JP2006299401A - コバルト合金の製造方法及びこの方法により製造したコバルト合金 - Google Patents

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Abstract

【課題】スパッタリングプロセスに好適なコバルト合金母材組成を提供する。
【解決手段】Cof1−(Muv)f2として定式化され(ここで、Mは、マグネシウム,チタン,バナジウム,クロム,マンガン,鉄,ニッケル,銅,亜鉛,アルミニウム,ケイ素,イットリウム,ジルコニウム,ニオブ,モリブデン,ルテニウム,インジウム,ランタン,ハフニウム,タンタル及びタングステンからなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率である)、同定式による単一成分母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成を製造する。この製造方法は、対応式(Coa1-a)f1'−(Cou'v')f2'になるようにCo−M母合金粉末とCou'v'粉末を混合する工程と、混合された粉末を緻密にする工程とを含む。
【選択図】図1

Description

本発明は、コバルト合金の製造方法に関し、特に、スパッタリングプロセスの改善及びこのスパッタリングプロセスにより生成された薄膜の性能向上のために、改善されたスパッタリング特性と主要合金成分の高い分散度を供するコバルト合金母材組成の定式化に関する。また、この製造方法により製造されたコバルト合金に関する。
DCマグネトロンスパッタリングプロセスは、例えば半導体表面を被覆したり、磁気記録媒体の表面に膜を形成したりするような、精密に制御された厚さ及び原子比の狭い公差内の薄膜材料を基板上に堆積、形成する種々の分野に用いられている。1つの共通の形態において、長円形状の磁場を、ターゲットの背面に磁石を配置することによりスパッタターゲットに与える。電子が、スパッタターゲット近傍で捕捉され、アルゴンイオンの生成を改善し、スパッタリング率を増大する。このプラズマ内のイオンはスパッタターゲット表面に衝突してスパッタターゲットがその表面から原子を放出する。陰極のスパッタターゲットと被覆される陽極の基板との間の電圧差で、放出された原子が基板表面に所望の膜を形成する。
従来の磁気記録媒体の製造時には、夫々が異なる材料の複数のスパッタターゲットにより、複数の薄膜層が順次、基板上にスパッタされ、その結果、薄膜の堆積(積層構造)が形成される。図8は、従来の磁気記録媒体の一般的な薄膜積層構造を示す。積層構造の底部に、一般的にはアルミニウム或いはガラスの非磁性基板101がある。最初の付着層であるシード層102は、上層の粒状組織の形態及び方位を規定し、通常はNiP或いはNiAlからなる。次に、多くの場合、FeCoB,CoNbZr,CoTaZr或いはCoTaNbのような合金からなる軟磁性の下地層(SUL)104が、リード/ライト磁場のリターンパスを提供するために形成される。SUL104は、非晶質であり、信号対雑音比(SN比)の低下を生じさせかねない磁気領域の形成を防止する。
シード層105は、上層の配向成長を促進するためにSUL104の上に形成される。ルテニウム(Ru)が、コバルト(Co)の稠密六方(HCP)格子定数と類似した稠密六方(HCP)格子定数を有するので、シード層105は、多くの場合、ルテニウム(Ru)からなる。高密度データ記録用途のために、磁気データ記録層106を、シード層105の上に付着する。データ記録層106は、強磁性合金母材と金属酸化物からなる金属母材複合材である。一般的に、強磁性合金母材は、CoPtのような2元母材合金、CoCrPtのような3元母材合金、或いは、CoCrPtXのような4元母材合金である。ここで、前記Xは、ホウ素(B)、タンタル(Ta)、ニオブ(Nb)、ジルコニウム(Zr)、銅(Cu)、銀(Ag)或いは金(Au)である。多くの異なる酸化物が使用されるが、最も一般的な金属酸化物は、卑金属のケイ素(Si)とチタン(Ti)の酸素に対する親和性が高いという理由からSiO2とTiO2のいずれかであり、これら酸化物によって有益なデータ記録性能が観測される。最後に、カーボン潤滑層108を磁気データ記録層106の上に形成する。
磁気記録媒体上の単位面積当たりの記録可能なデータ量は、磁気データ記録層106の粒子サイズ(粒径)に反比例し、同様に、データ記録層をスパッタするスパッタターゲット材組成に反比例し、その場合、粒子が単一で、略10ナノメートルの薄膜合金結晶に相当する。粒界偏析、粒子の物理的分離の程度もまた、データ記録容量の増大に貢献し、粒子サイズと粒界偏析は、データ記録層をスパッタするスパッタターゲットのミクロ組織の特徴及びシード層の構造的微細化の程度によって直接に影響を受ける。
磁気データ記録産業から要望されているデータ記録容量の持続的な増大を維持するために、従来の長手磁気記録(LMR)に対抗して垂直磁気記録(PMR)として知られる技術が、軟磁性下地層と組み合わせて垂直単磁極記録ヘッドを使用することによる高い書込み効率を示すために、最も有望且つ有効な技術である。PMRを使用する場合、ビットは磁気記録媒体面に対して垂直に記録され、より小さなビットサイズとより大きな保磁力を可能にさせる。将来、PMRは、ディスクの保磁力を増大し信号増幅を増強することが期待され、優れた記録文書のデータ保持が可能になる。
酸素(O)を含有する複合材PMR媒体は、酸素濃度の高い粒界領域を発達させることにより有益な粒界偏析を与えることができる。初期の粒状媒体開発研究では、酸素(O)の重要な効果を、装置が動作中に局部過熱を受けたときにおこる熱的不安定性による異方性定数(Ku)の低下を抑制することであると認識していた。酸素(O)を含有する媒体は、低い媒体ノイズ及び高い熱的安定性も示し、高密度PMRに有用である。従って、磁気合金内の酸素(O)を含有する粒界領域は、粒子の精製場所及び粒子の成長抑制場所としての役割を果たし、効果的に粒子を物理的に分離する。言い換えれば、この物理的分離は、粒子間の磁気的結合を低減し、SN比及び磁化の熱的安定性を増大する。
従来の磁気記録媒体に関して、磁気データ記録層106は、ルテニウム(Ru)を主成分とするシード層105の上に成膜される。シード層105の目的は、媒体層内に集合組織化された成長を実現することである。最大で200Gbits/in2の高記録密度は、一般的にナノスケール粒子の核生成及び効果的な粒子絶縁によって達成され、粒子内で磁化の熱攪拌に対する強力な抵抗力を可能にさせる。一般的に、この粒子構造形態において、(Co90Cr1080Pt20−10SiO2(mol.%)のような複合合金は、約7×106erg.cm-3オーダーの粒子磁気結晶異方性定数Ku値を示し、この媒体の高い熱的安定性を示す。
