JP2006269115A - プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 ＰＤＰの発光効率の向上を図る。
【解決手段】 前面ガラス基板１と背面ガラス基板６の間の放電空間Ｓ内に、キセノン・ガスを１０体積パーセント以上含む放電ガスが封入され、放電空間Ｓ内に形成される放電セルＣに面する位置に、電子線によって励起されて波長域２００〜３００ｎｍ内にピークを有するカソード・ルミネッセンス発光を行う酸化マグネシウム結晶体を含む結晶酸化マグネシウム層５が設けられている。
【選択図】 図２

Description

この発明は、プラズマディスプレイパネルの構成およびプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。

面放電方式交流型プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）は、放電空間を挟んで互いに対向する二枚のガラス基板のうち一方のガラス基板に、行方向に延びる複数の行電極対が列方向に並設されて誘電体層によって被覆され、この誘電体層の面上に、誘電体層の保護機能と単位発光領域内への２次電子放出機能とを有する酸化マグネシウム膜が蒸着法によって形成されており、他方のガラス基板に列方向に延びる複数の列電極が行方向に並設されて、放電空間の行電極対と列電極がそれぞれ交差する部分にマトリックス状に配列される単位発光領域（放電セル）が形成されている。

各放電セル内には、赤，緑，青の三原色に色分けされた蛍光体層が形成されている。

そして、このＰＤＰの放電空間内に、ネオンとキセノンの混合ガスからなる放電ガスが充填されている。

このＰＤＰは、対になっている行電極間において一斉にリセット放電が行われ、次に、一方の行電極と列電極との間で選択的にアドレス放電が発生されて、放電セルに隣接する誘電体層に壁電荷が形成されている発光セルと誘電体層の壁電荷が消去された消灯セルがパネル面に分布され、この後、発光セル内において対になっている行電極間でサステイン放電が行われて、放電空間内の放電ガスに混合されているキセノン・ガスから真空紫外線が放射され、この真空紫外線によって赤，緑，青の蛍光体層が励起されて発光することにより、パネル面に画像が形成される。

従来、上記のような構成のＰＤＰにおいて、リセット放電やアドレス放電，サステイン放電の各放電における放電開始電圧の上昇と放電確率の低下を防止しながら、パネルの発光効率を向上させることが難しく、これらを両立させることが長年の課題であった。

この発明は、上記のような従来のＰＤＰにおける課題を達成することをその解決課題の一つとしている。

この発明（請求項１に記載の発明）によるプラズマディスプレイパネルは、上記課題を解決するために、放電空間を介して対向する前面基板および背面基板と、この前面基板と背面基板の間に設けられた複数の行電極対およびこの行電極対に対して交差する方向に延びて行電極対と交差する各部分の放電空間にそれぞれ単位発光領域を形成する複数の列電極とを備えたプラズマディスプレイパネルにおいて、前記放電空間内に、キセノン・ガスを１０体積パーセント以上含む放電ガスが封入され、前記単位発光領域に面する位置に、電子線によって励起されて波長域２００〜３００ｎｍ内にピークを有するカソード・ルミネッセンス発光を行う酸化マグネシウム結晶体を含む酸化マグネシウム層が設けられていることを特徴としている。

この発明によるＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基板の間に、行方向に延びる行電極対と、列方向に延びて行電極対との交差部分の放電空間に放電セルを形成する列電極が設けられ、この行電極対または列電極を被覆する誘電体層の表面の少なくとも放電セルに面する部分に、電子線によって励起されて波長域２００〜３００ｎｍ内にピークを有するカソード・ルミネッセンス発光を行う気相法酸化法によって生成された酸化マグネシウム結晶体を含む酸化マグネシウム層が設けられ、前面ガラス基板と背面ガラス基板の間の放電空間に、キセノン・ガスを１０体積パーセント以上含む放電ガスが封入されているＰＤＰをその最良の実施形態としている。

この実施形態におけるＰＤＰは、放電空間内に封入される放電ガスに１０体積パーセント以上のキセノン・ガスが含まれていることによって、発光効率が向上される。そして、放電セルに面する部分に、電子線により励起されて２００〜３００ｎｍ内にピークを有するカソード・ルミネッセンス発光を行う気相酸化マグネシウム結晶体を含む酸化マグネシウム層が形成されていることによって、放電ガス中のキセノン・ガス分圧の増大に伴う放電開始電圧の上昇が抑制されるとともに、放電遅れが短縮されて放電のばらつきが減少されることにより、さらに発光効率が向上される。

