JP2006237463A - Mos型可変容量及びそれを用いた電圧制御型発振器 - Google Patents
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Abstract
【課題】発振周波数のばらつきが少なく、容量切り替え電圧の変化が小さいMOS型可変容量及びそれを用いた電圧制御型発振器を提供する。
【解決手段】帰還抵抗1と増幅器2と水晶振動子3で構成された発振回路の負荷容量として、ソース端子とドレイン端子を短絡したMOSトランジスタ5a、6aのソース−ドレイン端子とゲート端子の間に生じる可変静電容量を接続する。そして、MOSトランジスタ5a、6aのバルク端子を抵抗19の一方の端子と接続し、抵抗19の反対側端子に電圧印加し、かつ、MOSトランジスタ5a、6aのバルク端子を容量20の一方の端子と接続し、容量20の反対側端子を接地する。
【選択図】図3
【解決手段】帰還抵抗1と増幅器2と水晶振動子3で構成された発振回路の負荷容量として、ソース端子とドレイン端子を短絡したMOSトランジスタ5a、6aのソース−ドレイン端子とゲート端子の間に生じる可変静電容量を接続する。そして、MOSトランジスタ5a、6aのバルク端子を抵抗19の一方の端子と接続し、抵抗19の反対側端子に電圧印加し、かつ、MOSトランジスタ5a、6aのバルク端子を容量20の一方の端子と接続し、容量20の反対側端子を接地する。
【選択図】図3
Description
本発明は、MOS型可変容量に係り、その用途は電圧制御による温度補償型水晶発振器として用いる電圧制御型発振器に関する。
近年、携帯電話機等の移動体通信機器の急速な発展に伴い、これらの通信機器には、温度補償性能、小型化、使用周波数の高周波化など数々の機能追加が求められてきている。この為、このような通信機器において、通信周波数の基準として用いられている水晶発振器においても通信機器と同様に、温度補償性能、小型化、高周波化等の要求がある。
温度補償水晶発振器は、温度補償機能を具備し、温度変化による周波数の変化を小さくした水晶発振器であり、携帯電話等の基準周波数源として広く使用されている。そして電圧制御型発振器は、発振ループ内の負荷容量として電圧により容量値を変更することができる可変容量素子を設け、この可変容量素子の端子電圧を制御することにより、負荷容量値を変化させて周波数を制御することができるようにした発振器である。温度補償水晶発振器としては、電圧制御型発振器における可変容量の端子電圧を制御して水晶振動子(圧電振動子)の温度特性をキャンセルさせるようにしたものがある。
近年、温度補償水晶発振器は低位相ノイズ化、起動時間短縮化、温度補償の高精度化などに加えて、小型化への取り組みが進められている。水晶発振器の小型化を実現するためには水晶振動子の小型化が必須である。しかし、一般的に水晶振動子を小型化することにより可変容量の変化に対する周波数の変化の割合が小さくなる傾向がある。
そこで、負荷容量として使用される可変容量の制御電圧に対する容量の変化量を大きくする必要がある。例えば、特許文献1、2に示されているように、ソース端子とドレイン端子をショートしたMOSトランジスタのソース−ドレイン端子とゲート端子の間に生じる静電容量を用いることで制御電圧の変化に対して容量値の変化を大きくとることができ、水晶発振器の周波数変化の感度向上を図っている(図5参照)。
例えば、図6にこの電圧制御型発振器の一例を示すように、帰還抵抗1とインバータ2を備えた増幅器と、圧電振動子3と、圧電振動子3の両端子に、可変容量として第1及び第2のMOSトランジスタ5、6を接続したものが提案されている。この可変容量においては、第1及び第2のMOSトランジスタ5、6のソース−ドレイン端子が短絡され、このソース−ドレイン端子と、第1及び第2のMOSトランジスタ5、6のゲート端子間に生じる静電容量を、ゲート端子に接続される電圧源7で制御している。
特開2003−318417号公報
特開平11−220329号公報
図7はMOS型可変容量の構造を示す図である。P型半導体基板11の上に形成した薄いシリコン酸化膜12とN型ポリシリコンのゲート電極13とから構成され、半導体基板11に接続したバルク端子14を接地電位として、ゲート電極13に接続したゲート端子15を容量端子と制御端子とに兼ねて用いる2端子型可変素子である。MOS構造のフラットバンド電圧は記号「VFB」で示し、半導体基板11の表面に反転層が生じる時の閾値電圧は記号「VTH」で示してある。