従って、粒状媒体スパッタリング材として強化されたスパッタリング性能を達成するために、低い重量分率の強磁性相と適切な体積分率の酸化物成分を持つコバルト(Co)を主成分とする合金母材組織を提供することが望ましい。特に、スパッタターゲット内の強磁性相の量を最小限にするために、強磁性相の総量を減少させた酸化物含有組成の製造方法を提供することが望ましい。この点に関し、本発明は、スパッタリングで形成する最も反応的な成分の酸化物或いは複数の酸化物の代用として酸素供給源としての卑金属母材合金の酸化物を用いることにより、また、母材卑金属のより一層の希釈を達成するために直接母材内に反応的成分を導入することにより、これら及び他の目的を達成する。
本発明は、一般的にはコバルト合金の製造に関し、特に、スパッタリングプロセスの改善及びこのスパッタリングプロセスにより生成され薄膜の性能向上のために、スパッタリング特性を改善し主要合金成分の高い分散度を供するコバルト合金母材組成の定式式化に関する。この点に関し、本発明は、定式化方法及びこれによって生成された材料或いは組成を含む調製方法を開示し、改善されたスパッタリング性能及び主要合金成分の有益な分散を有したスパッタリングターゲットの生産の有用な代替案を提供する。
粒状媒体合金は、コバルト(Co)或いはコバルト合金母材と1つ以上の酸化物粒子を混合した複合材料であり、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),クロム(Cr),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni)、銅(Cu)、亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及び/又はタングステン(W)の酸化物のグループから選択された酸化物粒子を含む。従って、ここに開示された代替案の定式化アプローチと粉状原料を多様なコバルトを主成分とする粒状媒体合金の製造に利用することが可能である。
第1の構成によれば、本発明は、Cof1−(Muvf2として定式化された単一成分母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成の製造方法である。ここで、Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),クロム(Cr),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、f1及びf2は、方程式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率である。この方法は、対応式(Coa1-af1'−(Cou'v'f2'となるようにCo−M母合金粉末とCou'v'粉末を混合する工程と、混合された粉末を緻密にする工程とを含む。かかる構成によれば、f2′は下記の(1)式によって表され、f1′は下記の(2)式によって表され、aは下記の(3)式で表される。
かかる第1の構成によれば、f1′(1−a)/(f2′・v′)=u/vとすれば、Cou'v'酸化物を主成分とする二元母材複合材はどれも、Muv酸化物を主成分とする単一成分母材複合材と化学的に同等と見なせるということが理解される。
本発明方法は、更に、混合された粉末をボールミル粉砕する工程を含む。また、本発明方法は、混合された粉末を容器内に封入する工程と、粉末を混合した容器からガスを排出する工程と、ガスを排出した容器を高温高圧に曝す工程とを含む。
第2の構成によれば、本発明は、(CoaPt1-af1−(Muvf2として定式化された二元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成物の製造方法である。ここで、Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),クロム(Cr),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、aは原子比を表し、f1及びf2は、方程式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率を表している。この方法は、対応式(Coa'b'Pt1-a'-b'f1'−(Cou'v'f2'となるようにCoa'b'Pt1-a'-b'母合金粉末とCou'v'粉末を混合する工程と、混合された粉末を緻密にする工程とを含む。かかる構成によれば、f2′は上述の(1)式によって表され、f1′は上述の(2)式によって表され、a′及びb′は下記の(3)及び(4)式でそれぞれ表される。
かかる第2の構成によれば、(f1′・b′)/(f2′・v′)=u/vとすれば、Cou'v'酸化物を主成分とする三元母材複合材はどれも、Muv酸化物を主成分とする二元母材複合材と化学的に同等と見なせるということが理解される。
第3の構成によれば、本発明は、(CoaCrbPt1-a-bf1−(Muvf2として定式化された三元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成物の製造方法である。ここで、Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、a及びbは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率を表している。この方法は、対応式(Coa'Crb'Ptc'd'f1'−(Cou'v'f2'となるようにCoa'Crb'Ptc'd'母合金粉末とCou'v'粉末を混合する工程と、混合された粉末を緻密にする工程とを含む。かかる構成によれば、f2′は上述の(1)式によって表され、f1′は上述の(2)式によって表され、a′上述の(4)式によって表され、b′、c′及びd′は下記の(6)〜(8)式でそれぞれ表される。
かかる第3の構成によれば、(f1′・d′)/(f2′・v′)=u/vとすれば、Cou'v'酸化物を主成分とする四元母材複合材はどれも、Muv酸化物を主成分とする三元母材複合材と化学的に同等と見なせるということが理解される。
第4の構成によれば、本発明は、(CoaCrbPt1-a-bf1−(Muvf2として定式化された三元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成物の製造方法である。ここで、Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、a及びbは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率を表している。この方法は、対応式(Coa''Crb''Ptc''d''f1''−(Cru''v''f2''となるようにCoa''Crb''Ptc''d''母合金粉末とCru''v''粉末を混合する工程と、混合された粉末を緻密にする工程とを含む。かかる構成によれば、下記の(9)式によって示された条件が適用される。
