JP2006306651A - シリカ・チタニア複合酸化物粒子 - Google Patents

シリカ・チタニア複合酸化物粒子 Download PDF

Info

Publication number
JP2006306651A
JP2006306651A JP2005129736A JP2005129736A JP2006306651A JP 2006306651 A JP2006306651 A JP 2006306651A JP 2005129736 A JP2005129736 A JP 2005129736A JP 2005129736 A JP2005129736 A JP 2005129736A JP 2006306651 A JP2006306651 A JP 2006306651A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silica
titania
particles
composite oxide
less
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2005129736A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirotaka Amano
裕貴 天野
Masahiko Kamata
正彦 鎌田
Akira Inoue
晃 井上
Brandl Paul
パウル・ブランドル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Aerosil Co Ltd
Original Assignee
Nippon Aerosil Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Aerosil Co Ltd filed Critical Nippon Aerosil Co Ltd
Priority to JP2005129736A priority Critical patent/JP2006306651A/ja
Priority to US11/909,039 priority patent/US20110159426A1/en
Priority to EP06732501A priority patent/EP1876144A4/en
Priority to KR1020077019758A priority patent/KR20070122453A/ko
Priority to CNA2006800137633A priority patent/CN101163640A/zh
Priority to PCT/JP2006/309199 priority patent/WO2006123541A1/ja
Priority to TW095132755A priority patent/TW200812907A/zh
Publication of JP2006306651A publication Critical patent/JP2006306651A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G23/00Compounds of titanium
    • C01G23/04Oxides; Hydroxides
    • C01G23/047Titanium dioxide
    • C01G23/07Producing by vapour phase processes, e.g. halide oxidation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/181Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process
    • C01B33/183Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process by oxidation or hydrolysis in the vapour phase of silicon compounds such as halides, trichlorosilane, monosilane
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00Developers
    • G03G9/08Developers with toner particles
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00Developers
    • G03G9/08Developers with toner particles
    • G03G9/097Plasticisers; Charge controlling agents
    • G03G9/09708Inorganic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/80Particles consisting of a mixture of two or more inorganic phases
    • C01P2004/82Particles consisting of a mixture of two or more inorganic phases two phases having the same anion, e.g. both oxidic phases
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12Surface area
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/90Other properties not specified above

Abstract

【課題】シリカとチタニアの複合化率が高く、分散性および環境安定性に優れたシリカ・チタニア複合酸化物粒子を提供する。
【手段】気相法によって製造されたシリカ・チタニア複合酸化物粒子であって、チタニアの含有量が50重量%以上、BET比表面積が100m2/g以下、電子顕微鏡観察下においてシリカ単独粒子およびチタニア単独粒子の割合が10%以下、好ましくは5%以下であり、表面が疎水化されているシリカ・チタニア複合酸化物粒子。
【選択図】 なし