図１ないし３は、この発明によるＰＤＰの実施形態の一実施例を示しており、図１はこの実施例におけるＰＤＰを模式的に示す正面図、図２は図１のＶ−Ｖ線における断面図、図３は図１のＷ−Ｗ線における断面図である。

この図１ないし３に示されるＰＤＰは、表示面である前面ガラス基板１の背面に、複数の行電極対（Ｘ，Ｙ）が、前面ガラス基板１の行方向（図１の左右方向）に延びるように平行に配列されている。

行電極Ｘは、Ｔ字形状に形成されたＩＴＯ等の透明導電膜からなる透明電極Ｘａと、前面ガラス基板１の行方向に延びて透明電極Ｘａの狭小の基端部に接続された金属膜からなるバス電極Ｘｂとによって構成されている。

行電極Ｙも同様に、Ｔ字形状に形成されたＩＴＯ等の透明導電膜からなる透明電極Ｙａと、前面ガラス基板１の行方向に延びて透明電極Ｙａの狭小の基端部に接続された金属膜からなるバス電極Ｙｂとによって構成されている。

この行電極ＸとＹは、前面ガラス基板１の列方向（図１の上下方向）に交互に配列されており、バス電極ＸｂとＹｂに沿って並列されたそれぞれの透明電極ＸａとＹａが、互いに対となる相手の行電極側に延びて、透明電極ＸａとＹａの幅広部の頂辺が、それぞれ所要の幅の放電ギャップｇを介して互いに対向されている。

前面ガラス基板１の背面には、列方向において隣接する行電極対（Ｘ，Ｙ）の互いに背中合わせになったバス電極ＸｂとＹｂの間に、このバス電極Ｘｂ，Ｙｂに沿って行方向に延びる黒色または暗色の光吸収層（遮光層）２が形成されている。

さらに、前面ガラス基板１の背面には、行電極対（Ｘ，Ｙ）を被覆するように誘電体層３が形成されており、この誘電体層３の背面には、互いに隣接する行電極対（Ｘ，Ｙ）の背中合わせに隣り合うバス電極ＸｂとＹｂ、および、この隣り合うバス電極ＸｂとＹｂの間の領域部分に対向する位置に、誘電体層３の背面側に突出する嵩上げ誘電体層３Ａが、バス電極Ｘｂ，Ｙｂと平行に延びるように形成されている。

そして、この誘電体層３と嵩上げ誘電体層３Ａの背面側には、蒸着法またはスパッタリングによって形成された薄膜の酸化マグネシウム層（以下、薄膜酸化マグネシウム層という）４が形成されていて、誘電体層３と嵩上げ誘電体層３Ａの背面の全面を被覆している。

この薄膜酸化マグネシウム層４の背面側には、後で詳述するような、電子線によって励起されることにより波長域２００〜３００ｎｍ内（特に、２３５ｎｍ付近，２３０〜２５０ｎｍ内）にピークを有するカソード・ルミネッセンス発光（ＣＬ発光）を行う酸化マグネシウム結晶体を含む酸化マグネシウム層（以下、結晶酸化マグネシウム層という）５が形成されている。

この結晶酸化マグネシウム層５は、薄膜酸化マグネシウム層４の背面の全面または一部、例えば、後述する放電セルに面する部分に形成されている（図示の例では、結晶酸化マグネシウム層５が薄膜酸化マグネシウム層４の背面の全面に形成されている例が示されている）。

そして、この結晶酸化マグネシウム層５は、薄膜酸化マグネシウム層４上に、例えば、上記のような酸化マグネシウム結晶体の粉末が散布されることによって形成される。

一方、前面ガラス基板１と平行に配置された背面ガラス基板６の表示側の面上には、列電極Ｄが、各行電極対（Ｘ，Ｙ）の互いに対となった透明電極ＸａおよびＹａに対向する位置において行電極対（Ｘ，Ｙ）と直交する方向（列方向）に延びるように、互いに所定の間隔を開けて平行に配列されている。

