JP2005243656A - 表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板上に複数の配線電極を有する配線基板と、前記配線基板の配線電極を有する表面に位置する枠部材と、前記枠部材を介して前記配線基板と対向して位置する対向基板とを有する気密容器内に画像形成部材を有する表示装置の製造方法であって、
前記画像形成部材の前記配線基板上への正射影領域にフォトペーストを用いたフォトリソ法により配線を形成する工程と、
前記枠部材の配置される領域に、非フォトリソペーストからなる印刷用ペーストインキを用いたパターン印刷で配線を形成する工程とを有する表示装置の製造方法。
【選択図】 図1
Description
前記画像形成部材の前記配線基板上への正射影領域にフォトペーストを用いたフォトリソ法により配線を形成する工程と、
前記枠部材の配置される領域に、非フォトリソペーストからなる印刷用ペーストインキを用いたパターン印刷で配線を形成する工程とを有することを特徴とする。
前記画像形成部材の前記配線基板上への正射影領域及び前記枠部材の配置される領域にフォトペーストを用いたフォトリソ法により配線パターンを形成する工程と、
前記枠部材の配置される領域の配線パターン上に、前記フォトペースト中の有機成分の焼失温度より高温でかつ無機成分の軟化点より低温で焼失するオーバーコート層を形成する工程と、
配線パターンとオーバーコート層を同時に焼成する工程とを有することを特徴とする。
前記画像形成部材の前記配線基板上への正射影領域及び前記枠部材の配置される領域にフォトペーストを用いたフォトリソ法により第一の配線を形成する工程と、
前記枠部材の配置される領域の前記第一の配線上に、非フォトリソペーストからなる印刷用ペーストインキを用いたパターン印刷で第二の配線を形成する工程とを有することを特徴とする。
(1)表示領域内においては少なくともY方向配線24をフォトペーストを用いたフォトリソ法により形成し、表示領域外においてはXY両方向引出し配線11,12ともスクリーン印刷法によるパターン印刷で形成する方法。
(2)表示領域内においては少なくともY方向配線24を、表示領域外においてはXY両方向引出し配線11,12ともフォトペーストを用いたフォトリソ法によりパターン形成した後、少なくとも表示領域外においては前記フォトペースト中の有機成分の焼失温度より高温でかつ無機成分の軟化点より低温で焼失するオーバーコート層と同時に焼成する方法。
が好適である。
本実施例は、図2に示したような多数の表面伝導型電子放出素子をマトリクス配線接続してなる電子源基板を製造した例である。図2中、21は基板、2と3は素子電極、4は導電性膜(素子膜)、5は電子放出部、24はY方向配線(下配線)、25は絶縁層、26はX方向配線(上配線)である。
基板21としてアルカリ成分が少ないPD−200(旭硝子(株)製)の2.8mm厚ガラス上にナトリウムブロック層としてSiO2膜100nmを塗付焼成したものを用いた。
共通配線としてのX方向配線26とY方向配線24の配線材料に関しては、多数の表面伝導型電子放出素子にほぼ均等な電圧が供給されるように低抵抗である事が望まれ、材料、膜厚、配線巾等が適宜設定される。
上下配線を絶縁するために、絶縁層25を形成する。後述のX方向配線(上配線)下に、先に形成したY方向配線(下配線)24との交差部を覆うように、かつX方向配線(上配線)と素子電極2との電気的接続が可能なように、各素子に対応した接続部にコンタクトホール27を開けて形成した(図5参照)。
先に形成した絶縁層25の上に、Agぺーストインキをスクリーン印刷した後乾燥させ、この上に再度同様なことを行い2度塗りしてから、420℃前後の温度で焼成してX方向配線(上配線)26を形成した(図6参照)。X方向配線26は、絶縁層25を挟んでY方向配線24と交差しており、絶縁層25に設けたコンタクトホール27部分で素子電極22と接続されている。
