JP2006278845A - 導電性パターンの形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被印刷物51に導電性インク組成物2を反転オフセット印刷法により転写した後、熱処理温度が120℃以上250℃以下で熱処理を行う導電性パターンの形成方法であって、該導電性インク組成物2が少なくとも平均粒子径が50nm以下の金属粒子と、水性溶媒と、水溶性樹脂を含む。
【選択図】図1
Description
例えば、スクリーン印刷は、スクリーンメッシュの精細度の制約から、パターン微細度が例えばラインスペースで20μm以下となると、パターンの安定形成は困難である。また、パターンが微細となると、粘度が高く流動性の低い印刷ペーストを用いる必要があるため、印刷後のレべリング不足によりパターンにカスレや表面凹凸が残るという表面平滑性の問題も生じてくる。
反転オフセット印刷による導電性パターンの形成例はこれまで報告されていないが、オフセット印刷による導電性パターンの形成例はいくつか報告されている。それらの報告例における導電性インク組成物は、分散媒として有機溶剤系のものが用いられ、導電材として粒径が数μm程度の金属粒子が用いられている(特許文献1〜3参照)。
(導電性インク組成物)
本発明で用いる導電性インク組成物は導電成分として平均粒子径が50nm以下の金属粒子と、分散媒として水性溶媒と、水溶性樹脂を少なくとも含む。
金属粒子としては平均粒子径が50nm以下の粒子が用いられるが、好ましくは平均粒子径が20nm以下の粒子である。50nmより粒子径が大きいと、粒子の形状や表面処理を工夫することにより導電性が確保できることもあるが、パターニング解像度が低下するので好ましくない。一般にナノサイズの金属粒子においては、粒径を小さくすると粒子同士が融着する温度が低下することが知られている。そして、粒子同士が融着するとバルク導電性が発現する。そのため、粒子径はこの範囲であることが好ましい。特に低温熱処理時における導電性の確保において粒子径がこの範囲であることが好ましい。
また、粒子は1nm以上であることが好ましい。これより小さいと現実的に製造するのが非常に困難だからである。
分散媒は、水性溶媒であれば、印刷用ブランケットを膨潤させない、あるいは膨潤させても極めて軽微であるので好ましい。水性溶媒としては、水、各種極性有機溶媒のうち1種類以上を含む溶媒を挙げることができる。極性有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類、アセトンなどのケトン類が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
水溶性樹脂は、印刷用ブランケットから被印刷物への導電材の転写性を付与するためのものであり、水溶性樹脂を含むことで、微細で十分な導電性を有するパターンを形成することができる。
水溶性樹脂としては、前記金属粒子分散液に可溶なものが用いられ、例えば、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、ポリアクリレート、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー、セルロース、天然多糖類、ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等が挙げられるが、特に、ポリエチレンオキサイドを用いた場合にパターン転写性と導電性が良好である。
また、本発明で用いる導電性インク組成物は、印刷用ブランケットへ均一に塗布するために、必要に応じ界面活性剤やレベリング剤を添加しても良い。
次に、反転オフセット印刷による導電性パターンの形成方法について、一例として図1を例に説明する。
まず、剥離性表面を有する印刷用ブランケット11の全面に導電性インク組成物2を均一に塗布した後、後述の凸版による転写物の除去に必要な程度まで乾燥させ、転写物31が全面に形成されたブランケット12を得る(図1a)。
塗布方法としては、例えば、バーコート、ダイコート、スピンコートなどが挙げられるが、これに限定されるものではない。前記転写物31の厚さは、パターンの精細度にもよるが、通常10μm以下である。膜厚が大きいと転写時に転写物31の凝集破壊が生じやすくなり好ましくない。
