JP2006323935A - 磁気スケール用媒体及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】磁気スケール用媒体10は、非磁性支持体12上に磁性層14及び保護層16を積層して構成されている。そして、磁性層14に含有される結合剤は、少なくともガラス転移温度が70〜85℃のポリウレタン樹脂Aを結合剤の60〜80重量%及びガラス転移温度が0〜30℃のポリウレタン樹脂Bを結合剤の20〜40重量%含有する2種類以上のポリウレタン樹脂のみからなり、該2種類以上のポリウレタン樹脂のうち少なくとも1種のポリウレタン樹脂は極性基を持っている。又、保護層16を構成する高分子樹脂は、ガラス転移温度が70℃以上のポリウレタン樹脂のみからなる。
【選択図】図1
Description
Co被着γ−Fe2O3 100
(BET値:35m2/g、Hc:695Oe、平均長軸長:0.30μm)
結合剤(表1に示した組成) 17
α−アルミナ(粒径0.3μm) 1.0
ソルビタンモノステアレート 2.0
ステアリン酸 1.0
ポリイソシアネート 3.5
メチルエチルケトン 80
トルエン 80
シクロヘキサノン 80
樹脂(表1に示す) 100
ポリイソシアネート 20
シリコーン系オイル 1
メチルエチルケトン 300
トルエン 300
得られた磁気スケール用媒体原反の非磁性支持体面に両面テープを上記図2のごとくラミネート加工した後、裁断機を使用して各々のピースが長さ100mm、幅10mmの矩形になるように裁断した。そして、各ピースの磁性層側のエッジ部分を顕微鏡にて観察し、ひび割れや変形がほとんど確認されないものを○、程度の軽いひび割れが認められたものを△、程度がひどく塗膜の脱落の危険性があるひび割れが認められたものを×、エッジと平行に磁性層が連続的に割れている部分があり、エッジ部分がめくれ上がり大きく変形しているものを××とした。
磁性層塗料の分散性及びカレンダ加工性の違いによる磁気媒体としての再生出力の違いをオーディオテープ用評価装置で代用して評価した。再生出力測定用試料のみ、保護層形成前の媒体原反を磁気テープ用スリッターにて3.81mm幅に切断して評価に用いた。オープンリールタイプコンソールデッキにて媒体表面性に影響が少ないMOL315Hzを測定し、磁性層の再生出力特性とした。その際、従来例として満足できる再生出力レベルである比較例1の磁気媒体を標準とし、この再生出力レベルを0.0dBとして、他の磁気媒体の再生出力レベルを相対値で表すと共に、再生出力レベルが0.0dB以下の磁気媒体は再生出力不良と判定した。
磁気スケール用媒体を両面テープの接着層を介して直線往復運動可能な移動ステージに固定した。又、GMRセンサチップを、板バネによって磁気スケール用媒体の保護層に対して一定荷重で押圧するように配設した。そして、常温環境下にて移動ステージを5万回往復させ、GMRセンサチップの表面が磁気スケール用媒体の保護層表面の同一箇所に接するようにGMRセンサチップを摺動させた。試験終了後、保護層表面のセンサ摺動部分とGMRセンサチップへの付着物を顕微鏡で観察し、保護層の削れ及びGMRセンサチップへの付着がほとんどないものを○、保護層が削れ、GMRセンサチップへの付着物が確認されたが、削れ深さが磁性層まで達していないことが確認されたものを×、GMRセンサチップへの付着が多量であり、削れ深さが磁性層まで達していることが確認されたものを××とした。
12…非磁性支持体
14…磁性層
16…保護層
18…接着層
20…剥離シート
Claims (6)
- 非磁性支持体上に磁性層及び保護層を積層してなる磁気スケール用媒体であって、前記磁性層に含有される結合剤は、少なくともガラス転移温度が70〜85℃のポリウレタン樹脂Aを前記結合剤の60〜80重量%及びガラス転移温度が0〜30℃のポリウレタン樹脂Bを前記結合剤の20〜40重量%含有する2種類以上のポリウレタン樹脂のみからなり、該2種類以上のポリウレタン樹脂のうち少なくとも1種のポリウレタン樹脂は極性基を持ち、且つ、前記保護層を構成する高分子樹脂は、ガラス転移温度が70℃以上のポリウレタン樹脂のみからなることを特徴とする磁気スケール用媒体。
- 請求項1において、
前記保護層を構成する高分子樹脂は、前記磁性層におけるポリウレタン樹脂Aと同一のポリウレタン樹脂からなることを特徴とする磁気スケール用媒体。 - 請求項1又は2において、
前記保護層は、潤滑剤として、構成ポリウレタン樹脂の0.5〜5重量%のシリコーン系オイルを含有することを特徴とする磁気スケール用媒体。 - ポリエチレンテレフタレートからなる非磁性支持体上に、低分子イソシアネート化合物を含有する磁性層及び保護層を積層して形成される磁気スケール用媒体の製造方法であって、前記磁性層の形成後に熱硬化処理を行うことなく前記保護層を形成し、該保護層の形成後に100〜120℃の温度で前記熱硬化処理を行うことを特徴とする磁気スケール用媒体の製造方法。
- 請求項4において、
前記非磁性支持体の厚みが50〜200μmであることを特徴とする磁気スケール用媒体の製造方法。 - 請求項4又は5において、
前記非磁性支持体を平板状に維持した状態で前記熱硬化処理を行うことを特徴とする磁気スケール用媒体の製造方法。
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