外部駆動回路と接続するためのX・Y両方向の引出し配線11,12は、前述したX方向配線(上配線)26と同様の方法で形成した(図1参照)。尚、引き出し配線11,12は線幅をより大きくとり、場所により100μm〜500μmである。
次に、上記基板を十分にクリーニングした後、撥水剤を含む溶液で表面を処理し、表面が疎水性になるようにした。これはこの後塗布する導電性膜形成用の水溶液が、素子電極上に適度な広がりをもって配置されるようにするためである。用いた撥水剤は、ジメチルジエトキシシランをスプレー法にて基板上に散布し、120℃にて温風乾燥した。
次に、フォーミングと呼ばれる本工程に於いて、上記導電性膜4’を通電処理して内部に亀裂を生じさせ、電子放出部5を形成する(図7(c))。
前記のフォーミングと同様にフード状の蓋をかぶせて基板21との間で内部に真空空間を作り、外部から両方向配線24,26を通じてパルス電圧を素子電極2,3間に繰り返し印加することによって行う。そして炭素原子を含むガスを導入し、それに由来する炭素あるいは炭素化合物を、前記亀裂近傍にカーボン膜として堆積させる。
上述のような素子構成と製造方法によって作製された電子源基板の電子放出特性を、図9に示したような装置を用いて測定した。その結果、素子電極間に印加する電圧12Vにおける放出電流Ieを測定したところ平均0.6μA、電子放出効率は平均0.15%を得た。また素子間の均一性もよく、各素子間でのIeのばらつきは5%と良好であった。
本実施例は、表示領域内のY方向配線形成時に、表示領域外のX・Y両方向引出し配線も同時に形成し、このX・Y両方向引出し配線には更にアクリル樹脂をコートして同時に焼成した以外は実施例1と同様に電子源基板を作製した。以下に配線形成部分のみ説明する。
Y方向配線(下配線)24は、フォトペースト材料を用いたフォトリソ法により、一方の素子電極3に接して、かつそれらを連結するようにライン状のパターンで形成した。材料には銀AgフォトぺーストインキDC−206(Dupont社製)を用い、スクリーン印刷した後、乾燥させてから、所定のパターンに露光し現像した。この後480℃前後の温度で焼成してY方向配線24を形成した(図4参照)。このY方向配線24の厚さは約15μm、線幅は約50μmである。
上下配線を絶縁するために、絶縁層25を形成する。後述のX方向配線(上配線)下に、先に形成したY方向配線(下配線)24との交差部を覆うように、かつX方向配線(上配線)と素子電極2との電気的接続が可能なように、各素子に対応した接続部にコンタクトホール27を開けて形成した(図5参照)。
先に形成した絶縁層25の上に、Agぺーストインキをスクリーン印刷した後乾燥させ、この上に再度同様なことを行い2度塗りしてから、420℃前後の温度で焼成してX方向配線(上配線)26を形成した(図6参照)。X方向配線26は、絶縁層25を挟んでY方向配線24と交差しており、絶縁層25に設けたコンタクトホール27部分で素子電極22と接続されている。このX方向配線26の厚さは約15μm、線幅は約300μmである。
本実施例は、第一の配線として表示領域外のX及びY方向引き出し配線をフォトペーストを用いたフォトリソ法で形成し、更に第二の配線として、表示領域外のX及びY方向引出し配線(第一の配線)上に非フォトリソペーストである印刷用ペーストインキを用いてスクリーン印刷法で2層目の引き出し配線を形成した以外は実施例1と同様に電子源基板を作製した。以下に配線形成部分のみ説明する。
Y方向配線(下配線)24は、フォトペースト材料を用いたフォトリソ法により、一方の素子電極3に接して、かつそれらを連結するようにライン状のパターンで形成した。材料には銀AgフォトぺーストインキDC−206(Dupont社製)を用い、スクリーン印刷した後、乾燥させてから、所定のパターンに露光し現像した。この後480℃前後の温度で焼成してY方向配線24を形成した(図4参照)。このY方向配線24の厚さは約15μm、線幅は約50μmである。
上下配線を絶縁するために、絶縁層25を形成する。後述のX方向配線(上配線)下に、先に形成したY方向配線(下配線)24との交差部を覆うように、かつX方向配線(上配線)と素子電極2との電気的接続が可能なように、各素子に対応した接続部にコンタクトホール27を開けて形成した(図5参照)。
