JP2006272035A - 膜の形成方法及び電子源基板の製造方法 - Google Patents
膜の形成方法及び電子源基板の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 予め電子源基板1上の素子電極2,3の位置を、該基板1の表面画像を取り込むことにより検出し、導電性膜4の形成位置を液滴付与位置として算出し、得られた液滴付与位置のピッチdにノズル12のピッチが一致するように、インクジェットヘッド11の傾き角θを調整する。
【選択図】 図1
Description
前記基板上の、複数箇所の位置情報を検出する工程と、
前記検出工程で検出した位置情報に基づいて、液滴を付与すべき、複数の位置情報を算出する工程と、
前記基板の法線を軸にして、前記インクジェットヘッドを前記複数の液滴付与位置情報に応じて回転させ、前記基板上に該液滴を付与する工程と、
を有することを特徴とする。
上記導電性膜を上記本発明第一の膜の形成方法により形成することを特徴とする。
θ=sin−1(d/L)
となるようにインクジェットヘッド11を素子列に対して傾けることでピッチを対応させる。しかしながら、図2に示すように、基板1が歪んでいた場合、基板1内の位置A〜Cによって導電性膜4のピッチ、即ち液滴付与位置のピッチが異なってしまう。そこで、本発明においては、図2に示すように、基板の各位置においてインクジェットヘッド11を基板1の法線を軸として回転させて素子列に対する傾きを調整することにより、ノズル12のピッチを導電性膜4のピッチに一致させながら液滴を付与する。具体的には、インクジェットヘッド11の角度を任意に変えることができるように構成し、予め基板1の場所によるひずみ量を測定し、その測定値から算出されるピッチdの変化に応じて各位置におけるインクジェットヘッド11の傾き各θが、
θn=sin−1(dn/L) (n=1,2,3,…)
となるようにインクジェットヘッド11を回転させる。
図4〜図9に示した工程に従って電子源基板を作製した。
θn=sin−1(dn/L) n=1,2,3…
を満たすように随時制御することによって、所望の位置に液滴を付与した。
実施例1と同様の工程で図7の上配線7まで作製した。この基板1に、酢酸パラジウム−エタノールアミン錯体0.2%、イソプロピルアルコール15%、エチレングリコール1%、ポリビニルアルコール0.05%の水溶液を調製し、図3の構成を備えた装置により該水溶液の液滴を付与した。
2,3 素子電極
4 導電性膜
5 下配線
6 層間絶縁層
7 上配線
8 電子放出部
11 インクジェットヘッド
12 ノズル
13 液滴
31 ステージ
32,33 ステージ走査コントローラ
34 画像処理装置
35 CCDカメラ
37 位置補正制御機構
38 インクジェット制御・駆動機構
39 制御用コンピュータ
60 フェースプレート
61 蛍光膜
62 メタルバック
63 側壁
64 電子放出素子
65 スペーサ
66 スペーサ固定部材
Claims (4)
- 複数のノズルを直線状に配置したインクジェットヘッドより膜材料を含む液滴を基板上の複数箇所に局所的に付与することにより、基板上の複数箇所に膜を形成する方法であって、
前記基板上の、複数箇所の位置情報を検出する工程と、
前記検出工程で検出した位置情報に基づいて、液滴を付与すべき、複数の位置情報を算出する工程と、
前記基板の法線を軸にして、前記インクジェットヘッドを前記複数の液滴付与位置情報に応じて回転させ、前記基板上に該液滴を付与する工程と、
を有することを特徴とする膜の形成方法。 - 前記基板の位置情報の検出工程が、前記基板上の複数の構造物の配置状態の検出である請求項1に記載の膜の形成方法。
- 前記複数の構造物の配置状態が、前記複数の構造物のピッチであることを特徴とする請求項2に記載の膜の形成方法。
- 一対の素子電極と該素子電極間に跨り電子放出部を有する導電性膜とを有する電子放出素子を複数個基板上に配置し、該電子放出素子をマトリクス配線してなる電子源基板の製造方法であって、
上記導電性膜を請求項1〜3のいずれかに記載の膜の形成方法により形成することを特徴とする電子源基板の製造方法。
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