JP2006279009A - 半導体素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】段差のあるSiエピタキシャル層の上部にゲートを形成してゲートチャンネルの有効長さを増加させ、ビットラインコンタクトの下部のSiエピタキシャル層と半導体基板の界面にのみ酸化膜を形成することにより、格納電極接合の漏洩電流の特性を改善する。
【解決手段】
本発明は半導体素子の製造方法に関し、特に段差のあるSiエピタキシャル層の上部にゲートを形成してゲートチャンネルの有効長さを増加させ、ビットラインコンタクトの下部のSiエピタキシャル層と半導体基板の界面のみに酸化膜を形成することにより、格納電極接合の漏洩電流の特性を改善することができる技術である。
【選択図】図4f
【解決手段】
本発明は半導体素子の製造方法に関し、特に段差のあるSiエピタキシャル層の上部にゲートを形成してゲートチャンネルの有効長さを増加させ、ビットラインコンタクトの下部のSiエピタキシャル層と半導体基板の界面のみに酸化膜を形成することにより、格納電極接合の漏洩電流の特性を改善することができる技術である。
【選択図】図4f
Description
本発明は半導体素子の製造方法に関し、特にショートチャンネル効果(Short-Channel Effect)と格納電極接合漏洩電流を改善するため、段差のあるSiエピタキシャル層の上部にゲートを形成してゲートチャンネルの有効長さを増加させ、ビットラインコンタクトの下部のSiエピタキシャル層と半導体基板の界面にのみ酸化膜を形成することにより、格納電極接合の漏洩電流の特性を改善することができる半導体素子の製造方法に関するものである。
図1は、従来の技術に係るセル領域1000aの活性領域1、第1のゲート領域2及び第2のゲート領域3を示した半導体素子のレイアウトである。
図2a〜図2fは、従来の技術に係る半導体素子の製造方法を示した断面図等である。図2a(i)〜図2f(i)は図1のI−I’に沿う断面を示した図である。
図2a〜図2fは、従来の技術に係る半導体素子の製造方法を示した断面図等である。図2a(i)〜図2f(i)は図1のI−I’に沿う断面を示した図である。
図2aに示されているように、セル領域1000aとコア/周辺回路領域1000bを備えた半導体基板10の上部にSiGeエピタキシャル層(図示省略)、第1のSiエピタキシャル層(図示省略)、第1の酸化膜(図示省略)及び第1の窒化膜(図示省略)の積層構造を形成する。
次に、セル領域1000a及びコア/周辺回路領域1000bの第1の窒化膜(図示省略)の上部に感光膜(図示省略)を塗布する。
そのあと、前記感光膜(図示省略)を露光及び現像して図1の第1のゲート領域2を露出し、コア/周辺回路領域1000bの全体表面を覆う第1の感光膜パターン(図示省略)を形成する。
そのあと、前記感光膜(図示省略)を露光及び現像して図1の第1のゲート領域2を露出し、コア/周辺回路領域1000bの全体表面を覆う第1の感光膜パターン(図示省略)を形成する。
その次に、第1の感光膜パターン(図示省略)をエッチングマスクとして前記積層構造をエッチングして第1のゲート領域2の半導体基板10とコア/周辺回路領域1000bの全体表面を露出する。
以後、第1の感光膜パターン(図示省略)を取り除く。
図2bに示されているように、セル領域1000aの第1の窒化膜パターン19及び第1の酸化膜パターン17を湿式方式で取り除く。
以後、第1の感光膜パターン(図示省略)を取り除く。
図2bに示されているように、セル領域1000aの第1の窒化膜パターン19及び第1の酸化膜パターン17を湿式方式で取り除く。
次に、セル領域1000a及びコア/周辺回路領域1000bの全体表面の上部に第2のSiエピタキシャル層25を形成する。
図2cに示されているように、セル領域1000a及びコア/周辺回路領域1000bの第2のSiエピタキシャル層25の上部に第2の酸化膜30及び第2の窒化膜35を形成する。
次に、第2の窒化膜35の全体表面の上部に感光膜(図示省略)を塗布し、これを露光及び現像して図1の活性領域1を定義してコア/周辺回路領域1000bの活性領域を定義する第2の感光膜パターン(図示省略)を形成する。