Description

本発明は、シリカとチタニアの複合化率が高く、分散性および環境安定性に優れたシリカ・チタニア複合酸化物粒子に関する。
電子写真用トナーの外添剤としてシリカ微粒子、チタニア微粒子、アルミナ微粒子などの金属酸化物微粒子が用いられており、これらを疎水化したものも用いられている。これらの金属酸化物微粒子は電子写真画像の鮮明性、安定性などを高めるため、粒子自体について優れた流動性、分散性、環境安定性、帯電安定性などが求められる。
例えば、特許第3587671号公報(特許文献1)および特許第3587672号公報(特許文献2)には、アルミニウム、ホウ素、またはチタンを含有し、表面が疎水化されたシリカ微粒子からなる電子写真用現像剤が記載されている。また、特許第2503370号公報(特許文献3)には、アルミニウムまたは珪素を含有する二酸化チタン複合酸化物粒子が記載されている。さらに、特開2004−155648号公報(特許文献4)には、電子写真用トナーの外添剤として用いられるシリカ粒子について、ヒュームドシリカの表面を金属アルコキシドによって疎水化したシリカ粒子が記載されている。
特許第3587671号公報 特許第3587672号公報 特許第2503370号公報 特開2004−155648号公報
特許文献1および2のシリカ微粒子は、アルミニウム、ホウ素、またはチタンを含有することによって耐電安定性を高めており、BET比表面性も100m2/g以下であるが、例えばチタンの含有量は25%以下であり、シリカとチタンの複合化率は特定されていないために環境安定性や耐電安定性が不十分である。一方、特許文献3のシリカ・チタニア複合酸化物粒子はチタン含有量が高いが、上記シリカ微粒子と同様にシリカとチタンの複合化率は特定されていないために環境安定性や耐電安定性が不十分である。特許文献4のシリカ微粒子は表面を疎水化処理することによって流動性と帯電安定性を高めているが、チタン等は含有されておらず、さらに改善の余地がある。
本発明は、従来の電子写真用トナーの外添剤として用いられるシリカ微粒子等における上記問題を解決したものであり、シリカとチタニアの複合化率が高く、分散性および環境安定性に優れ、電子写真用トナーの外添剤として最適なシリカ・チタニア複合酸化物微粒子を提供する。
本発明は以下のシリカ・チタニア複合酸化物微粒子に関する。
(1)気相法によって製造されたシリカ・チタニア複合酸化物粒子であって、チタニアの含有量が50重量%以上、BET比表面積が100m2/g以下、電子顕微鏡観察下においてシリカ単独粒子およびチタニア単独粒子の割合が10%以下であることを特徴とするシリカ・チタニア複合酸化物粒子。
(2)電子顕微鏡観察下においてシリカ単独粒子およびチタニア単独粒子の割合が5%以下である上記(1)のシリカ・チタニア複合酸化物粒子。
(3)表面が疎水化されている上記(1)または(2)のシリカ・チタニア複合酸化物粒子。
(4)上記(1)〜(3)の何れかに記載したシリカ・チタニア複合酸化物粒子を含む電子写真用トナー。
本発明のシリカ・チタニア複合酸化物微粒子はBET比表面積が100m2/g以下であるので、電子写真用トナーの外添剤として用いた場合、耐久性および転写性が良く、さらに環境安定性が優れる。また、本発明のシリカ・チタニア複合酸化物微粒子はシリカによる高流動性および高分散性と共にチタニアによる高環境安定性および高帯電安定性を併せて有し、優れた画像特性が得られる。とくに、チタニア含有量が50%以上であるので環境安定性および帯電安定性に優れており、しかも、シリカとチタニアとが複合化されており、この複合化率が高いので、チタニアによる高い固めかさ密度による問題や色調への悪影響がない。
以下、本発明を具体的に説明する。