背面ガラス基板６の表示側の面上には、さらに、列電極Ｄを被覆する白色の列電極保護層(誘電体層）７が形成され、この列電極保護層７上に、隔壁８が形成されている。

この隔壁８は、各行電極対（Ｘ，Ｙ）のバス電極ＸｂとＹｂに対向する位置においてそれぞれ行方向に延びる一対の横壁８Ａと、隣接する列電極Ｄの間の中間位置において一対の横壁８Ａ間を列方向に延びる縦壁８Ｂとによって略梯子形状に形成されており、各隔壁８が、隣接する他の隔壁８の互いに背中合わせに対向する横壁８Ａの間において行方向に延びる隙間ＳＬを挟んで、列方向に並設されている。

そして、この梯子状の隔壁８によって、前面ガラス基板１と背面ガラス基板６の間の放電空間Ｓが、各行電極対（Ｘ，Ｙ）において互いに対になっている透明電極ＸａとＹａに対向する部分に形成される放電セルＣ毎に、それぞれ方形に区画されている。

放電空間Ｓに面する隔壁８の横壁８Ａおよび縦壁８Ｂの側面と列電極保護層７の表面には、これらの五つの面を全て覆うように蛍光体層９が形成されており、この蛍光体層９の色は、各放電セルＣ毎に赤，緑，青の三原色が行方向に順に並ぶように配列されている。

嵩上げ誘電体層３Ａは、この嵩上げ誘電体層３Ａを被覆している結晶酸化マグネシウム層５（または、結晶酸化マグネシウム層５が薄膜酸化マグネシウム層４の背面の放電セルＣに対向する部分にのみ形成されている場合には、薄膜酸化マグネシウム層４）が隔壁８の横壁８Ａの表示側の面に当接される（図２参照）ことによって、放電セルＣと隙間ＳＬの間をそれぞれ閉じているが、縦壁８Ｂの表示側の面には当接されておらず（図３参照）、その間に隙間ｒが形成されて、行方向において隣接する放電セルＣ間がこの隙間ｒを介して互いに連通されている。

放電空間Ｓ内には、キセノン・ガスが１０体積パーセント以上含まれる高キセノン分圧の放電ガスが封入されている。

上記結晶酸化マグネシウム層５は、前述したような酸化マグネシウム結晶体が、スプレ法や静電塗布法などの方法によって誘電体層３および嵩上げ誘電体層３Ａを被覆している薄膜酸化マグネシウム層４の背面側の表面に付着されることによって形成される。

なお、この実施例においては、誘電体層３および嵩上げ誘電体層３Ａの背面に薄膜酸化マグネシウム層４が形成され、この薄膜酸化マグネシウム層４の背面に結晶酸化マグネシウム層５が形成される例について説明が行われるが、誘電体層３および嵩上げ誘電体層３Ａの背面に結晶酸化マグネシウム層５が形成された後、この結晶酸化マグネシウム層５の背面に薄膜酸化マグネシウム層４が形成されるようにしても良い。

図４は、誘電体層３の背面に薄膜酸化マグネシウム層４が形成され、この薄膜酸化マグネシウム層４の背面に、酸化マグネシウム結晶体がスプレ法や静電塗布法などの方法によって付着されて結晶酸化マグネシウム層５が形成されている状態を示している。

また、図５は、誘電体層３の背面に酸化マグネシウム結晶体がスプレ法や静電塗布法などの方法によって付着されて結晶酸化マグネシウム層５が形成された後、薄膜酸化マグネシウム層４が形成されている状態を示している。

上記ＰＤＰの結晶酸化マグネシウム層５は、下記の材料および方法によって形成される。

すなわち、結晶酸化マグネシウム層５の形成材料となる電子線によって励起されることにより波長域２００〜３００ｎｍ内（特に、２３５ｎｍ付近，２３０〜２５０ｎｍ内）にピークを有するＣＬ発光を行う酸化マグネシウム結晶体とは、例えば、マグネシウムを加熱して発生するマグネシウム蒸気を気相酸化して得られるマグネシウムの単結晶体（以下、このマグネシウムの単結晶体を気相法酸化マグネシウム単結晶体という）を含み、この気相法酸化マグネシウム単結晶体には、例えば、図６のＳＥＭ写真像に示されるような、立方体の単結晶構造を有する酸化マグネシウム単結晶体と、図７のＳＥＭ写真像に示されるような、立方体の結晶体が互いに嵌り込んだ構造（すなわち、立方体の多重結晶構造）を有する酸化マグネシウム単結晶体が含まれる。
この気相法酸化マグネシウム単結晶体は、後述するような放電特性の改善に寄与する。

