JP2006324311A5 - - Google Patents
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Claims (13)
- 被検光学系の波面収差を測定する波面収差測定装置において、
前記被検光学系に入射する光を規定する第1のマスクと、
前記被検光学系からの光を前記被検光学系の波面収差の情報を含んだまま通過させる第1の開口と、前記被検光学系からの光を前記被検光学系の波面収差の情報を除いたうえで通過させる複数の開口とが設けられた第2のマスクと、
前記第1の開口及び前記複数の開口のうち2つの開口を通過した光により形成される干渉縞を検出する検出手段と、
前記第1の開口を通過した光と前記複数の開口のうち1つの開口を通過した光とが干渉することにより形成される干渉縞の前記検出手段による検出結果を、前記複数の開口のうち2つの開口を通過したそれぞれの光同士が干渉することにより形成される干渉縞の前記検出手段による検出結果に基づいて補正する制御部と、を備えることを特徴とする波面収差測定装置。 - 前記第2のマスクは、前記第1の開口と、前記複数の開口としての第2の開口、第3の開口及び第4の開口とを含み、
前記制御部は、前記第1の開口を通過した光と前記第2の開口を通過した光とが干渉することにより形成される干渉縞の前記検出手段による検出結果を、前記第3の開口を通過した光と前記第4の開口を通過した光とが干渉することにより形成される干渉縞の前記検出手段による検出結果に基づいて補正することを特徴とする請求項1に記載の波面収差測定装置。 - 前記複数の開口は、ピンホールであり、
前記第1の開口は、該ピンホールより大きい開口であることを特徴とする請求項1記載の波面収差測定装置。 - 前記複数の開口は、スリットであり、
前記第1の開口は、該スリットの幅より大きい幅のスリットであることを特徴とする請求項1記載の波面収差測定装置。 - 前記第2のマスクは、更に、前記被検光学系からの光を前記被検光学系の波面収差の情報を含んだまま通過させる第5の開口と、前記被検光学系からの光を前記被検光学系の波面収差の情報を除いたうえで通過させる第6〜第8の開口を含み、
前記制御部は、更に、前記第5の開口を通過した光と前記第6の開口を通過した光とが干渉することにより形成される干渉縞の前記検出手段による検出結果を、前記第7の開口を通過した光と前記第8の開口を通過した光とが干渉することにより形成される干渉縞の前記検出手段による検出結果に基づいて補正し、
前記第2〜第4の開口はスリットであり、前記第1の開口は前記第2〜第4の開口のスリットの幅より大きい幅のスリットであり、
前記第6〜第8の開口はスリットであり、前記第5の開口は前記第6〜第8の開口のスリットの幅より大きい幅のスリットであり、
前記第5〜第8の開口の長手方向は、前記第1〜第4の開口の長手方向に対して垂直であることを特徴とする請求項2に記載の波面収差測定装置。 - レチクルのパターンの像を基板に露光する露光装置において、
前記レチクルのパターンの像を前記基板上に投影する投影光学系と、
前記被検光学系としての前記投影光学系の波面収差を測定する波面収差測定装置と、を備えることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の露光装置。 - 前記第2のマスクと前記検出手段とは、前記基板が載置される基板ステージに設けられることを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
- 前記レチクルが載置されるレチクルステージを有し、
前記レチクルステージは、前記第1のマスクを含む測定用レチクルを載置可能であることを特徴とする請求項6又は7に記載の露光装置。 - 前記レチクルステージ上において、前記第1のマスクは、前記レチクルとは異なる場所に載置されることを特徴とする請求項8に記載の露光装置。
- 被検光学系の波面収差を測定する波面収差測定方法であって、
前記被検光学系に入射する光を規定する第1のマスクをセットする第1のマスクセットステップと、
前記被検光学系からの光を前記被検光学系の波面収差の情報を含んだまま通過させる第1の開口と、前記被検光学系からの光を前記被検光学系の波面収差の情報を除いたうえで通過させる複数の開口とが設けられた第2のマスクを、前記被検光学系を通過した光が前記第1の開口と前記複数の開口のうち1つの開口を透過するようにセットする第2のマスクセットステップと、
前記第1の開口を通過した光と前記複数の開口のうち1つを通過した光が干渉することにより形成される干渉縞を検出する第1の検出ステップと、
前記第2のマスクを、前記被検光学系を通過した光が前記複数の開口のうち2つの開口を透過するようにセットする第3のマスクセットステップと、
前記複数の開口のうち2つの開口の各々を通過した光同士が干渉することにより形成される干渉縞を検出する第2の検出ステップと、
前記第1の検出ステップにおいて検出された干渉縞の情報を前記第2の検出ステップにおいて検出された干渉縞の情報に基づいて補正する補正ステップとを有することを特徴とする波面収差測定方法。 - 前記第1の検出ステップで検出した前記干渉縞から、前記被検光学系の波面収差と計測誤差とを含む被検波面収差を求め、
前記第2の検出ステップで検出した前記干渉縞から、前記計測誤差を含むオフセット波面収差を求め、
前記補正ステップでは、前記被検波面収差を、前記オフセット波面収差に基づいて補正することを特徴とする請求項10に記載の波面収差測定方法。 - 前記補正ステップでは、前記被検波面収差から前記オフセット波面収差を減算することを特徴とする請求項11記載の波面収差測定方法。
- 前記第被検波面収差を示すゼルニケ多項式の各項の値から、前記オフセット波面収差を示すゼルニケ多項式の各項の値を減算することを特徴とする請求項12記載の波面収差測定方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005143922A JP2006324311A (ja) | 2005-05-17 | 2005-05-17 | 波面収差測定装置及びそれを有する露光装置 |
US11/418,990 US7623247B2 (en) | 2005-05-17 | 2006-05-04 | Wavefront-aberration measuring device and exposure apparatus including the device |
EP06252467A EP1724642A3 (en) | 2005-05-17 | 2006-05-10 | Wavefront-aberration measuring device and exposure apparatus including the device |
KR1020060043736A KR100817655B1 (ko) | 2005-05-17 | 2006-05-16 | 파면수차를 측정하는 측정장치 및 그것을 가지는 노광장치 |
KR1020070135517A KR100817988B1 (ko) | 2005-05-17 | 2007-12-21 | 파면수차를 측정하는 측정장치 및 그것을 가지는 노광장치,그리고 파면수차의 측정방법 |
US12/409,295 US7746479B2 (en) | 2005-05-17 | 2009-03-23 | Wavefront-aberration measuring device and exposure apparatus including the device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005143922A JP2006324311A (ja) | 2005-05-17 | 2005-05-17 | 波面収差測定装置及びそれを有する露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006324311A JP2006324311A (ja) | 2006-11-30 |
JP2006324311A5 true JP2006324311A5 (ja) | 2008-06-26 |
Family
ID=36579481
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005143922A Withdrawn JP2006324311A (ja) | 2005-05-17 | 2005-05-17 | 波面収差測定装置及びそれを有する露光装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7623247B2 (ja) |
EP (1) | EP1724642A3 (ja) |
JP (1) | JP2006324311A (ja) |
KR (2) | KR100817655B1 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4782019B2 (ja) * | 2004-01-16 | 2011-09-28 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学系の光学測定のための装置及び方法、測定構造支持材、及びマイクロリソグラフィ投影露光装置 |
JP4666982B2 (ja) * | 2004-09-02 | 2011-04-06 | キヤノン株式会社 | 光学特性測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
CN101223459A (zh) | 2005-05-27 | 2008-07-16 | 卡尔蔡司Smt股份公司 | 光散射盘、其用途以及波阵面测量设备 |
JP2007180152A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Canon Inc | 測定方法及び装置、露光装置、並びに、デバイス製造方法 |
JP2007335493A (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-27 | Canon Inc | 測定方法及び装置、露光装置、並びに、デバイス製造方法 |
JP2008192855A (ja) * | 2007-02-05 | 2008-08-21 | Canon Inc | 測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP5063229B2 (ja) | 2007-07-12 | 2012-10-31 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2009210359A (ja) * | 2008-03-03 | 2009-09-17 | Canon Inc | 評価方法、評価装置および露光装置 |
JP2009216454A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Canon Inc | 波面収差測定装置、波面収差測定方法、露光装置およびデバイス製造方法 |
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JP5503193B2 (ja) * | 2009-06-08 | 2014-05-28 | キヤノン株式会社 | 波面収差の測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP5538851B2 (ja) * | 2009-12-09 | 2014-07-02 | キヤノン株式会社 | 測定装置、露光装置及びデバイスの製造方法 |
CN102692820B (zh) * | 2011-03-21 | 2014-12-17 | 上海微电子装备有限公司 | 一种测量投影物镜畸变的装置及方法 |
CN105466668B (zh) * | 2015-12-24 | 2018-01-12 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 点衍射干涉波像差测量仪及光学系统波像差的检测方法 |
CN105424325B (zh) * | 2015-12-24 | 2018-03-20 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 点衍射干涉波像差测量仪及光学系统波像差的检测方法 |
CN107144420B (zh) * | 2017-04-26 | 2020-01-31 | 长沙青波光电科技有限公司 | 光学镜头像差检测装置及方法 |
CN116858496B (zh) * | 2023-05-05 | 2024-08-13 | 中国科学院高能物理研究所 | 一种基于多刃边扫描的波前检测方法及装置 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2538435B2 (ja) | 1991-03-27 | 1996-09-25 | 理化学研究所 | 縞位相分布解析方法および縞位相分布解析装置 |
JP3278896B2 (ja) * | 1992-03-31 | 2002-04-30 | キヤノン株式会社 | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
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JPH1114322A (ja) | 1997-06-19 | 1999-01-22 | Canon Inc | 電子モアレ測定方法及びそれを用いた測定装置 |
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JP2004037429A (ja) | 2002-07-08 | 2004-02-05 | Nikon Corp | シアリング干渉計の校正方法、投影光学系の製造方法、投影光学系、及び投影露光装置 |
JP4266673B2 (ja) * | 2003-03-05 | 2009-05-20 | キヤノン株式会社 | 収差測定装置 |
JP2004269731A (ja) | 2003-03-10 | 2004-09-30 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 平版印刷インキ |
JP4408040B2 (ja) * | 2003-11-28 | 2010-02-03 | キヤノン株式会社 | 干渉を利用した測定方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 |
JP4464166B2 (ja) * | 2004-02-27 | 2010-05-19 | キヤノン株式会社 | 測定装置を搭載した露光装置 |
JP2005311080A (ja) * | 2004-04-21 | 2005-11-04 | Canon Inc | 測定装置、当該測定装置を有する露光装置 |
JP4095598B2 (ja) * | 2004-09-16 | 2008-06-04 | キヤノン株式会社 | 二次元波面収差の算出方法 |
-
2005
- 2005-05-17 JP JP2005143922A patent/JP2006324311A/ja not_active Withdrawn
-
2006
- 2006-05-04 US US11/418,990 patent/US7623247B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-05-10 EP EP06252467A patent/EP1724642A3/en not_active Withdrawn
- 2006-05-16 KR KR1020060043736A patent/KR100817655B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2007
- 2007-12-21 KR KR1020070135517A patent/KR100817988B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2009
- 2009-03-23 US US12/409,295 patent/US7746479B2/en not_active Expired - Fee Related
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JP2008533475A5 (ja) |