本発明のシリカ・チタニア複合酸化物粒子は、気相法で製造されたものであって、チタニアの含有量が50重量%以上、BET比表面積が100m2/g以下、電子顕微鏡観察下においてシリカ単独粒子およびチタニア単独粒子の割合が10%以下であることを特徴とするシリカ・チタニア複合酸化物粒子である。
シリカ・チタニア複合酸化物粒子の気相法による製造方法は、例えば、四塩化ケイ素ガスと四塩化チタンガスとを不活性ガスと共に燃焼バーナーの混合室に導入し、水素および空気と混合して所定比率の混合ガスとし、この混合ガスを反応室で1000℃〜3000℃の温度で燃焼させてシリカ・チタニア複合酸化物粒子を生成させ、冷却後、フィルターで捕集する。
上記製造方法において、シリカとチタニアの複合化率(シリカ単独粒子およびチタニア単独粒子の割合が小さいほど複合化率が高い)は、燃焼バーナーに導入する四塩化ケイ素ガスと四塩化チタンガスの流量比率と共に、燃焼時間や温度、燃焼雰囲気、およびその他の燃焼条件によって影響を受けるので、本発明においては、シリカ単独粒子およびチタニア単独粒子の割合が10%以下、好ましくは5%以下になるように、四塩化ケイ素ガスと四塩化チタンガスの流量比率と共に燃焼時間や温度、燃焼雰囲気などの燃焼条件を複合的に調整する。
本発明の酸化物粒子は、上記気相法によって製造されたシリカ・チタニア複合酸化物粒子である。シリカとチタニアが複合化されているので、シリカによる高流動性および高分散性の性質と共にチタニアによる環境安定性および帯電安定性に優れた性質を併せ持っている。さらにチタニアの含有量が50重量%以上であるので特に環境安定性および帯電安定性に優れいる。なお、チタニア含有量が50%未満では相対的にシリカ含有量が多いので、シリカの不安定な環境安定性の影響が大きくなってしまう。
さらに、本発明のシリカ・チタニア複合酸化物粒子は、シリカとチタニアの複合化率が高く、シリカ単独粒子およびチタニア単独粒子の存在割合が10%以下、好ましくは5%以下である。シリカとチタニアの複合化率が高いので、チタニアの含有量が多くてもチタニアによる高い固めかさ密度による問題や色調への悪影響がない。
シリカ単独粒子およびチタニア単独粒子の存在割合は、透過電子顕微鏡(TEM−EDX)による観察によって把握することができる。具体的には、透過電子顕微鏡(TEM−EDX)による観察において、例えば、10万〜20万倍の倍率下で観察と元素マッピングを連続した視野で行い、観察される粒子に対してSiとTiの元素をマッピングしたとき、同一粒子においてSiとTiの両元素が観察されるものを複合粒子とし、何れか一方の元素のみが観察されるものを単独粒子とする。この観察によって粒子100個あたりの複合化されていない粒子の数を単独粒子の存在割合とする。本発明のシリカ・チタニア複合酸化物粒子は、このようにして観察したシリカ単独粒子およびチタニア単独粒子の存在割合が10%以下、好ましくは5%以下のものである。
なお、本発明のようにシリカとチタニアが複合化された酸化物粒子は、シリカ粒子とチタニア粒子を混合したものとは性質および挙動が異なる。シリカ粒子とチタニア粒子の混合粒子ないし混合粉体は、チタニアによる高い固めかさ密度や高い隠ぺい力が見られ、かつシリカによる不安定な環境安定性が見られるが、シリカ・チタニアの複合酸化物粒子ではかさ密度や隠ぺい力は低く、環境安定性もよい。
さらに、本発明のシリカ・チタニア複合酸化物粒子はBET比表面積が100m2/g以下である。BET比表面積が100m2/gより大きいと、電子写真用トナーの外添剤として用いたときに、この微粒子の粒径がトナー粒子よりも小さいので、トナー粒子に埋め込まれ易くなり、耐久性に乏しくなる。また、表面積が大きいために空気中の水分を吸着し易く、環境安定性に劣る。