そして、この気相法酸化マグネシウム単結晶体は、他の方法によって得られる酸化マグネシウムと比較すると、高純度であるとともに微粒子が得られ、さらに、粒子の凝集が少ないなどの特徴を備えている。

この実施例においては、ＢＥＴ法によって測定した平均粒径が５００オングストローム以上（好ましくは、２０００オングストローム以上）の気相法酸化マグネシウム単結晶体が用いられる。

なお、気相法酸化マグネシウム単結晶体の合成については、『材料』昭和６２年１１月号，第３６巻第４１０号の第１１５７〜１１６１頁の『気相法によるマグネシア粉末の合成とその性質』等に記載されている。

上記のＰＤＰは、画像形成のためのリセット放電およびアドレス放電，サステイン放電が放電セルＣ内において行われる。

そして、アドレス放電の前に行われるリセット放電が放電セルＣ内において発生される際に、結晶酸化マグネシウム層５が形成されていることによって、リセット放電によるプライミング効果が長く持続して、これによりアドレス放電が高速化される。

さらに、このＰＤＰは、放電空間に充填されている放電ガスとして、キセノン・ガスを１０体積パーセント以上含む高キセノン分圧の混合ガスを使用しているために、サステイン放電による放電ガスからの真空紫外線の放射量が増加して、高い発光効率を発揮することが出来る。

ここで、一般に、放電ガス中のキセノン・ガスの濃度とリセット放電やアドレス放電，サステイン放電の各放電の放電開始電圧との関係は、放電ガス中のキセノン・ガスの濃度が高くなると各放電の放電開始に必要な電圧が上昇するという所謂トレードオフの関係にあり、放電ガス中のキセノン・ガスの濃度を高めただけでは、放電確率が低下してしまうことになる。

上記ＰＤＰは、結晶酸化マグネシウム層５が、前述したような気相法酸化マグネシウム単結晶体を含む酸化マグネシウム結晶体によって形成されていることによって、上記のように、放電ガスとして高キセノン分圧の混合ガスを使用しても、各放電の放電開始電圧の上昇が抑制される。

すなわち、図８は、ＰＤＰにおいて、行電極間の放電（リセット放電，サステイン放電）の放電開始電圧と、赤，緑，青の各色の蛍光体層が形成されたそれぞれの放電セルにおける行電極と列電極間の放電（アドレス放電）の放電開始電圧を、放電空間に面する部分に気相法酸化マグネシウム層が形成されていない場合と形成されている場合とで比較したグラフである。

この図８において、左側部分が気相法酸化マグネシウム層が形成されていない場合を示し、右側部分が気相法酸化マグネシウム層が形成されている場合を示しており、それぞれ、ａ１，ａ２が行電極間の放電（リセット放電，サステイン放電）の放電開始電圧、ｂ１，ｂ２が赤色の蛍光体層が形成された放電セルにおける行電極と列電極間の放電（アドレス放電）の放電開始電圧、ｃ１，ｃ２が緑色の蛍光体層が形成された放電セルにおける行電極と列電極間の放電（アドレス放電）の放電開始電圧、ｄ１，ｄ２が青色の蛍光体層が形成された放電セルにおける行電極と列電極間の放電（アドレス放電）の放電開始電圧を示している。

このグラフから、ＰＤＰの放電空間に面する部分に気相法酸化マグネシウム層が形成された場合には、この気相法酸化マグネシウム層が形成されていない場合に比べて、行電極間の放電開始電圧が約７Ｖ、行電極と列電極間の放電の放電開始電圧が約１０〜２０Ｖ低下することが分かる。

したがって、上述した図１ないし３のＰＤＰにおいて、放電ガスとして、キセノン・ガスを１０体積パーセント以上含む高キセノン分圧の混合ガスを使用した場合でも、結晶酸化マグネシウム層５が気相法酸化マグネシウム単結晶体を含む酸化マグネシウム結晶体によって形成されていることによって、各放電の放電開始電圧が上昇するのが抑制される。

そして、一般に、ＰＤＰは、アドレス放電が発生される際に、前面ガラス基板１側の行電極Ｙに印加される電圧と背面ガラス基板６側の列電極Ｄに印加される電圧とによって発生する静電気力により、前面ガラス基板１と背面ガラス基板６が共振して振動が発生するが、上記ＰＤＰは、放電ガスとして高キセノン分圧の混合ガスが使用された場合でも、気相法酸化マグネシウム単結晶体を含む酸化マグネシウム結晶体によって形成された結晶酸化マグネシウム層５によってアドレス放電の放電開始電圧の上昇が抑制されるので、前面ガラス基板１と背面ガラス基板６間に発生する静電気力による物理的エネルギが上昇する虞がなく、これによって、基板の振動による聴感ノイズの発生が防止される。