ゲート電圧VgがVFBより低い場合は、図7(a)の模式構造図に示すように、半導体基板11の表面に正孔16が引き寄せられた蓄積状態にある。このときMOS容量は図7(a)の等価回路図に示すように、ゲート酸化膜容量Coxのみとなり最大である。
次に、ゲート電圧がVFBより高くなると、図7(b)の模式構造図に示すように、半導体基板11の表面には空乏層17が形成されるために、MOS容量は図7(b)の等価回路図に示すように、ゲート酸化膜容量Coxと空乏層容量Cdの直列容量となり、ゲート電圧Vgの増加とともに減少する。
そして、ゲート電圧がVTHに達すると、図7(c)の模式構造図に示すように、半導体基板11の表面には少数キャリアの電子が誘起されて反転層18が形成され、同時に、それ以上空乏層17は広がらなくなる。
MOS型可変容量ではMOSトランジスタのゲート電圧がソース端子電圧+閾値電圧となったときに、ゲート酸化膜直下にチャネルが形成され、ゲート端子とチャネルすなわちソース端子間の静電容量が増大する(この電圧を「容量切り替わり電圧」とする。)。このときにソース端子とバルク端子間容量は、チャネル−バルク間容量Cdjと空乏層容量Cdになり、ゲート端子を電圧印加されており交流接地と同じであり、接地された状態と見ることができる。したがって、ソース−接地端子間容量は、ゲート酸化膜容量Cox、チャネル−バルク間容量Cdj及び空乏層容量Cdとなり、このときMOS容量は最大となる。
上述した従来のMOS型可変容量の課題として、通常のCMOSプロセスではMOSトランジスタのチャネルの不純物濃度及びN型半導体領域の濃度のばらつきにより、ソース−接地端子間の静電容量が変化してしまうことがある。また、閾値電圧のばらつきにより、容量切り替え電圧の変化も大きくなる。例えば、図6の従来例を用いた電圧制御型発振器では、発振周波数のばらつきが大きい、容量切り替え電圧の変化が大きいものになり、特に容量切り替わり電圧を任意に決定できず、任意のゲート電圧を中心に周波数を制御することができないという問題点があった。
本発明は、上記事情に鑑みて成されたものであり、MOS型可変容量を用いた電圧制御型発振器において、通常のCMOSプロセスでのトランジスタのばらつきにより発振周波数のばらつきを少なくし、容量切り替わり電圧を任意に決定できるMOS型可変容量を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の第1の特徴は、MOSトランジスタの端子間に生ずる容量要素を利用したMOS型可変容量において、バルク端子に一端を接続し、他端を接地した抵抗を備え、ゲート端子に制御電圧を印加することにより、ソース−ドレイン端子とバルク端子の間の静電容量を可変するとともに、ソース−ドレイン端子とゲート端子の間の静電容量を可変するMOS型可変容量であることである。また、「抵抗」を「バルク端子に一端を接続し、他端を接地した容量」に置き換えることも可能である。
本発明の第1の特徴によれば、MOSトランジスタのチャネル−バルク間容量Cdj、空乏層Cdと「抵抗」又は「容量」とが直列接続されることになる。したがって、抵抗値Rあるいは容量値CをR、C>>チャネル−バルク間容量Cdj、空乏層Cdとすることで、チャネル−バルク間容量Cdj、空乏層Cdの変動によってソース端子−接地端子間のインピーダンスが受ける影響を少なくすることができる。すなわち、R、Cを大きくすることで、インピーダンスをR、Cとほぼ等しい値とすることができる。それにより、MOSトランジスタの製造ばらつきにより、チャネル−バルク間容量Cdj、空乏層Cdの値に変動が生じた場合であっても、インピーダンスが変動することがなくなり、容量変動の少ない可変容量を実現できる。
本発明の第2の特徴は、MOSトランジスタの端子間に生ずる容量要素を利用したMOS型可変容量において、バルク端子に一端を接続した抵抗と、その抵抗の他端に接続した可変電圧源と、バルク端子に一端を接続し、他端を接地した容量とを備え、ゲート端子に制御電圧を印加することにより、ソース−ドレイン端子とバルク端子の間の静電容量を可変するとともに、ソース−ドレイン端子とゲート端子の間の静電容量を可変するMOS型可変容量であることである。