本発明のシリカ・チタニア複合酸化物粒子は表面を疎水化したものを含む。疎水化方法は上記複合酸化物粒子を攪拌下または流動下で疎水化剤を噴霧する方法、あるいは、上記複合酸化物粒子を攪拌下または流動下で疎水化剤蒸気を導入する方法など特に制限されずに実施することができる。また、疎水化剤は公知のものを特に制限されずに使用することができる。
本発明のシリカ・チタニア複合酸化物粒子は、高流動性および高分散性の性質と共に環境安定性および帯電安定性に優れた性質を併せ持っているので、電子写真用トナーの外添剤として最適である。
シリカ・チタニア複合酸化物粒子について、シリカとチタニアの含有量比、比表面積、独立粒子の存在量の相違による環境安定性(HH/LL比)、流動性、画像のかぶりに対する影響を調べた。この結果を表1に示した。また、シリカ粒子とチタニア粒子の混合粒子の例を併せて示した。なお、BET比表面積、HH/LL、流動性、画像のかぶりはおのおの以下の方法によって測定した。
〔BET比表面積〕迅速表面積測定装置(柴田科学器機工業株式会社製品:SA1100型)によって測定した。
〔環境安定性(HH/LL比)〕疎水性シリカ・チタニア複合酸化物粒子0.4gと負帯電性8μmトナー40gとをミキサーにて撹拌混合して得た電子写真用トナー組成物2gとキャリア48gとをガラス容器(容量75mL)に入れ、HH環境およびLL環境下に24時間放置する。ここで、HH環境下とは温度40℃、湿度85%の雰囲気を云い、LL環境下とは温度10℃、湿度20%の雰囲気を云う。このHH環境およびLL環境下に24時間放置したトナー組成物と鉄粉キャリアの混合物をそれぞれ、ターブラミキサーで5分振とうした後、トナー組成物の混ざった鉄粉キャリア0.2gを採取し、ブローオフ帯電量測定装置(東芝ケミカル社製品TB-200型)で1分間窒素ブローした後の値をトナー組成物の帯電量とし、HH環境およびLL環境下に24時間放置したトナー組成物の帯電量の比HH/LLを求め、これを環境安定性の値とした。HH/LLは1に近いほうが良い。
〔流動性〕パウダテスタ(ホソカワミクロン社製品PT−N型)を用いて、孔径45μmのスクーリンを振動させながら篩い分けを行ない、スクリーンを全て通過した割合を45μmスクリーン通過率とした。
〔かぶり〕市販の複写機を用いて、疎水性シリカ・チタニア複合酸化物粒子0.4gと負帯電性トナー40gとをミキサーにて攪拌混合した得た電子写真用トナー組成物を用いて5万枚以上刷った段階でかぶりを観察した。目視での評価を行い、以下のようにランクを付けた。[1]カブリ全くなし、[2]カブリほとんどなし、[3]カブリが若干認められるが実用上問題なし、[4]カブリが多く、実用上問題あり、[5]カブリが非常に多く、実用不適。
〔単独粒子%〕シリカもしくはチタニアの単独粒子の割合はTEM−EDXを使用して測定した(使用機種:株式会社日立ハイテクノロジーズ社製品HF-2200、加速電圧200kV、粒子1000個以上について分析を行った)。10万〜20万倍率による観察と元素マッピングを連続した視野で行い、観察される粒子に対して、SiとTiの元素をマッピングしたときに、同一粒子にSiとTiの両方の元素が観察されたものを複合粒子とした。また、粒子が凝集している状態では判断が難しいため、十分に分散した状態での観察を行い、単独粒子の割合を求めた。
表1に示すように、上記粒子条件が本発明の範囲に属するものは、環境安定性と流動性の何れも優れており、かつ画像のかぶりが少ない。一方、上記粒子条件が本発明の範囲から外れるものは、何れも環境安定性が低く、かつ混合粒子は流動性も低く、従って画像のかぶりが多い。
Figure 2006306651