そのあと、第2の感光膜パターン(図示省略)をエッチングマスクとして第2の窒化膜35、第2の酸化膜30、第2のSiエピタキシャル層25、第1のSiエピタキシャル層パターン15、SiGeエピタキシャル層パターン13、及び所定の厚さの半導体基板10をエッチングしてセル領域1000a及びコア/周辺回路領域1000bに素子分離用トレンチ40を形成する。
図2cに示されているように、セル領域1000a及びコア/周辺回路領域1000bの第2のSiエピタキシャル層25の上部に第2の酸化膜30及び第2の窒化膜35を形成する。
次に、第2の窒化膜35の全体表面の上部に感光膜(図示省略)を塗布し、これを露光及び現像して図1の活性領域1を定義してコア/周辺回路領域1000bの活性領域を定義する第2の感光膜パターン(図示省略)を形成する。
そのあと、第2の感光膜パターン(図示省略)をエッチングマスクとして第2の窒化膜35、第2の酸化膜30、第2のSiエピタキシャル層25、第1のSiエピタキシャル層パターン15、SiGeエピタキシャル層パターン13、及び所定の厚さの半導体基板10をエッチングしてセル領域1000a及びコア/周辺回路領域1000bに素子分離用トレンチ40を形成する。
そのあと、第2の感光膜パターン(図示省略)を取り除いたあと、トレンチ40の側壁を介した湿式エッチング法でセル領域1000aのSiGeエピタキシャル層パターン13を取り除き、SiGeエピタキシャル層パターン13が取り除かれたアンダーカット形態の領域27を形成する。
図2dに示されているように、セル領域1000aのトレンチ40とSiGeエピタキシャル層パターン13が取り除かれたアンダーカット形態の領域27を埋め込み、コア/周辺回路領域1000bのトレンチ40を埋め込むギャップフィル絶縁膜45を全体表面の上部に形成する。
図2dに示されているように、セル領域1000aのトレンチ40とSiGeエピタキシャル層パターン13が取り除かれたアンダーカット形態の領域27を埋め込み、コア/周辺回路領域1000bのトレンチ40を埋め込むギャップフィル絶縁膜45を全体表面の上部に形成する。
次に、第2の窒化膜35が露出するまでギャップフィル酸化膜45を平坦化する。このとき、ギャップフィル絶縁膜45は素子分離膜に用いられる。
以後、トレンチ40で所定厚さのギャップフィル絶縁膜45をエッチングしたあと湿式エッチング法で第2の窒化膜35を取り除く。
以後、トレンチ40で所定厚さのギャップフィル絶縁膜45をエッチングしたあと湿式エッチング法で第2の窒化膜35を取り除く。
そのあと、不純物の濃度を調節するためセル領域1000a及びコア/周辺回路領域1000bそれぞれにウェル及びチャンネル不純物注入工程を行なう。
図2eに示されているように、セル領域1000a及びコア/周辺回路領域1000bの第2の酸化膜30を湿式エッチング法で取り除き、第2のSiエピタキシャル層25を露出したあと露出した第2のSiエピタキシャル層25の上部にゲート酸化膜50を形成する。
図2eに示されているように、セル領域1000a及びコア/周辺回路領域1000bの第2の酸化膜30を湿式エッチング法で取り除き、第2のSiエピタキシャル層25を露出したあと露出した第2のSiエピタキシャル層25の上部にゲート酸化膜50を形成する。
次に、セル領域1000a及びコア/周辺回路領域1000bの全体表面の上部にゲート導電層60、70及びハードマスク絶縁膜80を形成する。
図2fに示されているように、セル領域1000a及びコア/周辺回路領域1000bのハードマスク絶縁膜80の上部に感光膜(図示省略)を塗布する。
図2fに示されているように、セル領域1000a及びコア/周辺回路領域1000bのハードマスク絶縁膜80の上部に感光膜(図示省略)を塗布する。
以後、前記感光膜(図示省略)を露光及び現像して図1の第2のゲート領域3を定義し、コア/周辺回路領域1000bのゲート領域(図示省略)を定義する第3の感光膜パターン(図示省略)を形成する。特に、第3の感光膜パターンはセル領域1000aのビットラインコンタクト領域と格納電極コンタクト領域を露出し、コア/周辺回路領域1000bのゲート予定領域を覆うように形成する。
次に、第3の感光膜パターン(図示省略)をエッチングマスクとしてハードマスク絶縁膜80及びゲート導電層70、60をエッチングし、セル領域1000a及びコア/周辺回路領域1000bそれぞれにゲート90を形成する。