本発明の第2の特徴によれば、本発明の第1の特徴と同様、ソース端子−接地端子間のインピーダンスの変動を抑えることができるとともに、さらに、可変電圧源により、MOSトランジスタのバルク電位を任意に決定することができ、それにより、任意のゲート電圧を中心に周波数を制御することが可能となる。すなわち、容量切り替わり電圧を任意に設定することが可能となる。
本発明の第3の特徴は、本発明の第1または第2の特徴のMOS型可変容量と、インバータ及び帰還抵抗から成る増幅器と、MOS型可変容量を両端子間に接続した圧電振動子とを備え、MOS型可変容量が、第1及び第2のMOSトランジスタから成り、第1及び第2のMOSトランジスタのソース−ドレイン端子が短絡されこのソース−ドレイン端子と、第1及び第2のMOSトランジスタのゲート端子との間に生じる静電容量で構成されるとともに、第1及び第2のMOSトランジスタのゲート端子に入力される制御信号により発振周波数を制御するようにした電圧制御型発振器であることである。
本発明の第3の特徴によれば、発振周波数のばらつきが少なく、容量切り替え電圧の変化の小さい電圧制御型発振器を実現できる。
本発明の第4の特徴は、本発明の第1または第2の特徴のMOS型可変容量と、インバータ及び帰還抵抗から成る増幅器と、MOS型可変容量と第1及び第2のDCカット容量とから成る可変容量手段を、両端子間に接続した圧電振動子とを備え、MOS型可変容量が、MOSトランジスタから成り、MOSトランジスタのソース−ドレイン端子が短絡されこのソース−ドレイン端子と、MOSトランジスタのゲート端子との間に生じる静電容量で構成されるとともに、ソース−ドレイン端子及びゲート端子のそれぞれに逆の位相の発振電圧が印加され、ゲート端子に入力される制御信号により発振周波数を制御するようにした電圧制御型発振器であることである。
本発明の第4の特徴によれば、素子数を低減し、小型化が可能な電圧制御型発振器を実現することができる。
本発明によれば、製造ばらつきによる容量変動を抑えることができるMOS型可変容量を提供することができる。
また、本発明によれば、発振周波数のばらつきを少なくし、容量切り替わり電圧を任意に決定することができる電圧制御型発振器を提供することができる。
以下図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。以下の図面の記載において、同一の部分には同一の符号を付している。
(第1の実施の形態)
本発明の第1の実施の形態は、本発明の電圧制御型発振器に利用されるMOS型可変容量の構造に係る実施の形態である。
本発明の第1の実施の形態は、本発明の電圧制御型発振器に利用されるMOS型可変容量の構造に係る実施の形態である。
図1は本発明の第1の実施の形態に係るMOS型可変容量の模式図及びその等価回路図であり、図1(a)はMOSトランジスタのバルク端子に抵抗の一端を接続し、その抵抗の他端を接地した第1の構造、図1(b)はMOSトランジスタのバルク端子に容量の一端を接続し、その容量の他端を接地した第2の構造、図1(c)はMOSトランジスタのバルク端子に抵抗及び容量のそれぞれの一端を接続し、その抵抗の他端にバイアスを印加し、かつ、その容量の他端を接地した第3の構造である。
まず、図1(a)に示すように、第1のMOS型可変容量の構造では、チャネル−バルク間容量Cdj及び空乏層Cdと抵抗19とが直列接続されている。このため、ソース端子−接地端子間のインピーダンスは以下の式で表される。
1/(1/(Cd+Cdj)+R)
この式からわかるように、抵抗19の抵抗値Rを適切な値とすれば、ソース端子−接地端子間のインピーダンスをほぼRに等しい値にすることができる。従って、チャネル−バルク間容量Cdj及び空乏層Cdのそれぞれの値の影響を少なくすることができる。すなわち、トランジスタのばらつきによるMOS型可変容量の容量値のばらつきを抑えることができるようになる。
この式からわかるように、抵抗19の抵抗値Rを適切な値とすれば、ソース端子−接地端子間のインピーダンスをほぼRに等しい値にすることができる。従って、チャネル−バルク間容量Cdj及び空乏層Cdのそれぞれの値の影響を少なくすることができる。すなわち、トランジスタのばらつきによるMOS型可変容量の容量値のばらつきを抑えることができるようになる。
同様に、図1(b)に示す第2の構造では、容量20の接続により、ソース端子−接地端子間のインピーダンスは、
1/(1/(Cd+Cdj)+1/C)
となる。