更に、本発明の第4の構成によれば、f2"は下記の(10)式よって表され、f1"は下記の(11)式によって表され、a",b",c"及びd"は、下記の(12)〜(15)式によってそれぞれ表される。
かかる第4の構成によれば、(f1"・d")/(f2"・v")=u/vとすれば、Cru''v''酸化物を主成分とする四元母材複合材はどれも、Muv酸化物を主成分とする三元母材複合材と化学的に同等と見なせるということが理解される。
第5の構成によれば、本発明は、(CoaCrbPtcM′df1−(Muvf2として定式化された四元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成物の製造方法である。ここで、M′は、ホウ素(B),タンタル(Ta),ニオブ(Nb),ジルコニウム(Zr),銅(Cu),銀(Ag),金(Au)及びルテニウム(Ru)からなるグループから選択された1つの成分を表し、Mは、M′と異なる卑金属を表し、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択される1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、a及びbは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率を表し、dは、式d=1−a−b−cで表される。この方法は、対応式(Coa'Crb'Ptc'M′d'e'f1'−(Cou'v'f2'となるようにCoa'Crb'Ptc'M′d'e'母合金粉末とCou'v'粉末を混合する工程と、混合された粉末を緻密にする工程とを含む。かかる構成によれば、f2′は上述の(1)式によって表され、f1′は上述の(2)式よって表され、a′,b′及びc′は、上述の(4),(6)及び(7)式によってそれぞれ表され、d′及びe′は下記の式(16)及び(17)でそれぞれ表される。
かかる第5の構成によれば、(f1′・e′)/(f2′・v′)=u/vとすれば、Cou'v'酸化物を主成分とする五元母材複合材はどれも、Muv酸化物を主成分とする四元母材複合材と化学的に同等と見なせるということが理解される。
第6の構成によれば、本発明は、(CoaCrbPtcM′df1−(Muvf2として定式化された四元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成物の製造方法である。ここで、M′は、ホウ素(B),タンタル(Ta),ニオブ(Nb),ジルコニウム(Zr),銅(Cu),銀(Ag),金(Au)及びルテニウム(Ru)からなるグループから選択された1つの成分を表し、Mは、M′と異なる卑金属を表し、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択される1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、a及びbは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率を表し、dは、式d=1−a−b−cで表される。この方法は、対応式(Coa''Crb''Ptc''M′d''e''f1''−(Cru''v''f2''となるようにCoa''Crb''Ptc''M′d''e''母合金粉末とCru''v''粉末を混合する工程を含む。かかる構成によれば、上述の(9)式によって示された条件が適用される。
更に、本発明の第6の構成によれば、f2"は上述の(10)式よって表され、f1"は上述の(11)式によって表され、a",b"及びc"は、上述の(12)〜(14)式によってそれぞれ表される。更に、d"とe"は、下記の(18)及び(19)式によって表される。
かかる第6の構成において、(f1"・e")/(f2"・v")=u/vとすれば、Cru''v''酸化物を主成分とする四元母材複合材はどれも、Muv酸化物を主成分とする三元母材複合材と化学的に同等と見なせるということが理解される。
更に、本発明の第7から第12の構成もまた考えられ、第7から第12の構成のそれぞれが、上述した第1から第6の構成で開示されたプロセスを用いて生産される単一成分、二元、三元或いは四元母材のコバルトを主成分とする粒状媒体合金組成物である。
下記の好ましい実施形態の記載において、同記載の一部をなす添付図面を参照して本発明を実施する特定の実施形態について説明する。尚、他の諸実施形態を利用することが可能であり、且つ、本発明を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であることを理解すべきである。
本発明は、定式化方法及びこの方法によって生産された材料或いは組成を含む調製方法を開示し、この調製方法は、改善されたスパッタリング特性及び主要合金元素の優先的分散を有するスパッタターゲットを製造するために有用な代替案を提供する。
粒状媒体合金は、コバルト(Co)或いはコバルト合金母材と1つ以上の酸化物粒子を混合した複合材料である。前記酸化物粒子は、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),クロム(Cr),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及び/又はタングステン(W)の酸化物から選択される。従って、ここに開示された代替案の定式化アプローチと粉状原料を多様なコバルトを主成分とする粒状媒体合金の製造に利用することが可能である。本発明により考えられる具体的な合金群を下記に説明する。
単一成分母材:Co−Muv、ここで、酸化物用卑金属Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),クロム(Cr),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)又はタングステン(W)である。
二元母材:Co−Pt−Muv、ここで、酸化物用卑金属Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),クロム(Cr),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)又はタングステン(W)である。
三元母材:Co−Cr−Pt−Muv、ここで、酸化物用卑金属Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)又はタングステン(W)である。
四元母材:Co−Cr−Pt−M′−Muv、ここで、M′は、ホウ素(B),タンタル(Ta),ニオブ(Nb),ジルコニウム(Zr),銅(Cu),銀(Ag),金(Au)又はルテニウム(Ru)であり、卑金属Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及び/又はタングステン(W)である。ただし、M′≠Mである。
