JP2006336040A - プラズマcvd装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 反応容器2と、プラズマ励起電源6と、平面部分を有する接地電極4とを備え、互いに離間して少なくとも一部が重なりを有するよう配置され、互いに電気的に結合または接続された複数の平板電極3a〜3cを有し、いずれかの平板電極が、反応容器内において接地電極の平面部分4aからほぼ一様な距離だけ離間して配置される高周波電圧印加電極3を有する。高周波電圧印加電極は、複数の平板電極のうち接地電極と対向しないいずれかの平板電極によってプラズマ励起電源からの給電を受け、接地電極の平面部分と高周波電圧印加電極とからなる電極対に高周波の電圧が印加される。
【選択図】 図1
Description
伝播速度ν=1/(LC)1/2=1/(0.5×10-3×200×10-9)1/2[km/s]=1.0×108[m/s]
波長λ=ν/f=1.O×l08/(13.56×106)=7.37[m](13.56MHz)
=1.0×108/(27×106)=3.7[m] (27MHz)
となる。定在波の腹と節の間隔はλ/4となるから、定在波の振幅は、開放端で完全に反射するという条件では、図8のようになる。このように、高周波電源の周波数により異なるものの、例えば、給電端に比べて開放端側の電位が大きくなることがある。特に、成膜される基板が大型化し、周波数が高くする場合には、定在波の影響が一層大きくなる。
2:反応室
3:高周波電圧印加電極
4:接地電極
5:放電空間
6:プラズマ励起電源
7:インピーダンス整合器
8:浮遊キャパシタンス
Claims (7)
- 減圧可能な反応容器内にプラズマを生成するための高周波の電力を供給するプラズマ励起電源と、
前記反応容器内に配置され、平面部分を有する接地電極と、
複数の平板電極を有し前記反応容器内に配置される高周波電圧印加電極であって、該平板電極のそれぞれは、少なくとも一部が重なりを有するよう互いに離間されて互いに電気的に結合または短絡されており、該平板電極の一つが、前記接地電極の前記平面部分からほぼ一様な距離だけ離間して配置されており、前記接地電極と対向しないいずれかの平板電極によって前記プラズマ励起電源からの給電を受け、前記接地電極と前記高周波電圧印加電極とからなる電極対に前記高周波の電圧が印加される、高周波電圧印加電極と
を備えてなるプラズマCVD装置。 - 前記プラズマ励起電源が高周波発振回路と前記高周波発信回路を周期的にオン・オフさせる発振回路とを組み合わせて変調高周波を発生させるものであることを特徴とする請求項1に記載のプラズマCVD装置。
- 前記高周波電圧印加電極の複数の平板電極のうち、少なくとも二つの隣り合う平板電極が、平板電極の重なる領域のほぼ中心部において互いに電気的に短絡されることを特徴とする請求項1に記載のプラズマCVD装置。
- 前記高周波電圧印加電極の複数の平板電極のうち、少なくとも二つの平板電極の面積が互いに異なることを特徴とする請求項1に記載のプラズマCVD装置。
- 前記高周波電圧印加電極の複数の平板電極のうち、少なくとも二つの隣り合う平板電極の間の間隔が一様でないことを特徴とする請求項1に記載のプラズマCVD装置。
- 前記高周波電圧印加電極の複数の平板電極のうち、少なくとも二つの隣り合う平板電極の間の空間の少なくとも一部に誘電体が配置されることを特徴とする請求項1に記載のプラズマCVD装置。
- 前記高周波電圧印加電極の複数の平板電極のうち前記接地電極と対向しない面の平板電極が前記反応容器の壁の少なくとも一部であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマCVD装置。
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