1/(1/(Cd+Cdj)+1/C)
となる。
この式でも同様に、容量20の容量値Cの設定によって、ソース端子−接地端子間のインピーダンスをほぼCに等しい値にでき、トランジスタのばらつきによるMOS型可変容量の容量値のばらつきを抑えることができる。
一方、図1(c)に示す第3の構造では、上記の図1(a)の第1の構造及び図1(b)の第2の構造と同様の効果に加えて、抵抗19の他端に印加するバイアス21の電位を任意に決定することで、任意のゲート電圧を中心に周波数を制御することが可能である。
図2に、本実施の形態に係るMOSトランジスタの端子間に生じる静電容量のC−V特性を実線で、従来のMOSトランジスタの端子間を使用した特性を破線で、それぞれ示す。この図より、本発明においてはゲート端子とソース−ドレイン端子間の静電容量のばらつきは少なくすることができ、かつ、バルク端子に電圧印加することにより、容量切り替わり電圧を任意に制御でき、発振回路の設計を容易にすることができる。
(第2の実施の形態)
図3は本発明の第2の実施の形態に係る電圧制御型発振器の概略構成を示す回路図である。本実施の形態に係る電圧制御型発振器は、MOS型可変容量として、本発明の第1の実施形態のMOS型可変容量を用いたものであり、ここでは、図1(c)に示した第3の構造を採用する。
図3は本発明の第2の実施の形態に係る電圧制御型発振器の概略構成を示す回路図である。本実施の形態に係る電圧制御型発振器は、MOS型可変容量として、本発明の第1の実施形態のMOS型可変容量を用いたものであり、ここでは、図1(c)に示した第3の構造を採用する。
図3に示すように、本実施の形態に係る電圧制御型発振器でも、図6に示した従来の電圧制御型発振器と同様、第1及び第2のMOSトランジスタ5a、6aのソース端子とドレイン端子を短絡する。そして、この第1及び第2のMOSトランジスタ5a、6aのソース、ドレイン端子とそれぞれのゲート端子間での静電容量を使用した可変容量素子を用いる。すなわち、この電圧制御型発振器は、帰還回路を構成する帰還抵抗1とインバータ2とからなる増幅器と、水晶振動子3と、負荷容量とから構成された発振回路である。そして、その負荷容量として、上記の可変容量素子を用いる。第1及び第2のトランジスタ5a、6aのバルク端子には、それぞれ、容量、抵抗及びバイアス印加電圧源から成る素子22が接続される。第1及び第2のMOSトランジスタ5a、6aのそれぞれのソース−ドレイン端子とゲート端子間に生じる静電容量をゲート端子に接続される電圧源7で制御する。
本実施の形態によれば、負荷容量として機能する第1及び第2のMOSトランジスタ5a、6aが、それぞれのバルク端子に抵抗及び容量のそれぞれの一端を接続し、その抵抗の他端にバイアスを印加し、かつ、その容量の他端を接地した構造を有するので、各トランジスタ5a、6aのソース端子−接地端子間のインピーダンスが安定し、トランジスタのばらつきによる負荷容量の容量値のばらつきが抑えられる。
さらに、本実施の形態によれば、各トランジスタ5a、6aのバルク端子にバイアス電圧を印加することで、容量切り替わり電圧を制御することが可能となる。
(第3の実施の形態)
図4は本発明の第3の実施の形態に係る電圧制御型発振器の概略構成を示す回路図である。本実施の形態に係る電圧制御型発振器は、帰還回路を構成する帰還抵抗1とインバータ2とからなる増幅器と、水晶振動子3と、負荷容量とから構成された発振回路である。そして、負荷容量として、第1のDCカット容量8と、図3(c)に示した第3の構造を有するMOSトランジスタ6bから成る可変容量と、第2のDCカット容量9を採用する。
図4は本発明の第3の実施の形態に係る電圧制御型発振器の概略構成を示す回路図である。本実施の形態に係る電圧制御型発振器は、帰還回路を構成する帰還抵抗1とインバータ2とからなる増幅器と、水晶振動子3と、負荷容量とから構成された発振回路である。そして、負荷容量として、第1のDCカット容量8と、図3(c)に示した第3の構造を有するMOSトランジスタ6bから成る可変容量と、第2のDCカット容量9を採用する。
この構成によれば、MOSトランジスタ6bのゲート端子とソース−ドレイン端子との位相は180°ずれているため、ミラー効果によりMOS可変容量の容量値はおよそ2倍の容量値と等価になる。
本発明の第2の実施の形態の構成の電圧制御型発振器より周波数可変範囲は減少するが圧電振動子から見た負荷容量が減少する為に、発振回路の負性抵抗が低下し、電圧制御型発振回路としての起動時間改善が可能となる。