Claims (4)

  1. 気相法によって製造されたシリカ・チタニア複合酸化物粒子であって、チタニアの含有量が50重量%以上、BET比表面積が100m2/g以下、電子顕微鏡観察下においてシリカ単独粒子およびチタニア単独粒子の割合が10%以下であることを特徴とするシリカ・チタニア複合酸化物粒子。
  2. 電子顕微鏡観察下においてシリカ単独粒子およびチタニア単独粒子の割合が5%以下である請求項1のシリカ・チタニア複合酸化物粒子。
  3. 表面が疎水化されている請求項1または2のシリカ・チタニア複合酸化物粒子。
  4. 請求項1〜3の何れかに記載したシリカ・チタニア複合酸化物粒子を含む電子写真用トナー。


JP2005129736A 2005-04-27 2005-04-27 シリカ・チタニア複合酸化物粒子 Pending JP2006306651A (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005129736A JP2006306651A (ja) 2005-04-27 2005-04-27 シリカ・チタニア複合酸化物粒子
US11/909,039 US20110159426A1 (en) 2005-04-27 2006-04-26 Silica-titania mixed oxide particle
EP06732501A EP1876144A4 (en) 2005-04-27 2006-04-26 COMPOSITE OXIDE PARTICLES TITANIUM SILICA OXIDE.
KR1020077019758A KR20070122453A (ko) 2005-04-27 2006-04-26 실리카·티타니아 복합 산화물 입자
CNA2006800137633A CN101163640A (zh) 2005-04-27 2006-04-26 二氧化硅-二氧化钛复合氧化物微粒
PCT/JP2006/309199 WO2006123541A1 (ja) 2005-04-27 2006-04-26 シリカ・チタニア複合酸化物粒子
TW095132755A TW200812907A (en) 2005-04-27 2006-09-05 Silica-titania mixed oxide particle

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005129736A JP2006306651A (ja) 2005-04-27 2005-04-27 シリカ・チタニア複合酸化物粒子

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006306651A true JP2006306651A (ja) 2006-11-09

Family

ID=37431119

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005129736A Pending JP2006306651A (ja) 2005-04-27 2005-04-27 シリカ・チタニア複合酸化物粒子

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20110159426A1 (ja)
EP (1) EP1876144A4 (ja)
JP (1) JP2006306651A (ja)
KR (1) KR20070122453A (ja)
CN (1) CN101163640A (ja)
TW (1) TW200812907A (ja)
WO (1) WO2006123541A1 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011118210A (ja) * 2009-12-04 2011-06-16 Canon Inc トナー
JP2014028756A (ja) * 2007-12-28 2014-02-13 Nippon Aerosil Co Ltd 表面改質複合酸化物微粒子
US8652725B2 (en) 2009-12-04 2014-02-18 Canon Kabushiki Kaisha Toner
JP2015138209A (ja) * 2014-01-24 2015-07-30 富士ゼロックス株式会社 静電荷像現像用トナー、静電荷像現像剤、トナーカートリッジ、現像剤カートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び、画像形成方法
JP2017036168A (ja) * 2015-08-07 2017-02-16 株式会社トクヤマ シリカ−チタニア複合酸化物粒子及びその製造方法
JP2020019697A (ja) * 2018-08-03 2020-02-06 富士ゼロックス株式会社 シリカチタニア複合体および構造体

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102004403A (zh) * 2010-09-27 2011-04-06 河北丰华重工机电设备制造有限公司 一种复印墨粉
CN103543621A (zh) * 2013-09-28 2014-01-29 刘超 磁性碳粉
KR102250160B1 (ko) 2018-11-15 2021-05-10 경기대학교 산학협력단 텅스텐/티타니아 기반 복합산화물 담체 및 그 제조방법, 상기 담체를 이용한 탈질촉매 및 그 제조방법
KR20230116152A (ko) 2022-01-27 2023-08-04 주식회사 씨비비 텅스텐/티타니아 기반 복합산화물 담체 및 그 제조방법, 상기 담체를 이용한 탈질촉매 및 그 제조방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003076058A (ja) * 2001-06-18 2003-03-14 Shin Etsu Chem Co Ltd 静電荷像現像剤
JP2005084295A (ja) * 2003-09-08 2005-03-31 Konica Minolta Business Technologies Inc 静電荷像現像用トナーおよびフルカラー画像形成方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4235996A1 (de) * 1992-10-24 1994-04-28 Degussa Flammenhydrolytisch hergestelltes Titandioxid-Mischoxid, Verfahren zu seiner Herstellung und Verwendung
US6130020A (en) * 1997-12-12 2000-10-10 Minolta Co., Ltd. Developing agent
US20030044706A1 (en) * 2001-03-30 2003-03-06 Yoshiharu Konya Electrostatic image developer
US6777152B2 (en) * 2001-03-30 2004-08-17 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Electrostatic image developer
JP2004210586A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Showa Denko Kk 嵩密度の高いチタニア−シリカ混晶粒子の製造方法と得られるチタニア−シリカ混晶粒子及びその用途