しかし、前述の従来の技術に係る半導体素子の製造方法では平面第2のSiエピタキシャル層にゲートチャンネル領域を形成するためデザインルール(Design Rule)が減少するに伴い、各ビットラインコンタクト領域及び格納電極コンタクト領域の側面拡散でゲートチャンネルの長さが減少するという問題点がある。
さらに、前述の従来の技術に係る半導体素子の製造方法では活性領域の両側端に形成される格納電極コンタクト領域の下部のSiエピタキシャル層と半導体基板の界面に酸化膜を形成することにより、シリコンと酸化膜との間の界面特性により格納電極接合の漏洩電流の特性が大きく左右されるという欠点がある。
そして、格納電極コンタクト領域下部の酸化膜を素子分離膜と共に形成することにより、以前の熱処理工程によるSiGeエピタキシャル層にあったゲルマニウム(Ge)成分が第1のSiエピタキシャル層、第2のSiエピタキシャル層及び半導体基板に拡散されて格納電極接合の漏洩電流が増加するという欠点がある。
「PICATを用いた増強されたデータの保持時間を有する80nm 512M DRAM("80nm 512M DRAM with Enhanced Data Retention Time Using Partially Insulated Cell Array Transistor(PICAT)")」、2004 Symposium on VLSI technology Digest of Technical Papers、30〜31頁
「PICATを用いた増強されたデータの保持時間を有する80nm 512M DRAM("80nm 512M DRAM with Enhanced Data Retention Time Using Partially Insulated Cell Array Transistor(PICAT)")」、2004 Symposium on VLSI technology Digest of Technical Papers、30〜31頁
本発明は前記のような問題点を解決するため、段差のあるSiエピタキシャル層の上部にゲートを形成してゲートチャンネルの有効長さを増加させ、ビットラインコンタクトの下部のSiエピタキシャル層と半導体基板の界面にのみ酸化膜を形成することにより、格納電極接合の漏洩電流の特性を改善することができる半導体素子の製造方法を提供することに目的がある。
本発明に係る半導体素子の製造方法は
(a)半導体基板の上部にSiGeエピタキシャル層、第1のSiエピタキシャル層及び絶縁膜を形成する段階と、
(b)格納電極コンタクト予定領域とこれと隣接した領域の絶縁膜、Siエピタキシャル層及びSiGeエピタキシャル層をエッチングして前記半導体基板を露出する段階と、
(c)前記絶縁膜を取り除く段階と、
(d)前記露出した半導体基板を含む全体表面の上部に第2のSiエピタキシャル層を形成する段階と、
(e)素子分離領域に予定されている部分の前記半導体基板をエッチングしてトレンチを形成する段階と、
(f)前記トレンチの側壁を介し前記SiGeエピタキシャル層を取り除く段階と、
(g)前記SiGeエピタキシャル層が取り除かれた領域及び前記トレンチを埋め込む素子分離用絶縁膜を形成する段階と、
(h)前記第2のSiエピタキシャル層の上部にゲート酸化膜を形成する段階と、
(i)全体表面の上部にゲート導電層及びハードマスク層を順次積層しパターニングしてゲートを形成する段階とを含むことを特徴とする。
(a)半導体基板の上部にSiGeエピタキシャル層、第1のSiエピタキシャル層及び絶縁膜を形成する段階と、
(b)格納電極コンタクト予定領域とこれと隣接した領域の絶縁膜、Siエピタキシャル層及びSiGeエピタキシャル層をエッチングして前記半導体基板を露出する段階と、
(c)前記絶縁膜を取り除く段階と、
(d)前記露出した半導体基板を含む全体表面の上部に第2のSiエピタキシャル層を形成する段階と、
(e)素子分離領域に予定されている部分の前記半導体基板をエッチングしてトレンチを形成する段階と、
(f)前記トレンチの側壁を介し前記SiGeエピタキシャル層を取り除く段階と、
