JP2006317466A - 欠陥検査方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】欠陥検査方法は、荷電粒子ビーム2を試料10に照射するビーム源1と、試料表面からの荷電粒子を検出部する検出部18とを備える検査装置を用いる。試料10の表面が所定の電気抵抗値を有する抵抗膜42により被覆され、荷電粒子ビーム2が試料10に照射され、試料表面から発生される二次荷電粒子等が検出部18により検出される。
【選択図】図5
Description
Claims (3)
- 電子ビームを試料表面に照射し試料表面から発生する二次電子を検出することにより試料表面の欠陥を検出する欠陥検査方法であって、
試料表面に所定の電気抵抗値を有する薄膜からなる抵抗膜を被覆する工程、
抵抗膜を被覆した試料表面に対して開口により成形された電子ビームを投影する工程、
試料表面から放出されるパターン画像情報を持った二次電子から試料表面の二次電子画像を形成する工程、
画像データと画像データとの比較で欠陥を検出する工程、及び
純水又は超純水を用いた洗浄により試料表面から抵抗膜を除去する工程を含み、
前記抵抗膜の抵抗値を、前記二次電子による試料表面の二次電子画像における像歪み及びパターン認識性に基づいて選定することを特徴とする欠陥検査方法。 - 前記抵抗膜の被覆をスピンコーターにより行うことを特徴とする請求項1記載の欠陥検査方法。
- 前記抵抗膜は金属含有表面活性剤からなり、金属含有率により該抵抗膜の伝導率を制御することを特徴とする請求項2記載の欠陥検査方法。
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