JP2006231589A - 防汚フィルム及びこれを用いたディスプレイ - Google Patents
防汚フィルム及びこれを用いたディスプレイ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006231589A JP2006231589A JP2005046645A JP2005046645A JP2006231589A JP 2006231589 A JP2006231589 A JP 2006231589A JP 2005046645 A JP2005046645 A JP 2005046645A JP 2005046645 A JP2005046645 A JP 2005046645A JP 2006231589 A JP2006231589 A JP 2006231589A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- antifouling
- film
- antifouling film
- film according
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
【課題】従来品よりも安価で、製造効率が優れ、光学膜厚以下の防汚コーティング層を有する防汚フィルムを提供すること。
【解決手段】高分子基材の少なくとも片面に、付加重合性官能基を有するシリコーン系化合物の薄膜を、真空成膜法で成膜し、放射線又は加熱して、重合硬化させて防汚層を形成する。安価かつ製造効率に優れた薄膜の防汚層が得られる。
【選択図】なし
【解決手段】高分子基材の少なくとも片面に、付加重合性官能基を有するシリコーン系化合物の薄膜を、真空成膜法で成膜し、放射線又は加熱して、重合硬化させて防汚層を形成する。安価かつ製造効率に優れた薄膜の防汚層が得られる。
【選択図】なし
Description
本発明は、各種被処理基材の表面に適用してその汚染を防止する防汚フィルムに関する。特に、光学部材(反射防止膜、光学フィルター、光学レンズ、液晶ディスプレイ、CRTディスプレイ、プロジェクションテレビ、プラズマディスプレイ、ELディスプレイ等)の表面に好適な防汚フィルムに関する。また、壁紙や看板等に適用して、その汚れを防止することも可能である。
反射防止膜、光学フィルター、光学レンズ、液晶ディスプレイ、CRTディスプレイ、プロジェクションテレビ、プラズマディスプレイ、ELディスプレイ等の光学部材には、人が使用することによって、指紋、皮脂、汗、化粧品等の油性の汚れが付着する場合が多い。そのような汚れは、一度付着すると除去することは容易ではなく、特に、反射防止膜付き光学部材では、付着した汚れが反射防止性能を劣化させて汚れが目立つために問題が大きい。
そこで、これら汚れの問題を解決する手段として、汚れが付着しにくく、付着しても拭き取りやすい性能を持つ防汚層を光学部材の表面に形成する技術が種々提案されている。
例えば、特許文献1には、基材の表面に、主として二酸化ケイ素からなる反射防止膜を設け、更にその表面に有機ケイ素置換基を含む化合物で処理した防汚性、耐擦傷性の反射防止物品が提案されている。特許文献2には、同様に基材表面に末端シラノール有機ポリシロキサンを被覆した防汚性、耐擦傷性のCRTフィルターが提案されている。また、特許文献3には、プラスチック表面にポリフルオロアルキル基を含むモノ及びジシラン化合物及び、ハロゲン、アルキルまたはアルコキシのシラン化合物とからなる反射防止膜を有する防汚性・低反射性プラスチックが提案されている。更に、特許文献4には、パーフルオロアルキル(メタ)アクリレートとアルコキシシラン基を有する単量体との共重合体を二酸化ケイ素を主とする光学薄膜上に形成した光学部材が提案されている。
特開昭64−86101号公報
特開平4−338901号公報
特公平6−29332号公報
特開平7−16940号公報
本発明では従来品よりも安価で、製造効率が優れ、光学膜厚以下の防汚コーティング層を有する防汚フィルムを提供することを目的とする。
すなわち、請求項1に係る発明は、高分子基材の少なくとも片面に、真空成膜法により設けられたシリコーン系防汚層を備えることを特徴とする防汚フィルムである。
また、請求項2に係る発明は、前記シリコーン系防汚層が、付加重合性官能基を有するシリコーン系化合物を硬化させた化合物であることを特徴とする請求項1に記載の防汚フィルムである。
また、請求項3に係る発明は、前記付加重合性官能基がビニル基、アクリル基、メタクリル基のいずれかを含むことを特徴とする請求項2に記載の防汚フィルムである。
また、請求項4に係る発明は、前記硬化方法が、熱板、ロール、またはランプによる加熱をエネルギー源とする付加重合反応であることを特徴とする請求項2または3に記載の防汚フィルムである。
さらに、請求項5に係る発明は、前記硬化方法が、放射線照射をエネルギー源とする付加重合反応であることを特徴とする請求項2または3に記載の防汚フィルムである。
また、請求項6に係る発明は、前記放射線が紫外線または電子線であることを特徴とする請求項5に記載の防汚フィルムである。
また、請求項7に係る発明は、表示画面の観察者側表面に、請求項1〜6のいずれかに記載の防汚フィルムを用いたことを特徴とするディスプレイである。
本発明によれば、無溶媒で防汚層の成膜が可能であり、かつ高速化が図れるため、製造コストが安く、しかも、製造時の環境付加もの小さい。また、防汚層の膜厚が小さいため、高分子基材として光学反射防止層を有するフィルムを使用して、その反射防止性能を損なうことなく、汚染を防止できる。
本発明に係る高分子基材は、防汚層の支持体となるもので、透明なフィルム状またはシート状のものが好ましい。厚みとしては、例えば、9〜200μmである。
高分子基材としては、ポリオレフィン、塩化ビニルなどの各種ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンー2−6−ナフタレンテレフタレート又はポチブツレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、セルロース、トリアセチルセルロース、アクリル樹脂、ポリエーテルスルホン、ポリ乳酸、ポリカーボネート、ポリビニルアルコールなどが例示できる。とりわけポリエチレンテレフタレート、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレンなどは経済的な面で極めて好適である。
壁紙や家具の天板等に適用する場合には、高分子基材として、ポリエチレンテレフタレート、塩化ビニル、ポリオレフィン、ナイロンなどがコスト的に用いやすくまた質感においても優れる。
また、屋外で用いる看板や標識などに適用する場合には、耐候性に優れるアクリル樹脂が適している。
また、ディスプレイの表示画面の観察者側表面に用いる場合には、トリアセチルセルロース、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチルなど高い透明性を有する基材を用いることが望ましい。
なお、各種用途に応じて、高分子基材として、下引き層、ハードコート層、反射防止層などを設けた積層体を用いても構わない。
本発明に係る防汚層は、シリコーン系化合物を加熱蒸発させ、高分子基材上に凝結させて成膜すると共に、その被膜を重合硬化させることで形成できる。係る真空成膜法によって成膜するため、可視光の波長の1/10程度の厚みの薄膜を形成することができる。例えば、0.05μmあるいはこれ以下の厚みである。そして、このため、例えば、反射防止膜の上に形成して、その光学特性を損なうことなく、汚染を防止することが可能となる
。
。
シリコーン系化合物としては、付加重合性官能基を有するものが望ましい。付加重合のほかに縮重合などでも効果は見られるが、一般に付加重合は他の重合に比べて重合前後での体積変化、特に収縮が小さく、塗工時や使用時の各種の悪影響が小さいからである。また、一般的にラジカルなどで開始される付加重合に比べて縮重合では反応速度が小さい傾向にある。よって、縮重合では硬化に時間がかかり、ウェブ中の他のロールを汚染したり、基材の裏面に移行したりする恐れがあるが、付加重合ではそのような懸念が小さい。
付加重合性官能基としては、ラジカル、カチオン、アニオンなどの反応開始種に対し反応性を示すものが使用できる。例えば、ビニル基、アクリル基、メタクリル基などである。アクリル基またはメタクリル基を持つ化合物は取り扱いも簡便で、また重合性に優れている上、膜の硬度なども充分であることが多い。特に作成中の皮膚刺激性を抑制したい、あるいは硬い被膜を得たい時にはメタクリル基を持つ化合物を用いることが好ましい。一方、柔らかい被膜を得たい、あるいは低エネルギー量で効率よく重合させたい際にはアクリル基を持つ化合物を用いることが望ましい。
アクリル基を有する化合物としては、例えば、化1に示す構造を有する化合物が使用できる。また、化2は、メタクリル基を有する化合物の例である。また、ビニル基を有する化合物の例を化3に示す。なお、式中、Acはアクリル基、MAcはメタクリル基、Vyはビニル基を、それぞれ、示す。
次に、成膜されたシリコーン化合物を重合硬化させる方法としては、これを加熱して重合硬化させる方法、放射線を照射して重合硬化させる方法がある。好ましくは、放射線による硬化である。
加熱によって硬化させる場合には、40〜100℃の熱板、熱ロールまたはランプで加熱することで重合反応がおき、硬化させることができるが、この場合には、一般に、アゾビスイソブチロニトリルやベンゾイルパーオキサイドに代表される熱ラジカル開始剤を必要とする。これら熱ラジカル開始剤は、熱樽中で分解、失活してしまう場合があるだけではなく、樽中で重合反応が起きることもある。
他方、放射線照射によって硬化する場合には、前述のような開始剤を必要としない。放射線としては、紫外線または電子線が利用できる。この場合、発生する重合熱はあるものの、一般的な加熱方式よりも遥かに低温で重合反応が進行する。電子線を用いた場合、多くの付加重合反応が容易に進行するが、基材が大きく帯電する、基材への付加が大きいなどの問題がある。一方、紫外線を用いる場合には、開始剤が必要であり、成膜後の残留開
始剤ブリードが懸念されるものの、帯電の問題は大きく解消される。放射線を用いることによる低温域での反応実現には、さらに副次的に利点がある。重合反応を低温で進行させることは、ラジカル重合などにおける素反応の一つである連鎖移動反応の起こる割合を低減させ、すなわち分子量分布は全体的に高い方へシフトする。すなわち低分子量成分が減少し、これはブリーディングの防止に寄与し、また機械的強度も発現する。
始剤ブリードが懸念されるものの、帯電の問題は大きく解消される。放射線を用いることによる低温域での反応実現には、さらに副次的に利点がある。重合反応を低温で進行させることは、ラジカル重合などにおける素反応の一つである連鎖移動反応の起こる割合を低減させ、すなわち分子量分布は全体的に高い方へシフトする。すなわち低分子量成分が減少し、これはブリーディングの防止に寄与し、また機械的強度も発現する。
また、放射線によって硬化させる方法では、一般に無溶媒で成膜が可能であり、かつ高速化が図れるため、製造コストが安く、且つ環境付加の小さい防汚フィルムを得る事ができる。
実際の防汚フィルムとしての使用については、これまでの一般的な防汚フィルムと同様に取り扱うことができる。
実施例1:
厚み38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムに、化1で表わされる化合物を真空成膜にて塗工し、即座に20Mradの電子線にて硬化処理を行った。膜厚は約0.05μmであった。
厚み38μmのポリエチレンテレフタレートフィルムに、化1で表わされる化合物を真空成膜にて塗工し、即座に20Mradの電子線にて硬化処理を行った。膜厚は約0.05μmであった。
実施例2:
市販のベンゾフェノン系UV開始剤を1%添加し、電子線の代わりに120kWのメタルハライドランプ紫外線にて硬化処理を行ったこと以外は実施例1と同様に防汚フィルムを作成した。
市販のベンゾフェノン系UV開始剤を1%添加し、電子線の代わりに120kWのメタルハライドランプ紫外線にて硬化処理を行ったこと以外は実施例1と同様に防汚フィルムを作成した。
実施例3:
2,2'−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を添加(微粉末分散)し、電子線の代わりに熱ロールを用いて硬化させたこと以外は実施例1と同様に防汚フィルムを作成した。
2,2'−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を添加(微粉末分散)し、電子線の代わりに熱ロールを用いて硬化させたこと以外は実施例1と同様に防汚フィルムを作成した。
実施例4:
化合物1の代わりに化2で表わされる化合物を用いたこと以外は実施例1と同様に防汚フィルムを作成した。
化合物1の代わりに化2で表わされる化合物を用いたこと以外は実施例1と同様に防汚フィルムを作成した。
実施例5:
化合物1の代わりに化3で表わされる化合物を用いたこと以外は実施例1と同様に防汚フィルムを作成した。
化合物1の代わりに化3で表わされる化合物を用いたこと以外は実施例1と同様に防汚フィルムを作成した。
実施例6:
基材を厚み100μmのトリアセチルセルロースとし、さらに反射防止層を設けたものを用いた以外は実施例1と同様に防汚フィルムを作成した。
基材を厚み100μmのトリアセチルセルロースとし、さらに反射防止層を設けたものを用いた以外は実施例1と同様に防汚フィルムを作成した。
実施例7:
一般の撥水コート用シリコーン樹脂をグラビアコーティングにより塗工したこと以外は原則的に実施例1と同様に防汚フィルムを作成した。但し膜厚は約0.2μであった。
一般の撥水コート用シリコーン樹脂をグラビアコーティングにより塗工したこと以外は原則的に実施例1と同様に防汚フィルムを作成した。但し膜厚は約0.2μであった。
実施例8:
一般の防汚フィルム用シリコーン樹脂をグラビアコーティングにより塗工したこと以外は原則的に実施例6と同様に防汚フィルムを作成した。但し膜厚は約0.2μであった。
一般の防汚フィルム用シリコーン樹脂をグラビアコーティングにより塗工したこと以外は原則的に実施例6と同様に防汚フィルムを作成した。但し膜厚は約0.2μであった。
実施例9:
実施例1で基材として用いたポリエチレンテレフタレートフィルムを、そのまま、比較対照例とした。
実施例1で基材として用いたポリエチレンテレフタレートフィルムを、そのまま、比較対照例とした。
<評価>
接触角測定:超純水との接触角を、共和界面科学(株)製接触角計を使用して、測定した。
油性ペン筆記性:ゼブラ(株)製マッキー(黒)で筆記し、インクをはじくか否かを観察して評価した。
指紋拭き取り性:鼻の脂を含んだ指紋を付け、キムワイプにて拭き取りを行ない、指紋の拭き取りに要した回数を測定した。
初期タック:成膜直後のタックを評価した。
反射防止性:実施例6及び実施例8のみ実施。蛍光灯の映り込みを肉眼観察で評価した。結果を表1に示す。
接触角測定:超純水との接触角を、共和界面科学(株)製接触角計を使用して、測定した。
油性ペン筆記性:ゼブラ(株)製マッキー(黒)で筆記し、インクをはじくか否かを観察して評価した。
指紋拭き取り性:鼻の脂を含んだ指紋を付け、キムワイプにて拭き取りを行ない、指紋の拭き取りに要した回数を測定した。
初期タック:成膜直後のタックを評価した。
反射防止性:実施例6及び実施例8のみ実施。蛍光灯の映り込みを肉眼観察で評価した。結果を表1に示す。
Claims (7)
- 高分子基材の少なくとも片面に、真空成膜法により設けられたシリコーン系防汚層を備えることを特徴とする防汚フィルム。
- 前記シリコーン系防汚層が、付加重合性官能基を有するシリコーン系化合物を硬化させた化合物であることを特徴とする請求項1に記載の防汚フィルム。
- 前記付加重合性官能基がビニル基、アクリル基、メタクリル基のいずれかをであることを特徴とする請求項2に記載の防汚フィルム。
- 前記硬化方法が、熱板、ロール、またはランプによる加熱をエネルギー源とする付加重合反応であることを特徴とする請求項2または3に記載の防汚フィルム。
- 前記硬化方法が、放射線照射をエネルギー源とする付加重合反応であることを特徴とする請求項2または3に記載の防汚フィルム。
- 前記放射線が紫外線または電子線であることを特徴とする請求項5に記載の防汚フィルム。
- 表示画面の観察者側表面に、請求項1〜6のいずれかに記載の防汚フィルムを用いたことを特徴とするディスプレイ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005046645A JP2006231589A (ja) | 2005-02-23 | 2005-02-23 | 防汚フィルム及びこれを用いたディスプレイ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005046645A JP2006231589A (ja) | 2005-02-23 | 2005-02-23 | 防汚フィルム及びこれを用いたディスプレイ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006231589A true JP2006231589A (ja) | 2006-09-07 |
Family
ID=37039778
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005046645A Pending JP2006231589A (ja) | 2005-02-23 | 2005-02-23 | 防汚フィルム及びこれを用いたディスプレイ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006231589A (ja) |
-
2005
- 2005-02-23 JP JP2005046645A patent/JP2006231589A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101725585B1 (ko) | 반사 방지 필름의 제조 방법, 반사 방지 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 | |
TWI541301B (zh) | 含氟高分支聚合物之包覆用硬化性組成物 | |
JP6135131B2 (ja) | 成形材料、塗料組成物および成形材料の製造方法 | |
JP6164824B2 (ja) | 光学用部材及びその製造方法 | |
TW201411177A (zh) | 抗反射硬性塗層及抗反射物件 | |
JP6702022B2 (ja) | タッチパネル、多層フィルム、及び多層フィルムの製造方法 | |
JP4860952B2 (ja) | 表面保護層用塗布組成物及びそれを用いてなる反射防止膜 | |
CN103842401A (zh) | 组合物及由其形成的膜 | |
JP7299631B2 (ja) | 反射防止フィルムおよびその製造方法 | |
WO2005040245A1 (ja) | 感光性樹脂組成物及びその硬化皮膜を有するフィルム | |
JP2016049748A (ja) | インサート成形用防眩性フィルム及びこれを用いた樹脂成形品 | |
TWI565767B (zh) | 成形材料、塗料組成物及成形材料的製造方法 | |
JP6721822B2 (ja) | 親水性被膜、親水性被膜形成物品、親水性被膜形成用塗布液及び親水性被膜形成物品の製造方法 | |
JP2016049699A (ja) | 防汚性構造体、これを有する積層体及び画像表示装置 | |
JP6518374B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、積層体、及びその製造方法、並びに物品 | |
JP2006231589A (ja) | 防汚フィルム及びこれを用いたディスプレイ | |
JP6586363B2 (ja) | 膜形成用組成物、ハードコートフィルム、偏光板、及び親水化ハードコートフィルムの製造方法 | |
JP2006028281A (ja) | 防汚フィルム及び防汚フィルム適用部材 | |
JP2006039007A (ja) | 反射防止部材 | |
JP7480532B2 (ja) | フィルム及び積層体 | |
JP6873255B2 (ja) | フィルムの製造方法 | |
WO2024090540A1 (ja) | 反射防止フィルム | |
JP6221520B2 (ja) | 成型材料 | |
JP2006150716A (ja) | 耐擦性を有する防汚フィルム | |
JP2019217735A (ja) | 透明基材に親水性層と反射防止層とが設けられた多層構造体 |