機能性素子において、前記機能層は、機能層の中心の膜厚をD1とし、中心から端までの幅の中心から3/4の位置の膜厚をD2とした場合、
|D1−D2|≦D1/10
の範囲内の平坦性を有することを特徴とする機能性素子。 - 前記パターン形成層は、エネルギー照射により表面の濡れ性が変化する濡れ性変化層からなることを特徴とする請求項15に記載の機能性素子。
- 前記濡れ性変化層は、光触媒を有することを特徴とする請求項16に記載の機能性素子。
- 前記機能層はインクジェット法により形成されていることを特徴とする請求項15から請求項17までのいずれかの請求項に記載の機能性素子。
- 前記機能性素子には、機能層の平均膜厚よりも高い隔壁が形成されていないことを特徴とする請求項15から請求項18までのいずれかの請求項に記載の機能性素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006194059A JP4495700B2 (ja) | 2006-07-14 | 2006-07-14 | 機能性素子の製造方法およびその製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006194059A JP4495700B2 (ja) | 2006-07-14 | 2006-07-14 | 機能性素子の製造方法およびその製造装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002069671A Division JP3857161B2 (ja) | 2002-03-14 | 2002-03-14 | 機能性素子の製造方法およびその製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006341251A true JP2006341251A (ja) | 2006-12-21 |
JP4495700B2 JP4495700B2 (ja) | 2010-07-07 |
Family
ID=37671133
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006194059A Expired - Fee Related JP4495700B2 (ja) | 2006-07-14 | 2006-07-14 | 機能性素子の製造方法およびその製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4495700B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011025165A (ja) * | 2009-07-27 | 2011-02-10 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置及び描画方法 |
JP2011085832A (ja) * | 2009-10-19 | 2011-04-28 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタ |
JP2013078748A (ja) * | 2011-10-05 | 2013-05-02 | Sokudo Co Ltd | 塗布方法および塗布装置 |
JP2014172034A (ja) * | 2013-03-13 | 2014-09-22 | Ricoh Co Ltd | 機能膜形成装置 |
CN116047643A (zh) * | 2022-12-21 | 2023-05-02 | 苏州久晶光电科技有限公司 | 一种滤光片以及彩色滤光片的制造方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6014244A (ja) * | 1983-07-06 | 1985-01-24 | Fujitsu Ltd | マスク洗浄装置 |
JPH0372982A (ja) * | 1989-04-13 | 1991-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 液状組成物を塗布したウェッブの乾燥方法 |
JPH04163720A (ja) * | 1990-10-26 | 1992-06-09 | Nec Ibaraki Ltd | 磁気記録媒体の製造方法および装置 |
JPH0924330A (ja) * | 1995-07-10 | 1997-01-28 | Konica Corp | 連続塗布乾燥装置及び連続塗布乾燥方法 |
JPH09115432A (ja) * | 1995-10-20 | 1997-05-02 | Canon Inc | 電子放出素子、電子源、表示素子及び画像形成装置の製造方法 |
JPH1078508A (ja) * | 1996-09-05 | 1998-03-24 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタの製造方法 |
JPH10315628A (ja) * | 1997-03-14 | 1998-12-02 | Oji Paper Co Ltd | 感熱記録体 |
JP2000021018A (ja) * | 1998-06-30 | 2000-01-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光情報記録媒体及びその製造方法 |
JP2000218219A (ja) * | 1999-02-02 | 2000-08-08 | Tokyo Electron Ltd | 塗布膜形成方法および塗布処理システム |
-
2006
- 2006-07-14 JP JP2006194059A patent/JP4495700B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6014244A (ja) * | 1983-07-06 | 1985-01-24 | Fujitsu Ltd | マスク洗浄装置 |
JPH0372982A (ja) * | 1989-04-13 | 1991-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 液状組成物を塗布したウェッブの乾燥方法 |
JPH04163720A (ja) * | 1990-10-26 | 1992-06-09 | Nec Ibaraki Ltd | 磁気記録媒体の製造方法および装置 |
JPH0924330A (ja) * | 1995-07-10 | 1997-01-28 | Konica Corp | 連続塗布乾燥装置及び連続塗布乾燥方法 |
JPH09115432A (ja) * | 1995-10-20 | 1997-05-02 | Canon Inc | 電子放出素子、電子源、表示素子及び画像形成装置の製造方法 |
JPH1078508A (ja) * | 1996-09-05 | 1998-03-24 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタの製造方法 |
