JP2006205010A - ブレード塗布装置及びディスク用の印刷面塗布装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 良好な塗布性能を有するブレード塗布装置及びこれを用いたディスク用の印刷面塗布装置を提供する。
【解決手段】 開口を有するマスクを平面基板上に重ね合わせ、マスク上方で該マスクに対して相対移動するブレードによって塗布液をマスク上に塗布することで、開口から露出する平面基板上の塗布面に塗布層を形成するブレード塗布装置であって、ブレードが、マスク側に塗布時に塗布液と接触する押圧面が形成された長尺状部材であって、押圧面の長手方向のうねり成分を示す真直度が5μm/10cm以下である。
【選択図】 図1
【解決手段】 開口を有するマスクを平面基板上に重ね合わせ、マスク上方で該マスクに対して相対移動するブレードによって塗布液をマスク上に塗布することで、開口から露出する平面基板上の塗布面に塗布層を形成するブレード塗布装置であって、ブレードが、マスク側に塗布時に塗布液と接触する押圧面が形成された長尺状部材であって、押圧面の長手方向のうねり成分を示す真直度が5μm/10cm以下である。
【選択図】 図1
Description
本発明は、平面基板上に塗布液を塗布するブレード塗布装置及びこれを用いたディスク用の印刷面塗布装置に関する。
従来、平面基板上に塗布液を塗布する塗布方式としては、ロールコート,グラビアコート,エクストルージョンコートが知られている。
また、平面基板上に塗布液を塗布する塗布方式としては、平面基板の被塗布部以外の部分をマスクで覆い、該マスク上に供給された塗布液を、ブレードと呼ばれる長尺体の部材を用いてマスク上面で掻き延ばし、被塗布部に塗布液を堆積させることで、平面基板上に塗布液の層を形成するブレード塗布が知られている(例えば、下記特許文献1,2)。
例えば、ディスク上の基板を有する磁気記録媒体の製造工程においては、基板上に印刷面をブレード塗布によって形成することができる。
ところで、ブレード塗布方式においては、ブレードの塗布面を塗布液と直接接触させるため、ブレードの形状や表面の状態に起因して、平面基板に塗布層の表面が影響を受ける。そして、平面基板に形成する塗布層の厚さや表面粗さを目的の値とするためには、ブレードの形状誤差や表面の状態を予め許容範囲となるものを使用することが必要である。特に、形状誤差や表面の状態が、このような範囲から外れるブレードを用いてブレード塗布を行うと、塗布層の厚みにムラが生じる不具合や塗布層の表面に光沢のムラやスジ状の欠陥が生じてしまうことがわかっている。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、その目的は、良好な塗布性能を有するブレード塗布装置及びこれを用いたディスク用の印刷面塗布装置を提供することにある。
本発明の上記目的は、次の構成によって達成される。
(1) 開口を有するマスクを平面基板上に重ね合わせ、前記マスク上方で該マスクに対して相対移動するブレードによって塗布液を前記マスク上に塗布することで、前記開口から露出する平面基板上の塗布面に塗布層を形成するブレード塗布装置であって、前記ブレードが、前記マスク側に塗布時に塗布液と接触する押圧面が形成された長尺状部材であって、前記押圧面の長手方向のうねり成分を示す真直度が5μm/10cm以下であることを特徴とするブレード塗布装置。
(2) 前記ブレードの押圧面の中心線平均表面粗さ(Ra)が5μm以下であることを特徴とする上記(1)に記載のブレード塗布装置。
(3) 前記塗布層の乾燥後の膜厚を20μmから50μmの範囲とし、前記ブレードと前記平面基板との間隔を100μmから350μmの範囲とし、且つ、前記塗布液の粘度を150cP〜800cPとすることを特徴とする上記(1)又は(2)に記載のブレード塗布装置。