図1に示す表示領域外のX方向引出し配線11をフォトペースト材料を用いたフォトリソ法で先に形成した。材料には銀AgフォトぺーストインキDC−206(Dupont社製)を用い、スクリーン印刷した後、乾燥させてから、所定のパターンに露光し現像した。この後480℃前後の温度で焼成した。
2 素子電極
3 素子電極
4 導電性膜(素子膜)
5 電子放出部
11 X方向引出し配線
12 Y方向引出し配線
13 真空容器形成用部材(封着部材)
21 基板(電子源基板)
24 Y方向配線
25 絶縁層
26 X方向配線
27 コンタクトホール
50 素子電流Ifを測定するための電流計
51 素子に素子電圧Vfを印加するための電源
52 放出電流Ieを測定するための電流計
53 アノード電極に電圧を印加するための高圧電源
54 放出電流Ieを捕捉するためのアノード電極
55 真空装置
56 排気ポンプ
71 液滴付与手段
82 フェースプレート
83 ガラス基板
84 蛍光膜
85 メタルバック
86 支持枠
90 外囲器(表示パネル)
91 黒色導電体
92 蛍光体
101 表示パネル
102 走査回路
103 制御回路
104 シフトレジスタ
105 ラインメモリ
106 同期信号分離回路
107 情報信号発生器
122 リークパス
123 真空容器形成用絶縁層
124 マウスホール
125 フリットシール(フリットガラス)
126 サイドクラック
Claims (3)
- 基板上に複数の配線電極を有する配線基板と、前記配線基板の配線電極を有する表面に位置する枠部材と、前記枠部材を介して前記配線基板と対向して位置する対向基板とを有する気密容器内に画像形成部材を有する表示装置の製造方法であって、
前記画像形成部材の前記配線基板上への正射影領域にフォトペーストを用いたフォトリソ法により配線を形成する工程と、
前記枠部材の配置される領域に、非フォトリソペーストからなる印刷用ペーストインキを用いたパターン印刷で配線を形成する工程とを有することを特徴とする表示装置の製造方法。 - 基板上に複数の配線電極を有する配線基板と、前記配線基板の配線電極を有する表面に位置する枠部材と、前記枠部材を介して前記配線基板と対向して位置する対向基板とを有する気密容器内に画像形成部材を有する表示装置の製造方法であって、
前記画像形成部材の前記配線基板上への正射影領域及び前記枠部材の配置される領域にフォトペーストを用いたフォトリソ法により配線パターンを形成する工程と、
前記枠部材の配置される領域の配線パターン上に、前記フォトペースト中の有機成分の焼失温度より高温でかつ無機成分の軟化点より低温で焼失するオーバーコート層を形成する工程と、
配線パターンとオーバーコート層を同時に焼成する工程とを有することを特徴とする表示装置の製造方法。 - 基板上に複数の配線電極を有する配線基板と、前記配線基板の配線電極を有する表面に位置する枠部材と、前記枠部材を介して前記配線基板と対向して位置する対向基板とを有する気密容器内に画像形成部材を有する表示装置の製造方法であって、
前記画像形成部材の前記配線基板上への正射影領域及び前記枠部材の配置される領域にフォトペーストを用いたフォトリソ法により第一の配線を形成する工程と、
前記枠部材の配置される領域の前記第一の配線上に、非フォトリソペーストからなる印刷用ペーストインキを用いたパターン印刷で第二の配線を形成する工程とを有することを特徴とする表示装置の製造方法。
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JP2007294406A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Samsung Sdi Co Ltd | 電子放出表示素子 |
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