(g)前記SiGeエピタキシャル層が取り除かれた領域及び前記トレンチを埋め込む素子分離用絶縁膜を形成する段階と、
(h)前記第2のSiエピタキシャル層の上部にゲート酸化膜を形成する段階と、
(i)全体表面の上部にゲート導電層及びハードマスク層を順次積層しパターニングしてゲートを形成する段階とを含むことを特徴とする。
本発明に係る半導体素子の製造方法は、格納電極コンタクト領域とこれと接した所定の広さの領域を含むコンタクト領域を露出し、ビットラインコンタクトの下部にのみSiエピタキシャル層と半導体基板の界面に酸化膜を形成することによりビットラインコンタクトキャパシタンスが減少し、セルトランジスタのショートチャンネル効果を低減させることができる。
さらに、ゲートチャンネル領域を平面でない傾斜面に形成することにより有効チャンネルの長さを増加させることができ、格納電極コンタクト領域の下部をSiエピタキシャル層にのみ形成することにより接合漏洩電流を小さくすることができるのでDRAMリフレッシュ特性を改善することができる。
さらに、ゲートチャンネル領域を平面でない傾斜面に形成することにより有効チャンネルの長さを増加させることができ、格納電極コンタクト領域の下部をSiエピタキシャル層にのみ形成することにより接合漏洩電流を小さくすることができるのでDRAMリフレッシュ特性を改善することができる。
以下では、本発明の実施の形態を図を参照して詳しく説明する。
図3は、本発明の実施の形態に係るセル領域2000aの活性領域101、コンタクト領域102及びゲート領域103を示した半導体素子のレイアウトである。
図3は、本発明の実施の形態に係るセル領域2000aの活性領域101、コンタクト領域102及びゲート領域103を示した半導体素子のレイアウトである。
図4a〜図4fは、本発明に係る半導体素子の製造方法を示した断面図等である。図4a(i)〜図4f(i)は図3のII−II’に沿う断面を示した図である。
図4aに示されているように、セル領域2000aとコア/周辺回路領域2000bを備えた半導体基板110の上部にSiGeエピタキシャル層(図示省略)、第1のSiエピタキシャル層(図示省略)、絶縁膜(図示省略)の積層構造を形成する。ここで、絶縁膜(図示省略)は酸化膜、又は酸化膜と窒化膜の二重膜のうちいずれか一つであるのが好ましい。
次に、セル領域2000a及びコア/周辺回路領域2000bの絶縁膜(図示省略)の上部に感光膜(図示省略)を塗布する。
図4aに示されているように、セル領域2000aとコア/周辺回路領域2000bを備えた半導体基板110の上部にSiGeエピタキシャル層(図示省略)、第1のSiエピタキシャル層(図示省略)、絶縁膜(図示省略)の積層構造を形成する。ここで、絶縁膜(図示省略)は酸化膜、又は酸化膜と窒化膜の二重膜のうちいずれか一つであるのが好ましい。
次に、セル領域2000a及びコア/周辺回路領域2000bの絶縁膜(図示省略)の上部に感光膜(図示省略)を塗布する。
以後、前記感光膜(図示省略)を露光及び現像し図3のコンタクト領域102を露出し、コア/周辺回路領域2000bの全体の領域を覆う第1の感光膜パターン(図示省略)を形成する。
ここで、コンタクト領域102は格納電極コンタクト領域とこれと両側に隣接する所定線幅(M)のゲート領域を含む。さらに、前記所定線幅(M)は1/3F〜Fであり、Fはゲート線幅であるのが好ましい。
ここで、コンタクト領域102は格納電極コンタクト領域とこれと両側に隣接する所定線幅(M)のゲート領域を含む。さらに、前記所定線幅(M)は1/3F〜Fであり、Fはゲート線幅であるのが好ましい。
その次に、第1の感光膜パターン(図示省略)をエッチングマスクとして前記積層構造をエッチングしてコンタクト領域102の半導体基板110を露出し、コア/周辺回路領域2000bを露出する。
以後、第1の感光膜パターン(図示省略)を取り除く。
図4bに示されているように、セル領域2000aの絶縁膜パターン120を取り除く。ここで、絶縁膜パターン120の除去工程は湿式エッチング法で行なわれるのが好ましい。
以後、第1の感光膜パターン(図示省略)を取り除く。
図4bに示されているように、セル領域2000aの絶縁膜パターン120を取り除く。ここで、絶縁膜パターン120の除去工程は湿式エッチング法で行なわれるのが好ましい。