さらに、上記ＰＤＰは、気相法酸化マグネシウム単結晶体を含む酸化マグネシウム結晶体によって形成された結晶酸化マグネシウム層５によって、サステイン放電の放電遅れが短縮されてその放電のばらつきが減少することにより、放電セルＣのうち所定数以上の放電セルＣが誘電体層３に壁電荷が形成された発光セルに設定されてサステイン放電が発生される場合に、各発光セルにおけるサステイン放電が揃うことによって、発光効率がさらに向上される。

図９は、放電空間に面する部分に気相法酸化マグネシウム層が形成されていないＰＤＰにおける放電のばらつき（図の左側）と、気相法酸化マグネシウム層が形成されたＰＤＰにおける放電遅れのばらつき（図の右側）とを比較した説明図である。

この図９において、気相法酸化マグネシウム層が形成されていないＰＤＰにおいては、放電のばらつきが大きく行電極対に印加されるサステイン・パルスの電圧低下は小さいが、気相法酸化マグネシウム層が形成されているＰＤＰにおいては、放電のばらつきが小さく放電が揃って発生するため、放電発生時のサステイン・パルスの電圧低下が大きくなって、この結果、発光効率が向上する。

上記の結晶酸化マグネシウム層５が形成されたＰＤＰにおいて、放電遅れが短縮される理由は、以下のように考えられる。

すなわち、図１０および１１に示されるように、結晶酸化マグネシウム層５が形成されたＰＤＰは、放電によって発生する電子線の照射によって、結晶酸化マグネシウム層５に含まれる粒径の大きな気相法酸化マグネシウム単結晶体から、３００〜４００ｎｍにピークを有するＣＬ発光に加えて、波長域２００〜３００ｎｍ内（特に、２３５ｎｍ付近，２３０〜２５０ｎｍ内）にピークを有するＣＬ発光が励起される。

この２３５ｎｍにピークを有するＣＬ発光は、図１２に示されるように、通常の蒸着法によって形成される酸化マグネシウム層（この実施例における薄膜酸化マグネシウム層４）からは励起されず、３００〜４００ｎｍにピークを有するＣＬ発光のみが励起される。

また、図１０および１１から分かるように、波長域２００〜３００ｎｍ内（特に、２３５ｎｍ付近，２３０〜２５０ｎｍ内）にピークを有するＣＬ発光は、気相法酸化マグネシウム単結晶体の粒径が大きくなるほどそのピーク強度が大きくなる。

この波長域２００〜３００ｎｍにピークを有するＣＬ発光の存在によって、放電特性の改善（放電遅れの減少，放電確率の向上）がさらに図られるものと推測される。

すなわち、この結晶酸化マグネシウム層５による放電特性の改善は、波長域２００〜３００ｎｍ内（特に、２３５ｎｍ付近，２３０〜２５０ｎｍ内）にピークを有するＣＬ発光を行う気相法酸化マグネシウム単結晶体が、そのピーク波長に対応したエネルギ準位を有し、そのエネルギ準位によって電子を長時間（数ｍｓｅｃ以上）トラップすることができ、この電子が電界によって取り出されることで、放電開始に必要な初期電子が得られことによって為されるものと推測される。

そして、この気相法酸化マグネシウム単結晶体による放電特性の改善効果が、波長域２００〜３００ｎｍ内（特に、２３５ｎｍ付近，２３０〜２５０ｎｍ内）にピークを有するＣＬ発光の強度が大きくなるほど大きくなるのは、ＣＬ発光強度と気相法酸化マグネシウム単結晶体の粒径との間にも相関関係があるためである。

すなわち、大きな粒径の気相法酸化マグネシウム単結晶体を形成しようとする場合には、マグネシウム蒸気を発生させる際の加熱温度を高くする必要があるため、マグネシウムと酸素が反応する火炎の長さが長くなり、この火炎と周囲との温度差が大きくなることによって、粒径の大きい気相法酸化マグネシウム単結晶体ほど上述したようなＣＬ発光のピーク波長（例えば、２３５ｎｍ付近，２３０〜２５０ｎｍ内）に対応したエネルギ準位が多数形成されるものと考えられる。