(4) 上記(1)又は(2)のいずれか1つに記載のブレード塗布装置を用いて、ディスク状記録媒体の印刷面のうち少なくとも1層を形成することを特徴とするディスク用の印刷面塗布装置。
(1) 開口を有するマスクを平面基板上に重ね合わせ、前記マスク上方で該マスクに対して相対移動するブレードによって塗布液を前記マスク上に塗布することで、前記開口から露出する平面基板上の塗布面に塗布層を形成するブレード塗布装置であって、前記ブレードが、前記マスク側に塗布時に塗布液と接触する押圧面が形成された長尺状部材であって、前記押圧面の長手方向のうねり成分を示す真直度が5μm/10cm以下であることを特徴とするブレード塗布装置。
(2) 前記ブレードの押圧面の中心線平均表面粗さ(Ra)が5μm以下であることを特徴とする上記(1)に記載のブレード塗布装置。
(3) 前記塗布層の乾燥後の膜厚を20μmから50μmの範囲とし、前記ブレードと前記平面基板との間隔を100μmから350μmの範囲とし、且つ、前記塗布液の粘度を150cP〜800cPとすることを特徴とする上記(1)又は(2)に記載のブレード塗布装置。
(4) 上記(1)又は(2)のいずれか1つに記載のブレード塗布装置を用いて、ディスク状記録媒体の印刷面のうち少なくとも1層を形成することを特徴とするディスク用の印刷面塗布装置。
本発明によれば、良好な塗布性能を有するブレード塗布装置及びこれを用いたディスク用の印刷面塗布装置を提供できる。
以下、本発明にかかるブレード塗布装置及びこれを用いたディスク用の印刷面塗布装置の実施形態を図面に基づいて詳しく説明する。図1は、ブレード塗布装置を示す斜視図である。図2は、ブレードの拡大断面図である。
ブレード塗布装置100は、平面基板上に塗布液を塗布して塗布層を形成するのに用いられ、本実施形態では、平面基板の一例としてディスク状記録媒体(以下、ディスクともいう。)Dを被塗布部材とする。
ブレード塗布装置100は、平面基板上に塗布液を塗布して塗布層を形成するのに用いられ、本実施形態では、平面基板の一例としてディスク状記録媒体(以下、ディスクともいう。)Dを被塗布部材とする。
ディスクDは、塗布液が塗布される塗布面が、図示しない支持部材によって支持されている。支持部材は、上下方向に昇降駆動可能に構成されており、ディスクDを該支持部材上に移載するとき、又は塗布後に支持部材から取り出すとき、塗布するとき等に、平面基板の上下位置を所定の位置に調整することができる構成である。
ディスクDの上方には板状のマスク25が設けられている。マスク25には、ディスクDの上面における塗布層を形成する塗布面57を露出させる開口27を有している。本実施形態において、開口27は直径が120mm程度の円形状に形成される。なお、開口27の形状は、ディスクD上に形成される塗布層の形状に合わせた形状とすることができ、マスク25の開口形状を適宜変更することによって、塗布層の形状は自由に設定できる。
ディスクDの塗布時には、支持されたディスクDが、マスク25の下面に重ね合わされるとともに、上方視においてディスクDの外周縁がマスク25の開口周縁に重ね合う状態で保持される。
マスク25の上方には、ブレード51が設けられている。ブレード51は、ステンレス材等の金属材料からなる長尺状の部材である。また、図2に示すように、ブレード51は、長尺方向に対する垂直方向の断面形状が略台形状となるように形成されている。
ブレード51の材質としては、SUS316のクロムの含有量以上のクロムの含有量とすることが好ましく、こうすることで、耐磨耗性、耐腐食性、耐熱性、離型性をより一層向上させることができる。