次に、全体表面の上部に第2のSiエピタキシャル層125を形成する。ここで、第2のSiエピタキシャル層125は10〜100nmの厚さに形成するのが好ましい。
一方、セル領域2000aでは露出した半導体基板110の幅が広いため第2のSiエピタキシャル層125に図4bのような屈曲が生じることがある。
図4cに示されているように、セル領域2000a及びコア/周辺回路領域2000bの第2のSiエピタキシャル層125の上部に第2の酸化膜130及び第2の窒化膜135を順次形成する。
一方、セル領域2000aでは露出した半導体基板110の幅が広いため第2のSiエピタキシャル層125に図4bのような屈曲が生じることがある。
図4cに示されているように、セル領域2000a及びコア/周辺回路領域2000bの第2のSiエピタキシャル層125の上部に第2の酸化膜130及び第2の窒化膜135を順次形成する。
次に、第2の窒化膜135の上部に感光膜(図示省略)を塗布し、これを露光及び現像して図3の活性領域101を定義し、コア/周辺回路領域2000bの活性領域(図示省略)を定義する第2の感光膜パターン(図示省略)を形成する。
以後、第2の感光膜パターン(図示省略)をエッチングマスクとして第2の窒化膜135、第2の酸化膜130、第2のSiエピタキシャル層125、第1のSiエピタキシャル層パターン115、SiGeエピタキシャル層パターン113、及び所定の厚さの半導体基板110を
エッチングし、セル領域2000a及びコア/周辺回路領域2000bそれぞれに素子分離用トレンチを形成する。
エッチングし、セル領域2000a及びコア/周辺回路領域2000bそれぞれに素子分離用トレンチを形成する。
その次に、セル領域2000aでは第2の感光膜パターン(図示省略)を取り除いたあと、素子分離用トレンチ140の側壁を介し、SiGeエピタキシャル層パターン113をエッチングしてSiGeエピタキシャル層パターン113が取り除かれたアンダーカット形態の領域127を形成する。
図5は図3のIII−III’に沿って図4c(i)の構造を示す断面を示した図である。これはSiGeエピタキシャル層パターン113が取り除かれたアンダーカット形態の領域127を示している。
ここで、SiGeエピタキシャル層パターン113の除去工程はHF:H2O2:CH3COOHの混合溶液を利用した湿式エッチング法や、(CF4又はCH2F2)/N2/O2の混合ガスを利用したプラズマエッチング法又はこれらの組み合せで行なうのが好ましく、前記混合溶液でHF:H2O2:CH3COOHの体積比は1:2:3であるのがさらに好ましい。
ここで、SiGeエピタキシャル層パターン113の除去工程はHF:H2O2:CH3COOHの混合溶液を利用した湿式エッチング法や、(CF4又はCH2F2)/N2/O2の混合ガスを利用したプラズマエッチング法又はこれらの組み合せで行なうのが好ましく、前記混合溶液でHF:H2O2:CH3COOHの体積比は1:2:3であるのがさらに好ましい。
図4dに示されているように、最小のセル領域2000aの素子分離用トレンチ140とSiGeエピタキシャル層パターン113が取り除かれたアンダーカット形態の領域127を埋め込み、コア/周辺回路領域2000bの素子分離用トレンチ140を埋め込むギャップフィル絶縁膜145を全体表面の上部に形成する。
このとき、ギャップフィル絶縁膜145の形成工程はSiGeエピタキシャル層パターン113が取り除かれたアンダーカット形態の領域127を埋め込む熱酸化膜(図示省略)を成長させ、素子分離用トレンチ140を埋め込む素子分離用酸化膜(図示省略)を形成して行なうことができる。そして、前記素子分離用酸化膜(図示省略)と素子分離用トレンチ140の界面に窒化膜(図示省略)を追加して形成することができる。
さらに、ギャップフィル絶縁膜145の形成工程はSiGeエピタキシャル層113が取り除かれたアンダーカット形態の領域127を部分的に埋め込む熱酸化膜(図示省略)を成長させ、残りのアンダーカット形態の領域127を埋め込む窒化膜(図示省略)を形成し、素子分離用トレンチ140を埋め込む素子分離用酸化膜(図示省略)を形成して行なうことができる。
次に、第2の窒化膜135が露出するまでギャップフィル絶縁膜145を平坦化する。ここで、素子分離用トレンチ140のギャップフィル絶縁膜145は素子分離膜に利用される。