また、立方体の多重結晶構造の気相法酸化マグネシウム単結晶体については、結晶面欠陥を多く含んでいて、その面欠陥エネルギ準位の存在が放電確率の改善に寄与しているとも推測される。

なお、結晶酸化マグネシウム層５を形成する気相法酸化マグネシウム単結晶体の粒子径（Ｄ_ＢＥＴ）は、窒素吸着法によってＢＥＴ比表面積（ｓ）が測定され、この値から次式によって算出される。

Ｄ_ＢＥＴ＝Ａ／ｓ×ρ
Ａ：形状計数（Ａ＝６）
ρ：マグネシウムの真密度

図１３は、ＣＬ発光強度と放電遅れとの相関関係を示すグラフである。
この図１３から、結晶酸化マグネシウム層５から励起される２３５ｎｍのＣＬ発光によって、ＰＤＰでの放電遅れが短縮されることが分かり、さらに、この２３５ｎｍのＣＬ発光強度が強いほどこの放電遅れが短縮されることが分かる。

図１４は、上記のようにＰＤＰが薄膜酸化マグネシウム層４と結晶酸化マグネシウム層５の二層構造を備えている場合（グラフａ）と、従来のＰＤＰのように蒸着法によって形成された酸化マグネシウム層のみが形成されている場合（グラフｂ）の放電遅れ特性を比較したものである。

この図１４から分かるように、ＰＤＰが薄膜酸化マグネシウム層４と結晶酸化マグネシウム層５の二層構造を備えていることによって、放電遅れ特性が、従来の蒸着法によって形成された薄膜酸化マグネシウム層のみを備えているＰＤＰに比べて、著しく改善されていることが分かる。

以上のように、上記ＰＤＰは、蒸着法等によって形成された従来の薄膜酸化マグネシウム層４に加えて、電子線によって励起されることにより波長域２００〜３００ｎｍ内にピークを有するＣＬ発光を行う酸化マグネシウム結晶体を含む結晶酸化マグネシウム層５が積層されて形成されていることによって、放電遅れなどの放電特性の改善が図られて、良好な放電特性を備えることが出来る。

この結晶酸化マグネシウム層５を形成する酸化マグネシウム結晶体には、ＢＥＴ法によって測定したその平均粒径が５００オングストローム以上のものが使用され、好ましくは、２０００〜４０００オングストロームのものが使用される。

結晶酸化マグネシウム層５は、前述したように、必ずしも薄膜酸化マグネシウム層４の全面を覆うように形成する必要はなく、例えば行電極Ｘ，Ｙの透明電極Ｘａ，Ｙａに対向する部分や逆に透明電極Ｘａ，Ｙａに対向する部分以外の部分などように、部分的にパターン化して形成するようにしても良い。

この結晶酸化マグネシウム層５を部分的に形成する場合には、結晶酸化マグネシウム層５の薄膜酸化マグネシウム層４に対する面積比は、例えば、０．１〜８５パーセントに設定される。

なお、上記においては、この発明を、前面ガラス基板に行電極対を形成して誘電体層によって被覆し背面ガラス基板側に蛍光体層と列電極を形成した反射型交流ＰＤＰに適用した例について説明を行ったが、この発明は、前面ガラス基板側に行電極対と列電極を形成して誘電体層によって被覆し、背面ガラス基板側に蛍光体層を形成した反射型交流ＰＤＰや、前面ガラス基板側に蛍光体層を形成し背面ガラス基板側に行電極対および列電極を形成して誘電体層によって被覆した透過型交流ＰＤＰ，放電空間の行電極対と列電極の交差部分に放電セルが形成される三電極型交流ＰＤＰ，放電空間の行電極と列電極の交差部分に放電セルが形成される二電極型交流ＰＤＰなどの種々の形式のＰＤＰに適用することが出来る。

また、上記においては、結晶酸化マグネシウム層５をスプレ法や静電塗布法などの方法によって付着させることにより形成する例について説明を行ったが、結晶酸化マグネシウム層５は、酸化マグネシウム結晶体の粉末を含有するペーストを、スクリーン印刷法またはオフセット印刷法，ディスペンサ法，インクジェット法，ロールコート法などの方法によって塗布することによって形成するようにしても良く、または、酸化マグネシウム結晶体を含有するペーストを支持フィルム上に塗布した後に乾燥させることによってフィルム状にし、これを薄膜酸化マグネシウム層上にラミネートするようにしても良い。