ブレード塗布装置100は、塗布液をマスク25の上面に供給する塗布液供給手段41を備えている。塗布液供給手段41は、塗布前又は塗布ごとに、マスク25の上面において、開口27とブレード51との間に所定の量の塗布液49を供給する。なお、塗布液供給手段41がブレード塗布装置100とは別の装置として設けられ、塗布時に、マスク25の上面に塗布液を供給する構成としてもよく、作業者が手作業でマスク上に塗布液を供給してもよい。
ブレード51とマスク25との間には、隙間Gが形成され、塗布液49はブレード51の前側面55により流れが案内されるに伴い押圧されることで、隙間Gに押し込まれる。そして、塗布液49が、塗布面57に対向するブレード51の下方端面に形成される押圧面59を距離Lにわたって通過することで、塗布液49がマスク25の開口27内に充填される。そして、図1に示すように、塗付時にはブレード51が、前側面55で塗布液49を開口27側に押圧しつつ、マスク25上をその面方向に沿って移動して、塗布面57に塗布液49が平坦に塗布されるようになる。
塗布液49は、粘度が150cP〜800cP(B型粘度)のものを用いることが好ましく、特に、粘度が200cP〜700cPのものを用いることが好ましい。
ブレード51の押圧面59と前側面55とのなす角度αは、110°≦α≦150°の範囲に設定することが好ましく、また、ブレード51の押圧面59と後側面61とのなす角度βは、60°≦β<100°の範囲に設定することが好ましい。また、ブレード51の押圧面59とマスク25との隙間Gは、10μm≦G≦150μmの範囲とすることが好ましい。
本発明にかかるブレード塗布装置は、特に、乾燥後の塗布層の膜厚が20μmから50μmの範囲とするものを対象としており、この目標の膜厚内とするようにレベリングを考慮すると、ブレードと平面基板(本実施形態ではディスクD)との間隔を100μmから350μmの範囲とし、且つ、塗布液の粘度を上記範囲に設定する必要がある。
本発明にかかるブレード塗布装置100のブレード51は、下記の条件を満たすものとする。
ブレード51の押圧面59の長手方向のうねり成分を示す真直度を5μm/10cm以下としている。
ブレード51の押圧面59の長手方向のうねり成分を示す真直度を5μm/10cm以下としている。
また、ブレード51の押圧面59の中心線平均表面粗さ(Ra)を5μm以下としている。
次に、このブレード塗布装置100を用いた塗布液の塗布方法を説明する。
図3は本発明に係る塗布方法の手順を(a)〜(c)で表した説明図、図4は本発明に係る塗布方法の手順を(d)〜(g)で表した説明図、図5は塗布の完了した被塗布部材の平面図である。
このブレード塗布方法では、ブレード51が上述した範囲となるように真直度と中心線平均表面粗さとの少なくとも一方が上述した範囲を満たす条件のもとで、マスク25の開口27から露出されたディスクDの塗布面57に塗布液49を塗布する。
図3は本発明に係る塗布方法の手順を(a)〜(c)で表した説明図、図4は本発明に係る塗布方法の手順を(d)〜(g)で表した説明図、図5は塗布の完了した被塗布部材の平面図である。
このブレード塗布方法では、ブレード51が上述した範囲となるように真直度と中心線平均表面粗さとの少なくとも一方が上述した範囲を満たす条件のもとで、マスク25の開口27から露出されたディスクDの塗布面57に塗布液49を塗布する。
まず、台状の支持部材13上にディスクDを配置し、図3(a)に示すように、支持部材13を上昇させて、ディスクDをマスク25の開口27に当接させる。次いで、図3(b)及び3(c)に示すように、マスクキャップ37がディスクDの中央孔に挿着される。
そして、図4(d)及び図4(e)に示すように、塗布液供給手段41によりマスク25上に塗布液49を供給し、ブレード51が移動手段53によって図中右方から左方に移動させることで、ブレード51がディスクDの塗布面57を塗布液49と共に通過して、ディスクDの塗布面57に所定厚の塗布液層が形成される。