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003076058A (ja) * 2001-06-18 2003-03-14 Shin Etsu Chem Co Ltd 静電荷像現像剤
JP2005084295A (ja) * 2003-09-08 2005-03-31 Konica Minolta Business Technologies Inc 静電荷像現像用トナーおよびフルカラー画像形成方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014028756A (ja) * 2007-12-28 2014-02-13 Nippon Aerosil Co Ltd 表面改質複合酸化物微粒子
JP2011118210A (ja) * 2009-12-04 2011-06-16 Canon Inc トナー
US8652725B2 (en) 2009-12-04 2014-02-18 Canon Kabushiki Kaisha Toner
JP2015138209A (ja) * 2014-01-24 2015-07-30 富士ゼロックス株式会社 静電荷像現像用トナー、静電荷像現像剤、トナーカートリッジ、現像剤カートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び、画像形成方法
JP2017036168A (ja) * 2015-08-07 2017-02-16 株式会社トクヤマ シリカ−チタニア複合酸化物粒子及びその製造方法
JP2020019697A (ja) * 2018-08-03 2020-02-06 富士ゼロックス株式会社 シリカチタニア複合体および構造体
JP7103044B2 (ja) 2018-08-03 2022-07-20 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 シリカチタニア複合体および構造体

Also Published As

Publication number Publication date
TW200812907A (en) 2008-03-16
WO2006123541A1 (ja) 2006-11-23
CN101163640A (zh) 2008-04-16
EP1876144A1 (en) 2008-01-09
KR20070122453A (ko) 2007-12-31
EP1876144A4 (en) 2011-06-22
US20110159426A1 (en) 2011-06-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006306651A (ja) シリカ・チタニア複合酸化物粒子
EP2853945B1 (en) Toner and two-component developer
JP6030059B2 (ja) 球状シリカ微粉末及び球状シリカ微粉末を用いた静電荷像現像用トナー外添剤
JP3417291B2 (ja) 電子写真用トナーの外添剤の製造方法
JP4743845B2 (ja) 疎水性正帯電シリカ微粉末、その製造方法ならびにそれを外添剤として添加した静電潜像現像用トナー
WO2010038538A1 (ja) 疎水性シリカ微粒子及び電子写真用トナー組成物
JP2010085837A (ja) 疎水性シリカ微粒子及び電子写真用トナー組成物
JP6445877B2 (ja) 超微粉シリカ粉末及びその用途
JP4099748B2 (ja) 表面改質無機酸化物粉体
JP2004359476A (ja) 疎水化シリカ組成物
JP2004210566A (ja) フッ素含有表面改質シリカ粉体
JP6328488B2 (ja) 球状シリカ微粉末及びその用途
JP2006195025A (ja) 高流動性酸化チタン、その製造方法および上記高流動性酸化チタンを外添剤として添加した静電潜像現像用トナー
JPH05113688A (ja) 静電荷像現像用現像剤
JP6577471B2 (ja) シリカ微粉末及びその用途
JP6429791B2 (ja) 疎水化球状シリカ微粉末及びその用途
JP6966189B2 (ja) 非晶質アルミノシリケート系トナー外添剤
JP4936237B2 (ja) 正帯電性疎水性酸化チタン微粉末とその製法および用途
JP2004161551A (ja) 酸化鉄粒子及びその製造方法
JP2015000830A (ja) 球状シリカ組成物及びその用途
JP5568864B2 (ja) 疎水性シリカ微粒子及び電子写真用トナー組成物
WO2023153355A1 (ja) 球状シリカ粉末
JP2011051874A (ja) 表面処理シリカ
JP2004143028A (ja) アルミナドープ疎水化シリカ微粒子
JPH11322329A (ja) 疎水性金属酸化物微粉末及びその製造方法並びに電子写真用トナー組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080424

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110525

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110720

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110921

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20120321