本発明を、上記及び下記に、1成分から4成分の母材例を用いて説明するが、本発明の代替構成は、これらの明示的に説明した例に限定されるものではない。特に、ここに述べられた原理は、同様にして4成分より多い成分を含むコバルト合金母材にも適用できる。
いくつかの最も好ましいコバルト(Co)合金組成は、Co−Pt−SiO2(又は−TiO2),Co−Cr−Pt−SiO2(又は−TiO2)と、場合によっては、所定のモル分率範囲内の前記2つの酸化物或いは他の酸化物の組み合わせを含む。純成分粉末は、これら粒状媒体合金の製造技術の1つとして利用されているが、実用や経費を考慮すると、コバルト(Co)は、常時、化学的均一性とPTF(Pass-Through-Flux)制御のために、Co−Cr或いはCo−CR−Bの予め合金化された粉末にされている。酸化物成分は、予め合金化された酸化物を主成分とする粉末複合材を製造するという代わりの方法がないために、純粉末として混合される。白金(Pt)もまた、材料コストが高いために、材料投入量の制御をより上手に行うために純粉末として後から混合される。
所定の粒状媒体母材について、考えられる多くの合金の定式化が可能である。Co−Muv粒状合金の単純な例において、2つの異なる混合式を用いることが可能である。1つのケースは、2つの粉末成分、i)コバルト(Co)粉末とii)Muv酸化物粉末を、Cof1−(Muvf2のターゲット組成を達成するために混合する。ここで、f1とf2(f1′とf2′)は、式f1+(u+v)f2=1によって表されるモル分率である。もう1つのケースは、同一組成を、対応式(Coa1-af1'−(Cou'v'f2'となるように、Co−M母合金を主成分とする母材粉末とCou'v'酸化物粉末を混合することによって製造する。ここで、f1′とf2′は(1)式と(2)式によって示される。下記で詳述するように、酸素(O)供給源として選択されるどんなCou'v'酸化物原料についても、Co−M母合金を主成分とする母材の組成と相対的モル分率を計算できる。
図1及び図2は、本発明の第1実施形態による単一成分母材、二元母材、三元母材或いは四元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成の製造方法を示すフローチャートである。
簡潔に述べれば、本発明方法は、コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成の製造に関し、コバルト(Co)を主成分とする母材合金粉末をコバルト(Co)又はクロム(Cr)を主成分とする酸化物と特定の式になるように混合する工程と、混合された粉末を緻密にする工程とを含む。
より詳細には、ステップ201で、本プロセスは開始し、ステップ202で、コバルト(Co)或いはコバルト(Co)を主成分とする母材合金粉末を、コバルト(Co)又はクロム(Cr)を主成分とする酸化物粉末と混合する。
1つの特有な構成は、Cof1−(Muvf2として定式化された単一成分母材のコバルトを主成分とする粒状媒体合金組成の製造に関する。ここで、Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),クロム(Cr),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率である。この特有な構成において、ステップ202で、Co−M母合金粉末とCou'v'粉末を、対応式(Coa1-af1'−(Cou'v'f2'となるように混合する。ここで、f2′は下記の(1)式によって表され、f1′は下記の(2)式によって表され、aは下記の(3)式で表される。
ここに記載された全ての組成式について、各合金組成式の原子比の総和が1となるように、改良された合金形成の原子比及びモル分率の導出が調整されているということを留意すべきである。例えば、総モル分率が1.48である(Co0.71Cr0.13Pt0.160.92−(Nb250.08のような合金組成式は、係数が等しく減量され、総モル分率が1となる式(Co0.71Cr0.13Pt0.160.622−(Nb250.0541とされる。
更に、かかる第1の構成によれば、f1′(1−a)/(f2′・v′)=u/vとすれば、Cou'v'酸化物を主成分とする二元母材複合材はどれも、Muv酸化物を主成分とする単一成分母材複合材と化学的に同等と見なせるということが理解される。
付加的な構成は、(CoaPt1-af1−(Muvf2として定式化された二元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成の製造である。ここで、Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),クロム(Cr),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、aは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率を表している。この特有の構成によれば、ステップ202で、Coa'b'Pt1-a'-b'母合金粉末とCou'v'粉末を、対応式(Coa'b'Pt1-a'-b'f1'−(Cou'v'f2'となるように混合する。ここで、f2′は上述の(1)式によって表され、f1′は上述の(2)式によって表され、a′及びb′は、それぞれ、下記の(4)式及び(5)式で表される。
この構成によれば、(f1′・b′)/(f2′・v′)=u/vとすれば、Cou'v'酸化物を主成分とする三元母材複合材はどれも、Muv酸化物を主成分とする二元母材複合材と化学的に同等と見なせるということが理解される。
さらに別の構成は、(CoaCrbPt1-a-bf1−(Muvf2として定式化された三元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成の製造方法に関する。ここで、Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、a及びbは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率を表している。この特有の構成によれば、ステップ202で、Coa'Crb'Ptc'd'母合金粉末とCou'v'粉末を、対応式(Coa'Crb'Ptc'd'f1'−(Cou'v'f2'となるように混合する。ここで、f2′は上述の(1)式によって表され、f1′は上述の(2)式によって表され、a′は上述の(4)式によって表され、b′、c′及びd′は、それぞれ、下記の(6)式〜(8)式で表される。
この構成によれば、(f1′・d′)/(f2′・v′)=u/vとすれば、Cou'v'酸化物を主成分とする四元母材複合材はどれも、Muv酸化物を主成分とする三元母材複合材と化学的に同等と見なせるということが理解される。
