JP2006276401A - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 電気光学装置は、基板上に、画素アレイ領域を構成する複数の画素領域に夫々配置されており、所定値の容量が付加された画素部と、基板上で平面的に見て画素アレイ領域の周囲を囲む周囲領域を構成する複数のダミー画素領域に夫々配置されており、画素部を夫々模擬するダミー画素部とを備えており、周囲領域のうち少なくとも画素アレイ領域の一辺に隣接する領域内において、前記一辺に沿った方向及び前記一辺に交差する方向のうち少なくとも一方の方向についてのダミー画素領域の配列ピッチは、画素アレイ領域内における画素領域の配列ピッチより小さく、ダミー画素部は夫々、付加された容量を模擬する構造を有する。
【選択図】 図4
Description
第1実施形態に係る液晶装置について、図1から図6を参照して説明する。
図6において、本実施形態の変形例では特に、ダミー画素部93dは夫々、画素電極を有していない。このため、ダミー画素部93における配線及び電子素子を、画素電極の存在による制限なく、配置することができる。例えば、画素領域において、液晶容量とこれに並列接続された蓄積容量70との合計容量に近い容量値が、ダミー領域でも得られるように、ダミー蓄積容量の容量値は、ダミー領域に液晶容量がない分だけ蓄積容量70の容量値よりも大きく設定される。
従って、図6に示すように、ダミー画素領域の配列ピッチDd2は、図5に示した配列ピッチDdよりも更に小さくすると共に、ダミー蓄積容量の幅Wd2を、図5に示した配列ピッチWdよりも更に広くすることができる。この結果、個々のダミー画素部93dのサイズを小さく、且つダミー画素部93dによって、蓄積容量70が付加された画素部93を容易に模擬することができる。
第2実施形態に係る電気光学装置について、図7及び図8を参照して説明する。ここに図7は、第2実施形態における図4と同趣旨の平面図である。図8は、図7のB−B’の断面図である。尚、図7及び図8において、図1から図5に示した第1実施形態に係る構成要素と同様の構成要素に同一の参照符合を付し、それらの説明は適宜省略する。
第3実施形態に係る電気光学装置について、図9を参照して説明する。ここに図9は、第3実施形態における図4と同趣旨の平面図である。尚、図9において、図1から図5に示した第1実施形態に係る構成要素と同様の構成要素に同一の参照符合を付し、それらの説明は適宜省略する。
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。
Claims (11)
- 基板上に、
画素アレイ領域を構成する複数の画素領域に夫々配置されており、所定値の容量が付加された画素部と、
前記基板上で平面的に見て前記画素アレイ領域の周囲を囲む周囲領域を構成する複数のダミー画素領域に夫々配置されており、前記画素部を夫々模擬するダミー画素部と
を備えており、
前記周囲領域のうち少なくとも前記画素アレイ領域の一辺に隣接する領域内において、前記一辺に沿った方向及び前記一辺に交差する方向のうち少なくとも一方の方向についての前記ダミー画素領域の配列ピッチは、前記画素アレイ領域内における前記画素領域の配列ピッチより小さく、
前記ダミー画素部は夫々、前記付加された容量を模擬する構造を有する
ことを特徴とする電気光学装置。 - 前記ダミー画素部は夫々、前記所定値に一致する値の容量を模擬する構造を有することを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
- 前記ダミー画素部は夫々、前記画素部と同一の積層構造を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置。
- 前記画素部は夫々、画素電極と該画素電極を駆動するための配線及び電子素子の少なくとも一方とを有し、
前記ダミー画素部は夫々、前記画素電極を有さないことを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置。 - 前記画素部は夫々、前記電子素子として前記画素電極に電気的に接続された蓄積容量を有し、
前記ダミー画素部は夫々、前記蓄積容量を模擬するダミー蓄積容量を有する
ことを特徴とする請求項4に記載の電気光学装置。 - 基板上平面的に見て、前記ダミー蓄積容量の形状は、前記蓄積容量の形状を模擬することを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置。
- 基板上平面的に見て、前記ダミー画素部における前記ダミー蓄積容量の配置は、前記画素部における前記画素部の配置を模擬することを特徴とする請求項5又は6に記載の電気光学装置。
- 基板上に、
画素アレイ領域を構成する複数の画素領域に夫々配置された画素部と、
前記基板上で平面的に見て前記画素アレイ領域の周囲を囲む周囲領域を構成する複数のダミー画素領域に夫々配置されており、前記画素部の構造を夫々模擬するダミー画素部と
を備えており、
前記周囲領域のうち少なくとも前記画素アレイ領域の一辺に隣接する領域内において、前記一辺に沿った方向及び前記一辺に交差する方向のうち少なくとも一方の方向についての前記ダミー画素領域の配列ピッチは、前記画素アレイ領域内における前記画素領域の配列ピッチより小さく、
前記ダミー画素領域の配列ピッチは、前記一辺から離れるに従って徐々に小さくなる
ことを特徴とする電気光学装置。 - 前記画素部は夫々、前記画素領域に、表示に寄与する光が出射される開口領域と前記光が出射されない非開口領域とを有し、
前記ダミー画素部は夫々、前記ダミー画素領域に前記非開口領域を有する
ことを特徴とする請求項1から8のいずれか一項に記載の電気光学装置。 - 前記周囲領域を遮光する遮光膜を更に備えたことを特徴とする請求項1から9のいずれか一項に記載の電気光学装置。
- 請求項1から10のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備することを特徴とする電子機器。
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