このようなものとして例えば、ソーダライムガラス、石英、シリコンウエハーや、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリカーボネート、ポリアリルレートなどを使用することができる。
導電性インク組成物は、銀粒子水分散液(平均粒径20nm、住友電工製)にポリエチレンオキサイド(平均分子量10,000、アルドリッチ製)を、(ポリエチレンオキサイド/銀粒子/水)=(1/8/31)の重量比となるように溶解させ調製した。印刷用ブランケットは、東芝GE社製の2液型シリコーンゴムを、厚さ2mm、大きさが100mm×100mmに成形し作製した。
凸版は、ガラス板のフォトリソエッチング加工により作製した。凸版のパターン形状は凹部と凸部をストライプ状に形成したものとし(凹部幅/凸部幅=10μm/2μm)、凹部の深さは0.5μmとした。被印刷物は、厚さ0.7mm、大きさが100mm×100mmのソーダライムガラス基板とした。
前述した発明の実施の形態における図1に示した方法で反転オフセット印刷を行った。まず、ブランケットに導電性インク組成物をバーコータ(#6)で全面に塗布した後、室温で数分間乾燥させ、転写物が全面に形成されたブランケットを得た。続いて、このブランケットを凸版に密着させたのち剥離し、転写物のうち凸部に接触した部分をブランケットから除去し、転写物がパターン形成されたブランケットを得た。続いて、このブランケットを被印刷物に密着させたのち剥離することで、被印刷物に転写物をパターン転写した。続いて、これを200℃で30分間熱処理することで導電性パターンを形成した。
導電性パターンを光学顕微鏡で観察したところ、凸版の形状を正確に反映したラインスペース状のパターンが確認された(ライン/スペース=10μm/2μm)。また、導電性パターンの膜厚は400nmであった。膜厚と抵抗値から体積抵抗率を測定したところ4.0×10−5Ωcmであり、市販の導電性ペーストを熱処理したものと同程度の導電性を示すことがわかった。
(材料)
平均粒子径10μmの銀粒子とポリエステル樹脂とトルエンを用い、重量比(ポリエステル樹脂/銀粒子/水)=(1/8/31)の導電性インク組成物を調製した。印刷用ブランケットおよび凸版は実施例と同様とした。
実施例に示した方法と同様の方法で反転オフセット印刷を行った。
ブランケットに導電性インク組成物を塗布したところ、ブランケットが膨潤し大きく変形した。導電インクの室温での乾燥工程で、ブランケットの膨潤も緩和されるが元の形状に戻らなかった。なお、ブランケット膨潤が復元するまで長時間乾燥すると転写性が完全に失われてしまう。
導電性パターンを光学顕微鏡で観察したところ、ライン状パターンの直線性が悪く、また、割れや欠けなどの欠陥が目立った。パターンの抵抗測定を試みたが、パターンの欠陥により導通が取れなかった。
12 転写物31が形成された印刷用ブランケット
13 転写物32が形成された印刷用ブランケット
2 導電性インク組成物
31 印刷用ブランケットの全面に形成された転写物
32 印刷用ブランケットにパターン形成された転写物
4 凸版
51 被印刷物
52 転写物32が形成された被印刷物
6 導電性パターン
Claims (5)
- 被印刷物に導電性インク組成物を反転オフセット印刷法により転写した後、熱処理を行うことを特徴とする導電性パターンの形成方法であって、該導電性インク組成物が少なくとも平均粒子径が50nm以下の金属粒子と、水性溶媒と、水溶性樹脂を含むことを特徴とする導電性パターンの形成方法。
- 前記水溶性樹脂と前記金属粒子の配合比が、重量比(水溶性樹脂/金属粒子)=(1/20)〜(1/4)であることを特徴とする請求項1に記載の導電性パターンの形成方法。
- 前記水溶性樹脂がポリエチレンオキサイドであることを特徴とする請求項1又は2に記載の導電性パターンの形成方法。
- 前記金属粒子が銀を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の導電性パターンの形成方法。
- 前記熱処理における熱処理温度が120℃以上250℃以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の導電性パターンの形成方法。
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