更に、本発明の別の構成は、(CoaCrbPt1-a-bf1−(Muvf2として定式化された三元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成の製造方法に関する。ここで、Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、a及びbは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率を表している。この特有な構成によれば、ステップ202で、Coa''Crb''Ptc''d''母合金粉末とCru''v''粉末を、対応式(Coa''Crb''Ptc''d''f1''−(Cru''v''f2''となるように混合する。ここで、下記の(9)式によって示された条件が適用される。
この特有な構成によれば、f2"は下記の(10)式よって表され、f1"は下記の(11)式によって表され、a",b",c"及びd"は、それぞれ、下記の(12)式〜(15)式によって表される。
この構成によれば、(f1"・d")/(f2"・v")=u/vとすれば、Cru''v''酸化物を主成分とする四元母材複合材はどれも、Muv酸化物を主成分とする三元母材複合材と化学的に同等と見なせるということが理解される。
別の構成は、(CoaCrbPtcM′df1−(Muvf2として定式化された四元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成の製造方法に関する。ここで、M′は、ホウ素(B),タンタル(Ta),ニオブ(Nb),ジルコニウム(Zr),銅(Cu),銀(Ag),金(Au)及びルテニウム(Ru)からなるグループから選択された1つの成分を表し、Mは、M′と異なる卑金属を表し、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択される1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、a及びbは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率を表し、dは、式d=1−a−b−cで表される。この特有な構成によれば、ステップ202で、Coa'Crb'Ptc'M′d'e'母合金粉末とCou'v'粉末を、対応式(Coa'Crb'Ptc'M′d'e'f1'−(Cou'v'f2'となるように混合する。この構成において、f2′は上述の(1)式によって表され、f1′は上述の(2)式よって表され、a′、b′及びc′は、それぞれ、上述の(4)式、(6)式及び(7)式によって表され、d′及びe′は、それぞれ、下記の(16)式及び(17)式によって表される。
この構成によれば、(f1′・e′)/(f2′・v′)=u/vとすれば、Cou'v'酸化物を主成分とする五元母材複合材はどれも、Muv酸化物を主成分とする四元母材複合材と化学的に同等と見なせるということが理解される。
更に、本発明の別の構成は、(CoaCrbPtcM′df1−(Muvf2として定式化された四元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成の製造方法に関する。ここで、M′は、ホウ素(B),タンタル(Ta),ニオブ(Nb),ジルコニウム(Zr),銅(Cu),銀(Ag),金(Au)及びルテニウム(Ru)からなるグループから選択された1つの成分を表し、Mは、M′と異なる卑金属を表し、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択される1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、a及びbは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率を表し、dは、式d=1−a−b−cで表される。この特有な構成によれば、ステップ202で、Coa''Crb''Ptc''M′d''e''母合金粉末とCru''v''粉末を、対応式(Coa''Crb''Ptc''M′d''e''f1''−(Cru''v''f2''となるように混合する。この構成によれば、上述の(9)式によって示された条件が適用される。
この構成によれば、f2"は上述の(10)式よって表され、f1"は上述の(11)式によって表され、a",b"及びc"は、それぞれ、上述の(12)式〜(14)式によって表される。更に、d"とe"は、下記の(18)式及び(19)式によって表される。
この第6の構成において、(f1"・e")/(f2"・v")=u/vとすれば、Cru''v''酸化物を主成分とする四元母材複合材はどれも、Muv酸化物を主成分とする三元母材複合材と化学的に同等と見なせるということが理解される。
ステップ204で、混合した粉末をボールミル粉砕する。別の態様によれば、混合した粉末を異なる技術を用いて粉砕してもよく、或いは、全く粉砕しなくともよい。ボールミル粉砕技術は、粉末冶金分野の当業者には周知である。
ステップ205で、混合した粉末を緻密化し、ステップ206で、プロセスを終了する。図2に更に詳細に示すように、ステップ205の緻密化工程は、更に、混合した粉末を容器内に封入する工程(ステップ205a)と、混合した粉末を封入した容器からガスを排出する工程(ステップ205b)と、ガスを排出した容器を高温高圧下に曝す工程(ステップ205c)を含む。ステップ205a〜ステップ205cの粉末緻密化プロセスは、粉末冶金分野の当業者には周知である。
上述の強化された製造方法の実施例を検討してみると、Co90−(SiO210のような粒状媒体合金を、(Co0.875Si0.12580(CoO)20複合材として定式化することができる。この定式化は、スパッタリング材に対する所望のPTFを達成するために、CoOやCo−Si母材合金を介してコバルト(Co)を採り入れることを可能にさせる。同様に、(CoaCrbPt1-a-bf1−(Muvf2(M≠Co,Cr)粒状合金もまたコバルト(Co)酸化物を含有した複合材(Coa'Crb'Ptc'd'f1'−(Cou'v'f2'或いはクロム(Cr)酸化物を含有した複合材(Coa''Crb''Ptc''d''f1''−(Cru''v''f2''に転換できる。両定式化は、スパッタリング材を所望の特徴に調整するために有用であり、ターゲットのPTFの改善及び粒子生成の減少という2つの目的を達成する。
ターゲットの定式化に関して、粒状媒体合金の組成式は、種々のアプローチを活用し、利用可能な原料を使用して達成できるが、本発明は、原料の適切な選択によって、生成されたターゲットのミクロ組織の結果として得られた相の改良された分散及び構造のための適切な配合表を提供する。特に、SiO2或いはTiO2粒界偏析を有する粒状媒体の成膜を目的としたコバルト(Co)合金を主成分とする母材酸化物複合スパッタリング材は、強磁性コバルト合金母材の最終的な重量分率を減少するように定式化される。
規定厚さの強磁性材料のターゲットを貫通する磁束線量の尺度であり、透磁率に反比例するターゲットのPTFにもまた影響を及ぼす。多成分材料の透磁率は、また強磁性成分の重量分率に比例する。従って、強磁性相の重量分率を最小化することによって、ターゲットのPTF及びスパッタリングの歩留まりもまた改善される。