また、上記の例においては、薄膜酸化マグネシウム層と結晶酸化マグネシウム層の双方が形成されたＰＤＰについて説明を行ったが、結晶酸化マグネシウム層のみが形成されたＰＤＰについても、この発明を適用することが出来る。

この発明の実施形態の実施例を示す正面図である。 図１のＶ−Ｖ線における断面図である。 図１のＷ−Ｗ線における断面図である。 同実施例において薄膜マグネシウム層上に結晶マグネシウム層が形成されている状態を示す断面図である。 同実施例において結晶マグネシウム層上に薄膜マグネシウム層が形成されている状態を示す断面図である。 立方体の単結晶構造を有する酸化マグネシウム単結晶体のＳＥＭ写真像を示す図である。 立方体の多重結晶構造を有する酸化マグネシウム単結晶体のＳＥＭ写真像を示す図である。 同実施例のＰＤＰにおける放電開始電圧の低減効果を示す比較図である。 同実施例のＰＤＰにおける放電のばらつきの改善状態を示す比較図である。 同実施例において酸化マグネシウム単結晶体の粒径とＣＬ発光の波長との関係を示すグラフである。 同実施例において酸化マグネシウム単結晶体の粒径と２３５ｎｍのＣＬ発光の強度との関係を示すグラフである。 蒸着法による酸化マグネシウム層からのＣＬ発光の波長の状態を示すグラフである。 酸化マグネシウム単結晶体からの２３５ｎｍのＣＬ発光のピーク強度と放電遅れとの関係を示すグラフである。 保護層が蒸着法による酸化マグネシウム層のみによって構成されている場合と結晶マグネシウム層と蒸着法による薄膜マグネシウム層の二層構造になっている場合との放電遅れ特性の比較を示す図である。

符号の説明

１ …前面ガラス基板（前面基板）
３ …誘電体層
４ …薄膜酸化マグネシウム層
５ …結晶酸化マグネシウム層
６ …背面ガラス基板（背面基板）
７ …列電極保護層（誘電体層）
Ｃ …放電セル
Ｘ，Ｙ …行電極
Ｄ …列電極

Claims (8)

1. 放電空間を介して対向する前面基板および背面基板と、この前面基板と背面基板の間に設けられた複数の行電極対およびこの行電極対に対して交差する方向に延びて行電極対と交差する各部分の放電空間にそれぞれ単位発光領域を形成する複数の列電極とを備えたプラズマディスプレイパネルにおいて、
   前記放電空間内に、キセノン・ガスを１０体積パーセント以上含む放電ガスが封入され、
   前記単位発光領域に面する位置に、電子線によって励起されて波長域２００〜３００ｎｍ内にピークを有するカソード・ルミネッセンス発光を行う酸化マグネシウム結晶体を含む酸化マグネシウム層が設けられている、
   ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
2. 前記酸化マグネシウム結晶体が、気相酸化法によって生成された酸化マグネシウム単結晶体である請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
3. 前記酸化マグネシウム結晶体が、２３０〜２５０ｎｍ内にピークを有するカソード・ルミネッセンス発光を行う請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
4. 前記酸化マグネシウム結晶体が、２０００オングストローム以上の粒径を有する酸化マグネシウム結晶体を含んでいる請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
5. 前記酸化マグネシウム層が、蒸着またはスパッタリングによって形成される薄膜酸化マグネシウム層と酸化マグネシウム結晶体を含む結晶酸化マグネシウム層とが積層された構造を備えている請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
6. 前記結晶酸化マグネシウム層が、薄膜酸化マグネシウム層上に酸化マグネシウム結晶体の粉末が散布されることによって形成されている請求項５に記載のプラズマディスプレイパネル。
7. 前記前面基板側に、行電極対とこの行電極対を被覆する誘電体層が形成され、酸化マグネシウム層がこの誘電体層上に形成されている請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
8. 前記前面基板と背面基板の間に放電空間を単位発光領域毎に区画する隔壁が設けられ、背面基板側に列電極とこの列電極を被覆する誘電体層が形成され、各単位発光領域内に隔壁の側面と列電極を被覆する誘電体層を覆う蛍光体層が形成されている請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。