以後、素子分離用トレンチ140で所定厚さのギャップフィル絶縁膜145をエッチングしたあと第2の窒化膜135を取り除く。ここで、ギャップフィル絶縁膜145のエッチング工程は湿式エッチング法で行なわれるのが好ましく、第2の窒化膜135の除去工程も湿式エッチング法で行なわれるのが好ましい。
以後、素子分離用トレンチ140で所定厚さのギャップフィル絶縁膜145をエッチングしたあと第2の窒化膜135を取り除く。ここで、ギャップフィル絶縁膜145のエッチング工程は湿式エッチング法で行なわれるのが好ましく、第2の窒化膜135の除去工程も湿式エッチング法で行なわれるのが好ましい。
その次に、不純物の濃度を調節するためセル領域2000a及びコア/周辺回路領域2000bそれぞれにウェル及びチャンネル不純物注入工程を行なう。
図4eに示されているように、第2の酸化膜130を取り除いて第2のSiエピタキシャル層125を露出したあと、露出された第2のSiエピタキシャル層125の上部にゲート酸化膜150を形成する。ここで、第2の酸化膜130の除去工程は湿式エッチング法で行なわれるのが好ましい。
図4eに示されているように、第2の酸化膜130を取り除いて第2のSiエピタキシャル層125を露出したあと、露出された第2のSiエピタキシャル層125の上部にゲート酸化膜150を形成する。ここで、第2の酸化膜130の除去工程は湿式エッチング法で行なわれるのが好ましい。
次に、全体表面の上部にゲート導電層175及びハードマスク層180の積層構造を形成する。ここで、ゲート導電層175は下部導電層160と上部導電層170を含むのが好ましい。
図4fに示されているように、ハードマスク層180の上部に感光膜(図示省略)を塗布する。
図4fに示されているように、ハードマスク層180の上部に感光膜(図示省略)を塗布する。
以後、前記感光膜(図示省略)を露光及び現像して図3のゲート領域103を定義し、コア/周辺回路領域2000bのゲート領域を定義する第3の感光膜パターン(図示省略)を形成する。特に、第3の感光膜パターンはセル領域2000aのビットラインコンタクト領域と格納電極コンタクト領域を露出し、コア/周辺回路領域2000bのゲート予定領域を覆うように形成する。
次に、第3の感光膜パターン(図示省略)をエッチングマスクとして前記積層構造をエッチングしてセル領域2000a及びコア/周辺回路領域2000bそれぞれにゲート190を形成する。
以後の工程は、従来の技術のように活性領域にソース/ドレーン領域の形成のための不純物イオン注入工程、ゲート190の側壁に側壁スペーサを形成する工程、ランディングプラグポリ形成工程、ビットラインコンタクト及びビットライン形成工程、キャパシタ形成工程及び金属配線形成工程を追加して完成する。
なお、本発明について、好ましい実施の形態を基に説明したが、これらの実施の形態は、例を示すことを目的として開示したものであり、当業者であれば、本発明に係る技術思想の範囲内で、多様な改良、変更、付加等が可能である。このような改良、変更等も、特許請求の範囲に記載した本発明の技術的範囲に属することは言うまでもない。
101 活性領域
102 コンタクト領域
103 ゲート領域
110 半導体基板
113 SiGeエピタキシャル層パターン
115 Siエピタキシャル層パターン
120 絶縁膜パターン
125 Siエピタキシャル層
127 アンダーカット形態の領域
130 酸化膜
135 窒化膜
140 素子分離用トレンチ
145 ギャップフィル絶縁膜
150 ゲート酸化膜
160 下部導電層
170 上部導電層
175 ゲート導電層
180 ハードマスク層
190 ゲート
2000a セル領域
2000b コア/周辺回路領域
102 コンタクト領域
103 ゲート領域
110 半導体基板
113 SiGeエピタキシャル層パターン
115 Siエピタキシャル層パターン
120 絶縁膜パターン
125 Siエピタキシャル層
127 アンダーカット形態の領域
130 酸化膜
135 窒化膜
140 素子分離用トレンチ
145 ギャップフィル絶縁膜
150 ゲート酸化膜
160 下部導電層
170 上部導電層
175 ゲート導電層
180 ハードマスク層
190 ゲート