更に、所定の粒状媒体の組成式と酸素(O)含有量に対して、酸化物は、ターゲット全体への酸化物粒子の有益な分散を保証するのに充分に大きな体積分率になるように選択される。同時に、ケイ素(Si)或いはチタン(Ti)以外の選択された合金元素の酸化物は、強磁性母材内に直接後者の元素を導入する可能性を提供し、それは、コバルト(Co)母材の付加的な希釈を介してPTFを増大させる別の手段である。
一方、ターゲット材の原子と分子は、スパッタリング中に解離され、自由原子のプラズマを形成し、その後、再結合し、ディスク上に付着して母材強磁性材料の均一な粒子の薄膜を生成する。強磁性材料内の酸素(O)の固体溶解度は、非常に限られ、結果的に、大部分の酸素(O)は、粒界方向に動かされ、その酸素(O)が媒体合金の最も反応的な成分の酸化物或いは複数の酸化物、多くの場合、実質的にはSiO2或いはTiO2を形成する。
(Co71Cr13Pt1690−(SiO210粒状合金の場合、この解答は、合金の2つの別の、実質的に同じ組成式を与える、定式化を通して実証される。第1の定式化は、SiO2粉末が混合される、個別のコバルト(Co)、クロム(Cr),白金(Pt)及び/又はこれら元素の母合金の多成分粉末混合の調製を示唆する。別の態様では、ケイ素を直接的に或いは等価な(Co54.88Cr14.62Si12.50Pt18.0080−(CoO)20合金式の4番目の成分として母合金を通して付加される一方、CoOのようなコバルト酸化物が、酸素供給源として選択される。
酸化物相分散の程度である体積分率は、もし代替酸化物の密度がSiO2或いはTiO2の密度未満であれば、増加されるか、大抵の場合、少なくとも維持される。ミクロ組織構造の上述した代替の定式化の理論的効果の詳細を、表1に示す。コバルト(Co)を付加的に希釈して0.5488の原子比にする他に、代替の定式化は、酸化物体積分率の有意な減少なしに母材の重量分率の減少をもたらした。
図3は、改善された磁気記録媒体の薄膜積層構造を示す。その磁気データ記録層は、本発明の第2実施形態によるコバルトを主成分とする粒状媒体合金組成からなる。上述したように、薄膜の各層は、それぞれ異なる材料或いは組成からなる複数のスパッタターゲットによって順次基板上にスパッタされる。
改善された薄膜積層構造の底部に、非磁性基板101があり、上層の粒子組織の形態及び配向を規定するシード層102が続いて積層される。それから、SUL104が、リード/ライト磁場用のリターンパスを提供するために付着される。SUL104は、信号対雑音比(SN比)の低下を生じさせかねない磁気領域の形成を防止するために非晶質である。
シード層105は、上層の配向成長を促進するためにSUL104の上に形成される。磁気データ記録層306がシード層105の上に付着され、そのデータ記録層306は、強磁性合金母材及び金属酸化物からなる金属母材複合材である。データ記録層306としてその組成を付着するために、コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成を、上述した製造方法のいずれかで製造し、従来の技術を用いてスパッタターゲットに形成し、基板上にスパッタする。最後に、カーボン潤滑層108を磁気データ記録層306の上に形成する。
第7〜第12の構成によれば、本発明は、上述した製造方法のいずれかを用いて製造されるコバルトを主成分とする粒状媒体合金組成である。更に、その合金組成の説明或いはこれら組成を製造するために用いる製造方法については省略する。
実験室の条件下で、上述した製造方法を用いて製造した試験的組成の3つの実施例について検討する。Co91(TiO29粒状合金は、コバルト酸化物含有複合材(Co89Ti1182(CoO)18に定式化される。その粉末混合物は、純度99.9%のコバルト(Co)粉末と純度99.5%のCoOとCo−50Ti(at.%)粉末の混合物からなる。その混合物の重量パーセント組成を下記の表2に示す。
その粉末は、混合成分の最適な混合及び酸化物粒子の完全な分散を保証するために16時間ボールミル粉砕した。圧密化に先立って、その粉末を容器に封入し、HIP容器内に装填する前に450℃で10-3torrまでガスを排出し減圧した。圧密化は、1236℃で、平方インチ当たり29.5キロパンド(ksi)の圧力下で3時間遂行した。充分に圧密化した生成物の典型的なミクロ組織を図4に示す。
Co91(Nb259粒状合金の定式化と調製に関する2番目の例に関して、第1の例と同様のアプローチをとった。Co91(Nb259粒状合金を、純度99.9%のコバルト(Co)と純度99.5%のCoOとCo−43.2Nb原子%の各粉末を混合して準備した。等価の(Co71.9Nb28.158.7(CoO)41.3複合材の混合組成を下記の表3に示す。
その粉末混合物は、混合成分の最適な混合及び酸化物粒子の完全な分散を保証するために16時間ボールミル粉砕した。圧密化に先立って、その粉末を容器に封入し、HIP容器内に装填する前に450℃で10-3torrの圧力までガスを排出した。圧密化は、1236℃で、29.5ksiの圧力下で3時間遂行した。充分に圧密化した生成物の典型的なミクロ組織を図5に示す。
図6は、SiO2を用い、圧密化した(Co74Cr10Pt1692−(SiO28粒状合金の典型的なミクロ組織を示し、図7は、CoSi2とCoOを用い、圧密化した(Co74Cr10Pt1692−(SiO28粒状合金の典型的なミクロ組織を示す。より詳細には、図6に示す最初のアプローチによれば、(Co74Cr10Pt1692−(SiO28合金は、等価な合金組成Co74.08Cr9.20Pt14.72−(SiO28at.%を計算することによって製造される。この混合物は、100メッシュのコバルト(Co)粉末29.53wt.%、100メッシュのCo−24.22Cr粉末27.73wt.%、5μm未満のSiO2粉末6.13wt.%及び白金(Pt)粉末36.61wt.%を使用する。
図7に示す第2の改善されたアプローチによれば、(Co74Cr10Pt1692−(SiO28合金は、16.97wt.%のコバルト(Co)粉末、5.49wt.%のCoSi2粉末、14.52wt.%のCoO粉末、26.4wt.%のCo−24.22Cr粉末及び36.62wt.%の白金(Pt)粉末を混合することによって製造される。図7に示すように、この改善されたアプローチを用いることにより、非常に低いコバルト(Co)含有量を示す。
本発明は、また、単一の酸化物式によってもたらされる理論的含有量より高い酸素(O)含有量が要求される合金に対しては、2つ以上の酸化物が要求される状況を考慮している。例えば、合金組成がX(Co−Pt−Cr)−Y(Si)−3Y(O)を要求する場合、この合金をSiO2だけを用いて製造することはできない。なぜならば、SiO2だけではSi:Oは1:2の比率となり、必要なSi:Oの比率1:3と一致できないためである。従って、付加的なコバルト(Co)或いはクロム(Cr)酸化物は、この状況において酸素(O)含有量を高めるために利用される。
上記実施形態では、特定な具体的実施形態について記述したが、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、種々の変更や変形が本発明の精神及び範囲から逸脱することなく当業者によってなされるであろうことは理解されるであろう。
本発明の一実施形態による単一成分、二元、三元或いは四元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成の製造方法を示すフローチャートである。 図1の緻密化工程の詳細を示すフローチャートである。 本発明の第2実施形態によるコバルトを主成分とする粒状媒体合金組成からなる磁気データ記録層を備える改良された磁気記録媒体の薄膜積層構造を示す図である。 圧密した(Co89Ti1182(CoO)18複合材の典型的なミクロ組織を示す図である。 圧密した(Co71.9Nb28.158.7(CoO)41.3複合材の典型的なミクロ組織を示す図である。 SiO2を用いた、圧密した(Co74Cr10Pt1692−(SiO28粒状合金の典型的なミクロ組織を示す図である。 (CoSi2)とCoOを用いた、圧密した(Co74Cr10Pt1692−(SiO28粒状合金の典型的なミクロ組織を示す図である。 従来の薄膜積層構造を示す図である。
符号の説明
101 非磁性基板
102 シード層
104 軟磁性下地層(SUL)
105 シード層
108 カーボン潤滑層
306 データ記録層

Claims (14)

  1. コバルト合金の製造方法であって、
    前記コバルト合金は、Cof1−(Muvf2として定式化され(ここで、Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),クロム(Cr),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率である)、該定式による単一成分母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成であり、
    下記の対応式になるようにCo−M母合金粉末とCou'v'粉末を混合する工程と、
    前記混合された粉末を緻密にする工程と、
    を含むことを特徴とするコバルト合金の製造方法。
  2. 更に、前記混合された粉末をボールミル粉砕する工程を含む請求項1に記載のコバルト合金の製造方法。
  3. 前記緻密化工程が、更に、
    前記混合された粉末を容器内に封入する工程と、
    前記粉末を封入した容器からガスを排出する工程と、
    前記ガスを排出した容器を高温高圧に曝す工程と、
    を含む請求項1に記載のコバルト合金の製造方法。
  4. コバルト合金の製造方法であって、
    前記コバルト合金は、(CoaPt1-af1−(Muvf2として定式化され(ここで、Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),クロム(Cr),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、aは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率である)、該定式による二元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成であり、
    下記の対応式になるようにCoa'b'Pt1-a'-b'母合金粉末とCou'v'粉末を混合する工程と、
    前記混合された粉末を緻密にする工程と、
    を含むことを特徴とする特徴とするコバルト合金の製造方法。
  5. コバルト合金の製造方法であって、
    前記コバルト合金は、(CoaCrbPt1-a-bf1−(Muvf2として定式化され(ここで、Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、a及びbは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率である)、該定式による三元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成であり、
    下記の対応式になるようにCoa'Crb'Ptc'd'母合金粉末とCou'v'粉末を混合する工程と、
    前記混合された粉末を緻密にする工程と、
    を含むことを特徴とするコバルト合金の製造方法。
  6. コバルト合金の製造方法であって、
    前記コバルト合金は、(CoaCrbPt1-a-bf1−(Muvf2として定式化され(ここで、Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、a及びbは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率である)、該定式による三元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成であり、
    下記の対応式になるようにCoa''Crb''Ptc''d''母合金粉末とCru''v''粉末を混合する工程と、
    前記混合された粉末を緻密にする工程と、
    を含むことを特徴とするコバルト合金の製造方法。
  7. コバルト合金の製造方法であって、
    前記コバルト合金は、(CoaCrbPtcM′df1−(Muvf2として定式化され(ここで、M′は、ホウ素(B),タンタル(Ta),ニオブ(Nb),ジルコニウム(Zr),銅(Cu),銀(Ag),金(Au)及びルテニウム(Ru)からなるグループから選択された1つの成分を表し、Mは、M′と異なる卑金属を表し、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、a及びbは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率を表し、dは、式d=1−a−b−cで表される)、該定式による四元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成であり、
    下記の対応式になるようにCoa'Crb'Ptc'M′d'e'母合金粉末とCou'v'粉末を混合する工程と、
    前記混合された粉末を緻密にする工程と、
    を含むことを特徴とするコバルト合金の製造方法。
  8. コバルト合金の製造方法であって、
