JP2006206342A - 内表面が半結晶化した石英ガラスルツボとその製造方法および用途 - Google Patents
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Abstract
【手段】 回転モールド法による石英ガラスルツボの製造方法において、結晶化剤を含有するシリカ粉を用い、このシリカ粉をアーク溶融する工程で、アーク電極とモールドの間に電圧をかけて結晶化促進剤をルツボ内表面に移動させ、かつルツボを1200〜1600℃の温度下に10分以上保持することによって、厚さ1〜10μmのルツボ内表面が結晶化促進剤を含有し、かつ結晶化度が80〜95%の半結晶層である石英ガラスルツボを製造する。
【選択図】 なし
Description
(1)シリコン単結晶の引き上げに用いる石英ガラスルツボであって、厚さ1〜10μmの内表面が結晶化促進剤を含有し、かつ結晶化度50〜99%の半結晶層であることを特徴とする石英ガラスルツボ。
(2)半結晶層の結晶化度が80〜95%である上記(1)の石英ガラスルツボ。
(3)ルツボ内側部が天然石英によって形成される一方、ルツボ外側部が合成石英によって形成され、厚さ1〜10μmのルツボ内表面が結晶化促進剤を含有すると共に半結晶層である上記(1)または(2)の石英ガラスルツボ。
(4)回転モールド法による石英ガラスルツボの製造方法において、結晶化剤を含有するシリカ粉を用い、このシリカ粉をアーク溶融する工程で、アーク電極とモールドの間に電圧をかけて結晶化促進剤をルツボ内表面に移動させ、かつルツボを1200〜1600℃の温度下に10分以上保持することによって、厚さ1〜10μmのルツボ内表面を半結晶層にすることを特徴とする石英ガラスルツボの製造方法。
(5)上記(4)の製造方法において、結晶化剤を含有するシリカ粉を回転モールドの内表面に所定の厚さに堆積し、モールド中央上部に設置したアーク電極による放電加熱によって、上記シリカ粉を1600℃以上に加熱して溶融し、このアーク溶融の終期に、アーク電極側をマイナス(−)とし、モールド側をプラス(+)として、アーク電極とモールドの間に電圧をかけて結晶化促進剤をルツボ内表面に移動させるとともに、ルツボを1200〜1600℃の温度下に10分以上保持することによって、厚さ1〜10μmのルツボ内表面を結晶化度50〜99%の半結晶層にする石英ガラスルツボの製造方法。
(6)上記(1)〜(3)の何れかに記載した石英ガラスルツボ、あるいは上記(4)または(5)の方法によって製造した石英ガラスルツボを用いたシリコン単結晶の引き上げ方法。
本発明の石英ガラスルツボは、シリコン単結晶の引き上げに用いる石英ガラスルツボであって、厚さ1〜10μmの内表面が結晶化促進剤を含有し、かつ結晶化度50〜99%の半結晶層であることを特徴とする石英ガラスルツボである。
Xc=〔ΣX(試料)/ΣX(標準)〕×100。
シリカ原料粉のアーク溶融時に高電圧を印可せず、かつアーク溶融終了後の所定温度下の保持を行わない以外は実施例1と同様にして石英ガラスルツボを製造した。このルツボ内表面には半結晶層が形成されていなかった。この石英ガラスルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行ったところ、実施例1の石英ガラスルツボを使用した引き上げに比べて単結晶収率が12%低かった。
シリカ原料粉のアーク溶融時に高電圧を印可した後に、かつアーク溶融終了後の所定温度下の保持を行わない以外は実施例1と同様にして石英ガラスルツボを製造した。このルツボ内表面には半結晶層が形成されていなかった。この石英ガラスルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行ったところ、実施例1の石英ガラスルツボを使用した引き上げに比べて単結晶収率が10%低かった。
Claims (6)
- シリコン単結晶の引き上げに用いる石英ガラスルツボであって、厚さ1〜10μmの内表面が結晶化促進剤を含有し、かつ結晶化度50〜99%の半結晶層であることを特徴とする石英ガラスルツボ。
- 半結晶層の結晶化度が80〜95%である請求項1の石英ガラスルツボ。
- ルツボ内側部が天然石英によって形成される一方、ルツボ外側部が合成石英によって形成され、厚さ1〜10μmのルツボ内表面が結晶化促進剤を含有すると共に半結晶層である請求項1または2の石英ガラスルツボ。
- 回転モールド法による石英ガラスルツボの製造方法において、結晶化剤を含有するシリカ粉を用い、このシリカ粉をアーク溶融する工程で、アーク電極とモールドの間に電圧をかけて結晶化促進剤をルツボ内表面に移動させ、かつルツボを1200〜1600℃の温度下に10分以上保持することによって、厚さ1〜10μmのルツボ内表面を半結晶層にすることを特徴とする石英ガラスルツボの製造方法。
- 請求項4の製造方法において、結晶化剤を含有するシリカ粉を回転モールドの内表面に所定の厚さに堆積し、モールド中央上部に設置したアーク電極による放電加熱によって、上記シリカ粉を1600℃以上に加熱して溶融し、このアーク溶融の終期に、アーク電極側をマイナス(−)とし、モールド側をプラス(+)として、アーク電極とモールドの間に電圧をかけて結晶化促進剤をルツボ内表面に移動させるとともに、ルツボを1200〜1600℃の温度下に10分以上保持することによって、厚さ1〜10μmのルツボ内表面を結晶化度50〜99%の半結晶層にする石英ガラスルツボの製造方法。
- 請求項1〜3の何れかに記載した石英ガラスルツボ、あるいは請求項4または5の方法によって製造した石英ガラスルツボを用いたシリコン単結晶の引き上げ方法。
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