すなわち、本実施の形態では、MOSトランジスタを可変容量として構成しているので、制御電圧に対して周波数変化を100ppm以上変化させることができ、温度補償及び外部電圧周波数制御を行うのに十分な周波数変化幅を確保することが可能となり、素子数の増大も不要であるために、小型化が可能であり、小型水晶振動子に対応できる。
本発明に係る電圧制御型発振器は、可変容量としてソース端子とドレイン端子をショートしたMOSトランジスタのソース−ドレイン端子とゲート端子の間に生じる静電容量を用いて発振周波数を制御することができることから、電圧制御による温度補償型水晶発振器等として有用である。
1 帰還抵抗
2 インバータ
3 水晶振動子
4、10、19 抵抗
5、5a 第1のMOS型可変容量
6、6a、6b 第2のMOS型可変容量
7 電圧源
8 第1のDCカット容量
9 第2のDCカット容量
11 P型半導体基板
12 シリコン酸化膜
13 ゲート電極
14 バルク端子
15 ゲート端子
16 正孔
17 空乏層
18 反転層
20 容量
21 バイアス印加電圧源
22 素子
2 インバータ
3 水晶振動子
4、10、19 抵抗
5、5a 第1のMOS型可変容量
6、6a、6b 第2のMOS型可変容量
7 電圧源
8 第1のDCカット容量
9 第2のDCカット容量
11 P型半導体基板
12 シリコン酸化膜
13 ゲート電極
14 バルク端子
15 ゲート端子
16 正孔
17 空乏層
18 反転層
20 容量
21 バイアス印加電圧源
22 素子
Claims (5)
- MOSトランジスタの端子間に生ずる容量要素を利用したMOS型可変容量において、
バルク端子に一端を接続し、他端を接地した抵抗を備え、
ゲート端子に制御電圧を印加することにより、ソース−ドレイン端子と前記バルク端子の間の静電容量を可変するとともに、前記ソース−ドレイン端子と前記ゲート端子の間の静電容量を可変することを特徴とするMOS型可変容量。 - MOSトランジスタの端子間に生ずる容量要素を利用したMOS型可変容量において、
バルク端子に一端を接続し、他端を接地した容量を備え、
ゲート端子に制御電圧を印加することにより、ソース−ドレイン端子と前記バルク端子の間の静電容量を可変するとともに、前記ソース−ドレイン端子と前記ゲート端子の間の静電容量を可変することを特徴とするMOS型可変容量。 - MOSトランジスタの端子間に生ずる容量要素を利用したMOS型可変容量において、
バルク端子に一端を接続した抵抗と、
前記抵抗の他端に接続した可変電圧源と、
前記バルク端子に一端を接続し、他端を接地した容量とを備え、
ゲート端子に制御電圧を印加することにより、ソース−ドレイン端子と前記バルク端子の間の静電容量を可変するとともに、前記ソース−ドレイン端子と前記ゲート端子の間の静電容量を可変することを特徴とするMOS型可変容量。 - 請求請1乃至3に記載のMOS型可変容量と、
インバータ及び帰還抵抗から成る増幅器と、
前記MOS型可変容量を両端子間に接続した圧電振動子とを備え、
前記MOS型可変容量が、第1及び第2のMOSトランジスタから成り、前記第1及び第2のMOSトランジスタのソース−ドレイン端子が短絡されこのソース−ドレイン端子と、前記第1及び第2のMOSトランジスタのゲート端子との間に生じる静電容量で構成されるとともに、
前記第1及び第2のMOSトランジスタのゲート端子に入力される制御信号により発振周波数を制御するようにしたことを特徴とする電圧制御型発振器。 - 請求請1乃至3に記載のMOS型可変容量と、
インバータ及び帰還抵抗から成る増幅器と、
前記MOS型可変容量と第1及び第2のDCカット容量とから成る可変容量手段を、両端子間に接続した圧電振動子とを備え、
前記MOS型可変容量が、MOSトランジスタから成り、前記MOSトランジスタのソース−ドレイン端子が短絡されこのソース−ドレイン端子と、前記MOSトランジスタのゲート端子との間に生じる静電容量で構成されるとともに、
前記ソース−ドレイン端子及びゲート端子のそれぞれに逆の位相の発振電圧が印加され、前記ゲート端子に入力される制御信号により発振周波数を制御するようにしたことを特徴とする電圧制御型発振器。
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