    前記コバルト合金は、(CoaCrbPtcM′df1−(Muvf2として定式化され(ここで、M′は、ホウ素(B),タンタル(Ta),ニオブ(Nb),ジルコニウム(Zr),銅(Cu),銀(Ag),金(Au)及びルテニウム(Ru)からなるグループから選択された1つの成分を表し、Mは、M′と異なる卑金属を表し、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択される1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、a及びbは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率を表し、dは、式d=1−a−b−cで表される)、該定式による四元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成であり、
    下記の対応式になるようにCoa''Crb''Ptc''M′d''e''母合金粉末とCru''v''粉末を混合する工程と、
    前記混合された粉末を緻密にする工程と、
    を含むことを特徴とするコバルト合金の製造方法。
  9. Cof1−(Muvf2として定式化され(ここで、Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),クロム(Cr),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率である)、該定式による単一成分母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成であり、
    下記の対応式になるようにCo−M母合金粉末とCou'v'粉末を混合する工程と、
    前記混合された粉末を緻密にする工程と、
    を用いて製造したことを特徴とするコバルト合金。
  10. (CoaPt1-af1−(Muvf2として定式化され(ここで、Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),クロム(Cr),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、aは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率である)、該定式による二元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成であり、
    下記の対応式になるようにCoa'b'Pt1-a'-b'母合金粉末とCou'v'粉末を混合する工程と、
    前記混合された粉末を緻密にする工程と、
    を用いて製造したことを特徴とするコバルト合金。
  11. (CoaCrbPt1-a-bf1−(Muvf2として定式化され(ここで、Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、a及びbは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率である)、該定式による三元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成であり、
    下記の対応式になるようにCoa'Crb'Ptc'd'母合金粉末とCou'v'粉末を混合する工程と、
    前記混合された粉末を緻密にする工程と、
    を用いて製造したことを特徴とするコバルト合金。
  12. (CoaCrbPt1-a-bf1−(Muvf2として定式化され(ここで、Mは、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択された1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、a及びbは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率である)、該定式による三元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成であり、
    下記の対応式になるようにCoa''Crb''Ptc''d''母合金粉末とCru''v''粉末を混合する工程と、
    前記混合された粉末を緻密にする工程と、
    を用いて製造したことを特徴とするコバルト合金。
  13. (CoaCrbPtcM′df1−(Muvf2として定式化され(ここで、M′は、ホウ素(B),タンタル(Ta),ニオブ(Nb),ジルコニウム(Zr),銅(Cu),銀(Ag),金(Au)及びルテニウム(Ru)からなるグループから選択された1つの成分を表し、Mは、M′と異なる卑金属を表し、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択される1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、a及びbは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率を表し、dは、式d=1−a−b−cで表される)、該定式による四元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成であり、
    下記の対応式になるようにCoa'Crb'Ptc'M′d'e'母合金粉末とCou'v'粉末を混合する工程と、
    前記混合された粉末を緻密にする工程と、
    を用いて製造したことを特徴とするコバルト合金。
  14. (CoaCrbPtcM′df1−(Muvf2として定式化され(ここで、M′は、ホウ素(B),タンタル(Ta),ニオブ(Nb),ジルコニウム(Zr),銅(Cu),銀(Ag),金(Au)及びルテニウム(Ru)からなるグループから選択された1つの成分を表し、Mは、M′と異なる卑金属を表し、マグネシウム(Mg),チタン(Ti),バナジウム(V),マンガン(Mn),鉄(Fe),ニッケル(Ni),銅(Cu),亜鉛(Zn),アルミニウム(Al),ケイ素(Si),イットリウム(Y),ジルコニウム(Zr),ニオブ(Nb),モリブデン(Mo),ルテニウム(Ru),インジウム(In),ランタン(La),ハフニウム(Hf),タンタル(Ta)及びタングステン(W)からなるグループから選択される1つの卑金属を表し、u及びvは、それぞれ、酸化物式の卑金属M及び酸素(O)の原子数を表し、a及びbは原子比を表し、f1及びf2は、式f1+(u+v)f2=1によって表されたモル分率を表し、dは、式d=1−a−b−cで表される)、該定式による四元母材コバルトを主成分とする粒状媒体合金組成であり、
    下記の対応式になるようにCoa''Crb''Ptc''M′d''e''母合金粉末とCru''v''粉末を混合する工程と、
    前記混合された粉末を緻密にする工程と、
    を用いて製造したことを特徴とするコバルト合金。
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