JPH10315628A (ja) * | 1997-03-14 | 1998-12-02 | Oji Paper Co Ltd | 感熱記録体 |
JP2000021018A (ja) * | 1998-06-30 | 2000-01-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光情報記録媒体及びその製造方法 |
JP2000218219A (ja) * | 1999-02-02 | 2000-08-08 | Tokyo Electron Ltd | 塗布膜形成方法および塗布処理システム |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011025165A (ja) * | 2009-07-27 | 2011-02-10 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置及び描画方法 |
JP2011085832A (ja) * | 2009-10-19 | 2011-04-28 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタ |
JP2013078748A (ja) * | 2011-10-05 | 2013-05-02 | Sokudo Co Ltd | 塗布方法および塗布装置 |
US9343339B2 (en) | 2011-10-05 | 2016-05-17 | Screen Semiconductor Solutions Co., Ltd. | Coating method and coating apparatus |
JP2014172034A (ja) * | 2013-03-13 | 2014-09-22 | Ricoh Co Ltd | 機能膜形成装置 |
CN116047643A (zh) * | 2022-12-21 | 2023-05-02 | 苏州久晶光电科技有限公司 | 一种滤光片以及彩色滤光片的制造方法 |
CN116047643B (zh) * | 2022-12-21 | 2023-11-21 | 苏州久晶光电科技有限公司 | 一种滤光片以及彩色滤光片的制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4495700B2 (ja) | 2010-07-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3857161B2 (ja) | 機能性素子の製造方法およびその製造装置 | |
JP4231645B2 (ja) | パターン形成体の製造方法 | |
JP4495700B2 (ja) | 機能性素子の製造方法およびその製造装置 | |
JP4486316B2 (ja) | 機能性素子の製造方法およびその製造装置 | |
KR100687835B1 (ko) | 컬러 필터 및 그 제조 방법 | |
TW200301732A (en) | Method for manufacturing pattern-forming body, pattern manufacturing apparatus and method for manufacturing color filter film | |
CN1263602A (zh) | 分布反射型多层膜镜的制造方法 | |
JP3343811B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
JP2006337804A (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法 | |
JP4788203B2 (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法 | |
JP4171033B2 (ja) | 機能性素子の製造方法およびその製造装置 | |
US7597968B2 (en) | Substrate for pattern formation | |
JP4245329B2 (ja) | 機能性素子の製造方法 | |
JP4417049B2 (ja) | 機能性素子の製造方法 | |
JP4256147B2 (ja) | 機能性素子の製造方法およびその製造装置 | |
JP4357625B2 (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法 | |
JP5110015B2 (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
JP4472301B2 (ja) | 機能性素子の製造方法 | |
JP3827910B2 (ja) | パターン形成体 | |
JP3945799B2 (ja) | パターン形成体の製造方法 | |
JP4138200B2 (ja) | 光触媒含有組成物、濡れ性変化皮膜、及び、濡れ性変化樹脂組成物の製造方法 | |
JP4682475B2 (ja) | 表示装置用カラーフィルタの製造方法 | |
JP4094217B2 (ja) | 濡れ性可変皮膜用組成物、及び、濡れ性可変皮膜 | |
JP4188007B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
JP2001074929A (ja) | カラーフィルタおよびその製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080507 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080707 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080805 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081003 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090407 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090630 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090826 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100406 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100409 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140416 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |