JP2006216866A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2006216866A5
JP2006216866A5 JP2005029832A JP2005029832A JP2006216866A5 JP 2006216866 A5 JP2006216866 A5 JP 2006216866A5 JP 2005029832 A JP2005029832 A JP 2005029832A JP 2005029832 A JP2005029832 A JP 2005029832A JP 2006216866 A5 JP2006216866 A5 JP 2006216866A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exhaust
positioning device
unit
stator
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005029832A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP4614386B2 (ja
JP2006216866A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2005029832A priority Critical patent/JP4614386B2/ja
Priority claimed from JP2005029832A external-priority patent/JP4614386B2/ja
Priority to US11/347,037 priority patent/US7298457B2/en
Publication of JP2006216866A publication Critical patent/JP2006216866A/ja
Priority to US11/925,026 priority patent/US7460213B2/en
Publication of JP2006216866A5 publication Critical patent/JP2006216866A5/ja
Priority to US12/268,794 priority patent/US20090066928A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4614386B2 publication Critical patent/JP4614386B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2005029832A 2005-02-04 2005-02-04 位置決め装置、露光装置およびそれを用いたデバイス製造方法 Expired - Fee Related JP4614386B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005029832A JP4614386B2 (ja) 2005-02-04 2005-02-04 位置決め装置、露光装置およびそれを用いたデバイス製造方法
US11/347,037 US7298457B2 (en) 2005-02-04 2006-02-03 Alignment apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method using exposure apparatus
US11/925,026 US7460213B2 (en) 2005-02-04 2007-10-26 Alignment apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method using exposure apparatus
US12/268,794 US20090066928A1 (en) 2005-02-04 2008-11-11 Alignment apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method using exposure apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005029832A JP4614386B2 (ja) 2005-02-04 2005-02-04 位置決め装置、露光装置およびそれを用いたデバイス製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2006216866A JP2006216866A (ja) 2006-08-17
JP2006216866A5 true JP2006216866A5 (enExample) 2008-01-17
JP4614386B2 JP4614386B2 (ja) 2011-01-19

Family

ID=36779573

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005029832A Expired - Fee Related JP4614386B2 (ja) 2005-02-04 2005-02-04 位置決め装置、露光装置およびそれを用いたデバイス製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (3) US7298457B2 (enExample)
JP (1) JP4614386B2 (enExample)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4614386B2 (ja) * 2005-02-04 2011-01-19 キヤノン株式会社 位置決め装置、露光装置およびそれを用いたデバイス製造方法
US20120043300A1 (en) * 2010-08-22 2012-02-23 Nauganeedles Llc NanoNeedles Pulling System
JP5836005B2 (ja) 2011-08-15 2015-12-24 キヤノン株式会社 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP6278833B2 (ja) * 2014-05-21 2018-02-14 キヤノン株式会社 リソグラフィ装置、および物品の製造方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2724787B2 (ja) * 1992-10-09 1998-03-09 キヤノン株式会社 位置決め装置
JP3689949B2 (ja) * 1995-12-19 2005-08-31 株式会社ニコン 投影露光装置、及び該投影露光装置を用いたパターン形成方法
US5959732A (en) * 1996-04-10 1999-09-28 Nikon Corporation Stage apparatus and a stage control method
US6714278B2 (en) * 1996-11-25 2004-03-30 Nikon Corporation Exposure apparatus
JPH10209040A (ja) * 1996-11-25 1998-08-07 Nikon Corp 露光装置
JP3013837B2 (ja) * 1998-04-27 2000-02-28 日本電気株式会社 ステージ位置計測装置およびその計測方法
JPH11315883A (ja) * 1998-04-30 1999-11-16 Canon Inc 除振装置、露光装置およびデバイス製造方法
AU1179200A (en) * 1998-11-18 2000-06-05 Nikon Corporation Exposure method and device
JP4474020B2 (ja) 2000-06-23 2010-06-02 キヤノン株式会社 移動装置及び露光装置
AUPQ879200A0 (en) 2000-07-14 2000-08-10 Thomas & Betts International, Inc. A lamp assembly
JP2003124101A (ja) * 2001-10-17 2003-04-25 Canon Inc 露光装置
JP4227452B2 (ja) * 2002-12-27 2009-02-18 キヤノン株式会社 位置決め装置、及びその位置決め装置を利用した露光装置
EP1510867A1 (en) * 2003-08-29 2005-03-02 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2005150533A (ja) * 2003-11-18 2005-06-09 Canon Inc 露光装置
JP2004328014A (ja) * 2004-08-10 2004-11-18 Nikon Corp 投影露光装置、及び該投影露光装置を用いたパターン形成方法
JP4614386B2 (ja) * 2005-02-04 2011-01-19 キヤノン株式会社 位置決め装置、露光装置およびそれを用いたデバイス製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5818032B2 (ja) 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
US11169448B2 (en) Movable body apparatus, exposure apparatus, manufacturing method of flat panel display, device manufacturing method, and movable body drive method
KR100885970B1 (ko) 리소그래피 장치, 리소그래피 시스템 및 디바이스 제조 방법
JP5428701B2 (ja) 移動体装置及び移動体駆動方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP4922089B2 (ja) 平面モータ駆動のサポートを有するリソグラフィ装置
JP4157511B2 (ja) リソグラフィ機器及びデバイスの製造方法
JP2013239721A (ja) 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
CN102799072B (zh) 多平台系统、用于多平台系统的控制方法以及光刻设备
WO2009098891A1 (ja) 位置計測システム及び位置計測方法、移動体装置、移動体駆動方法、露光装置及び露光方法、パターン形成装置、並びにデバイス製造方法
US7982417B2 (en) Stage unit, exposure apparatus, and device manufacturing method
TW201241580A (en) Lithographic apparatus and stage system
KR20120085751A (ko) 조명 광학 장치, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
JP2006216866A5 (enExample)
TWI248645B (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2005277030A5 (enExample)
US20160336101A1 (en) Armature coil for electromagnetic actuator, electromagnetic actuator, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2006246570A5 (enExample)
JP2005086031A5 (enExample)
JP2014003211A (ja) 移動体装置及び移動体駆動方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2004040874A (ja) リニアモータ及びステージ装置並びに露光装置
WO2007077926A1 (ja) パターン形成方法及びパターン形成装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JP2004048919A (ja) リニアモータ及びステージ装置並びに露光装置
JP2010200452A (ja) モータ装置及びステージ装置並びに露光装置
JP2005109331A5 (enExample)
JP2008140794A5 (enExample)