JP2006324311A5 - - Google Patents

Claims (13)

1. 被検光学系の波面収差を測定する波面収差測定装置において、
   前記被検光学系に入射する光を規定する第１のマスクと、
   前記被検光学系からの光を前記被検光学系の波面収差の情報を含んだまま通過させる第１の開口と、前記被検光学系からの光を前記被検光学系の波面収差の情報を除いたうえで通過させる複数の開口とが設けられた第２のマスクと、
   前記第１の開口及び前記複数の開口のうち２つの開口を通過した光により形成される干渉縞を検出する検出手段と、
   前記第１の開口を通過した光と前記複数の開口のうち１つの開口を通過した光とが干渉することにより形成される干渉縞の前記検出手段による検出結果を、前記複数の開口のうち２つの開口を通過したそれぞれの光同士が干渉することにより形成される干渉縞の前記検出手段による検出結果に基づいて補正する制御部と、を備えることを特徴とする波面収差測定装置。
2. 前記第２のマスクは、前記第１の開口と、前記複数の開口としての第２の開口、第３の開口及び第４の開口とを含み、
   前記制御部は、前記第１の開口を通過した光と前記第２の開口を通過した光とが干渉することにより形成される干渉縞の前記検出手段による検出結果を、前記第３の開口を通過した光と前記第４の開口を通過した光とが干渉することにより形成される干渉縞の前記検出手段による検出結果に基づいて補正することを特徴とする請求項１に記載の波面収差測定装置。
3. 前記複数の開口は、ピンホールであり、
   前記第１の開口は、該ピンホールより大きい開口であることを特徴とする請求項１記載の波面収差測定装置。
4. 前記複数の開口は、スリットであり、
   前記第１の開口は、該スリットの幅より大きい幅のスリットであることを特徴とする請求項１記載の波面収差測定装置。
5. 前記第２のマスクは、更に、前記被検光学系からの光を前記被検光学系の波面収差の情報を含んだまま通過させる第５の開口と、前記被検光学系からの光を前記被検光学系の波面収差の情報を除いたうえで通過させる第６〜第８の開口を含み、
   前記制御部は、更に、前記第５の開口を通過した光と前記第６の開口を通過した光とが干渉することにより形成される干渉縞の前記検出手段による検出結果を、前記第７の開口を通過した光と前記第８の開口を通過した光とが干渉することにより形成される干渉縞の前記検出手段による検出結果に基づいて補正し、
   前記第２〜第４の開口はスリットであり、前記第１の開口は前記第２〜第４の開口のスリットの幅より大きい幅のスリットであり、
   前記第６〜第８の開口はスリットであり、前記第５の開口は前記第６〜第８の開口のスリットの幅より大きい幅のスリットであり、
   前記第５〜第８の開口の長手方向は、前記第１〜第４の開口の長手方向に対して垂直であることを特徴とする請求項２に記載の波面収差測定装置。
6. レチクルのパターンの像を基板に露光する露光装置において、
   前記レチクルのパターンの像を前記基板上に投影する投影光学系と、
   前記被検光学系としての前記投影光学系の波面収差を測定する波面収差測定装置と、を備えることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の露光装置。
7. 前記第２のマスクと前記検出手段とは、前記基板が載置される基板ステージに設けられることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
8. 前記レチクルが載置されるレチクルステージを有し、
   前記レチクルステージは、前記第１のマスクを含む測定用レチクルを載置可能であることを特徴とする請求項６又は７に記載の露光装置。
9. 前記レチクルステージ上において、前記第１のマスクは、前記レチクルとは異なる場所に載置されることを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
10. 被検光学系の波面収差を測定する波面収差測定方法であって、
    前記被検光学系に入射する光を規定する第１のマスクをセットする第１のマスクセットステップと、
    前記被検光学系からの光を前記被検光学系の波面収差の情報を含んだまま通過させる第１の開口と、前記被検光学系からの光を前記被検光学系の波面収差の情報を除いたうえで通過させる複数の開口とが設けられた第２のマスクを、前記被検光学系を通過した光が前記第１の開口と前記複数の開口のうち１つの開口を透過するようにセットする第２のマスクセットステップと、
    前記第１の開口を通過した光と前記複数の開口のうち１つを通過した光が干渉することにより形成される干渉縞を検出する第１の検出ステップと、
    前記第２のマスクを、前記被検光学系を通過した光が前記複数の開口のうち２つの開口を透過するようにセットする第３のマスクセットステップと、
    前記複数の開口のうち２つの開口の各々を通過した光同士が干渉することにより形成される干渉縞を検出する第２の検出ステップと、
    前記第１の検出ステップにおいて検出された干渉縞の情報を前記第２の検出ステップにおいて検出された干渉縞の情報に基づいて補正する補正ステップとを有することを特徴とする波面収差測定方法。
11. 前記第１の検出ステップで検出した前記干渉縞から、前記被検光学系の波面収差と計測誤差とを含む被検波面収差を求め、
    前記第２の検出ステップで検出した前記干渉縞から、前記計測誤差を含むオフセット波面収差を求め、
    前記補正ステップでは、前記被検波面収差を、前記オフセット波面収差に基づいて補正することを特徴とする請求項１０に記載の波面収差測定方法。
12. 前記補正ステップでは、前記被検波面収差から前記オフセット波面収差を減算することを特徴とする請求項１１記載の波面収差測定方法。
13. 前記第被検波面収差を示すゼルニケ多項式の各項の値から、前記オフセット波面収差を示すゼルニケ多項式の各項の値を減算することを特徴とする請求項１２記載の波面収差測定方法。