JP2006278227A - 放電プラズマ処理装置及びその処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】対向した一対の電極の間に、フッ素含有化合物ガスを含む処理ガスを流すと共にプラズマを発生させて基板の表面処理を行う放電プラズマ処理装置1であって、放電プラズマ処理装置1は、前記電極間に前記処理ガスを供給するガス供給手段30と、プラズマ処理後の処理ガスを回収すると共に該回収したガスから前記フッ素含有化合物ガスを抽出するガス抽出手段20とを備え、ガス抽出手段20は、前記抽出したガスをガス供給手段30に流すべく接続されてなる。
【選択図】図1
Description
前記の実施形態において、以下の実験を行った。高圧電極の大きさは、幅700mm(基板W進行方向に対して直角方向の長さ)を用いてプラズマ処理を行った。フッ素含有化合物ガスとしては、CF4ガス用いて、N2ガスを20SLM、CF4ガス10SLMとなるように処理ガスを流した。この処理ガスの流速は、処理ガスが標準状態において大気圧中に拡散する拡散速度の10倍の速度の大きさである。また、高圧電極に印加した電力(プラズマ強度)は、1kWであり、電圧は20kHとなるようにパルス電圧を印加した。
実施例と同じ基板を用いて、表面処理を行った。実施例と異なる点は、N2ガスとCF4ガスの合計を30SLM未満(処理ガスの速度が大気拡散速度の10倍未満)となるように処理ガスを流した。そして、処理後の基板の表面観察を行った。
Claims (9)
- 対向した一対の電極の間に、フッ素含有化合物ガスを含む処理ガスを流すと共にプラズマを発生させて被処理材の表面処理を行う放電プラズマ処理装置であって、
該放電プラズマ処理装置は、前記電極間に前記処理ガスを供給するガス供給手段と、プラズマ処理後の処理ガスを回収すると共に該回収したガスから前記フッ素含有化合物ガスを抽出するガス抽出手段とを備え、該ガス抽出手段は、前記抽出したガスを前記ガス供給手段に流すべく接続されていることを特徴とする放電プラズマ処理装置。 - 前記放電プラズマ処理装置は、前記処理ガスが大気中に拡散する拡散速度よりも大きい速度で流れるように、処理ガスのガス流速を調整するガス流速調整手段を備えることを特徴とする請求項1に記載の放電プラズマ処理装置。
- 前記放電プラズマ処理装置は、前記処理ガス中に窒素ガスを供給する窒素ガス供給手段を備えることを特徴とする請求項1または2に記載の放電プラズマ処理装置。
- 前記ガス流速調整手段は、前記処理ガスを少なくとも前記拡散速度の10倍以上に調整可能であることを特徴とする請求項2または3に記載の放電プラズマ処理装置。
- 前記ガス抽出手段は、ガス選択性の透過フィルタを備えることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の放電プラズマ処理装置。
- 対向した一対の電極の間に、フッ素含有化合物ガスを含む処理ガスを流すと共にプラズマを発生させて被処理材の表面処理を行う放電プラズマ処理方法であって、
該放電プラズマ処理方法は、前記処理ガスが大気中に拡散する拡散速度よりも大きい流速に、前記処理ガスを調整して流し、前記被処理材の表面処理を行うことを特徴とする放電プラズマ処理方法。 - 前記放電プラズマ処理方法は、前記処理ガスの流速を調整する際に、前記処理ガスの流速を前記拡散速度の少なくとも10倍以上の速度に調整することを特徴とする請求項6に記載の放電プラズマ処理方法。
- 前記表面プラズマ処理方法は、被処理材の処理後のガスを回収し、該回収したガスからフッ素含有化合物ガスを抽出し、該抽出されたガスをさらに前記電極間に流すことを特徴とする請求項6または7に記載の放電プラズマ処理方法。
- 前記処理ガス中に窒素ガスをさらに供給することを特徴とする請求項6から8のいずれか一項に記載の放電プラズマ処理方法。
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