2000a セル領域
2000b コア/周辺回路領域
Claims (12)
- (a)半導体基板の上部にSiGeエピタキシャル層、第1のSiエピタキシャル層及び絶縁膜を形成する段階と、
(b)格納電極コンタクト予定領域とこれに隣接した領域の絶縁膜、Siエピタキシャル層及びSiGeエピタキシャル層をエッチングして前記半導体基板を露出する段階と、
(c)前記絶縁膜を取り除く段階と、
(d)前記露出した半導体基板を含む全体表面の上部に第2のSiエピタキシャル層を形成する段階と、
(e)素子分離領域に予定されている部分の前記半導体基板をエッチングしてトレンチを形成する段階と、
(f)前記トレンチの側壁を介し前記SiGeエピタキシャル層を取り除く段階と、
(g)前記SiGeエピタキシャル層が取り除かれた領域及び前記トレンチを埋め込む素子分離用絶縁膜を形成する段階と、
(h)前記第2のSiエピタキシャル層の上部にゲート酸化膜を形成する段階と、
(i)全体表面の上部にゲート導電層及びハードマスク層を順次積層しパターニングしてゲートを形成する段階とを含むことを特徴とする半導体素子の製造方法。 - 前記(b)段階は全体表面の上部に感光膜を形成する段階と、
前記格納電極コンタクト領域とその両側に隣接する所定線幅(M)のゲート予定領域を露出させる感光膜パターンを形成する段階と、
前記感光膜パターンをマスクとして前記絶縁膜、前記Siエピタキシャル層及び前記SiGeエピタキシャル層をエッチングする段階とを含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体素子の製造方法。 - 前記所定線幅(M)は1/3F〜Fであり、Fはゲート線幅であることを特徴とする請求項2に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記絶縁膜は酸化膜であることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記絶縁膜は酸化膜と窒化膜を含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記(c)段階の前記絶縁膜を取り除く工程は、湿式エッチング法で行なわれることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記第2のSiエピタキシャル層は10〜100nmの厚さに成長させることを特徴する請求項1に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記(f)段階のSiGeエピタキシャル層除去の工程は、HF:H2O2:CH3COOHの混合溶液を利用した湿式エッチング法や(CH4又はCH2F2)/N2/O2の混合ガスを利用したプラズマエッチング法で行なわれることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記HF:H2O2:CH3COOH溶液の体積比は1:2:3であることを特徴とする請求項8に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記(g)段階は
前記SiGeエピタキシャル層が取り除かれた前記領域を埋め込む熱酸化膜を成長させる段階と、
前記トレンチを埋め込む素子分離用酸化膜を形成する段階とを含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体素子の製造方法。 - 前記(g)段階は前記トレンチの表面に窒化膜を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項10に記載の半導体素子の製造方法。
- 前記(g)段階は
前記SiGeエピタキシャル層が取り除かれた領域を部分的に埋め込む熱酸化膜を成長させる段階と、
前記領域の残りの部分を埋め込む窒化膜を形成する段階と、
前記トレンチを埋め込む素子分離用酸化膜を形成する段階とを含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体素子の製造方法。
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