次に、図4(f)に示すように、マスクキャップ37がディスクDから脱着される。これにより、ディスクDの中央部には塗布液49の塗布されない円形段部69が形成されることとなる。そして、図4(g)に示すように、支持部材13が下降することによりマスク25の開口27からディスクDが下方へと離反される。これにより、塗布面57に塗布された塗布液49は、マスク25上の塗布液49より分離される。この結果、ディスクDの外周縁にはマスク25に覆われていたことで、塗布液49の塗布されていない図6に示す非塗布部71が形成されることとなる。
このようにして塗布液49の塗布が完了したディスクDは、支持部材13から取り外され、図示しない次工程の塗布液乾燥工程等へと移送される。
以上説明したブレード塗布装置100においては、ブレード51の押圧面59の真直度と中心線平均表面粗さとを上記の範囲とすることにより、塗布層の厚みにムラが生じる不具合や塗布層の表面に光沢のムラやスジ状の欠陥が生じてしまうことを防止することができ、良好な塗布性能を実現することができる。
また、本実施形態のように、ブレード塗布装置を用いて、ディスク状記録媒体の印刷面を塗布液によって形成することで、厚さのムラがなく、表面に光沢やスジ等の欠陥がない印刷面を形成することができるディスク用の印刷面塗布装置を得ることができる。
(実施例)
次に、本発明にかかるブレード塗布装置のブレードの真直度と中心線平均表面粗さの好ましい範囲について、実施例及び比較例に基づいて説明する。なお、実施例及び比較例で使用するブレードの形状,材料は全て同じものとした。
次に、本発明にかかるブレード塗布装置のブレードの真直度と中心線平均表面粗さの好ましい範囲について、実施例及び比較例に基づいて説明する。なお、実施例及び比較例で使用するブレードの形状,材料は全て同じものとした。
まず、押圧面の長手方向のうねり成分を示す真直度が異なるブレードを用いて平面基板に塗布液を塗布する塗布試験を行い、光沢ムラ及びスジを目視で確認でくるか否かを確認した結果を下記表1に示す。表1において、「○」は欠陥が視認できなかった状態を意味し、「△」は、わずかながら欠陥を視認できた状態を意味し、「×」は、欠陥を視認できた状態を意味している。なお、押圧面の中心線平均表面粗さ(Ra)は実施例及び比較例ともに全て3.5μmとした。また、ここでいう「真直度」とは、押圧面における所定の部位のブレードの長手方向10cmを測定した際の微小なうねりを示し、単位をμm/10cmとした。
また、本実施例において塗布液の粘度を250cP(B型粘度)とし、ブレードと平面基板との間隔を290μmとし、乾燥後の膜厚を35μmとした。
また、本実施例において塗布液の粘度を250cP(B型粘度)とし、ブレードと平面基板との間隔を290μmとし、乾燥後の膜厚を35μmとした。
表1に示すように、実施例1では、真直度を2.5μ/10cmのブレードで塗布した場合に、光沢ムラ及びスジともに欠陥が認められず、良好に塗布することができた。また、実施例2では、真直度を4.5μ/10cmのブレードで塗布した場合に、光沢ムラ及びスジともに欠陥が認められず、良好に塗布することができた。一方、比較例1では、真直度を6.0μ/10cmのブレードで塗布した場合に、光沢ムラでは欠陥が視認でき、スジについても欠陥がわずかながら視認できた。
押圧面の中心線平均表面粗さ(Ra)が異なるブレードを用いて塗布試験を行い、光沢ムラ及びスジを目視で確認でくるか否かを確認した結果を下記表2に示す。表2において、「○」は欠陥が視認できなかった状態を意味し、「×」は、欠陥を視認できた状態を意味している。なお、押圧面の真直度は実施例及び比較例ともに全て4.0μm/10cmとした。
表2に示すように、実施例3,4,5では、押圧面の中心線平均表面粗さ(Ra)をそれぞれ2.5μm,3.5μm,4.5μmのブレードで塗布した場合に、いずれの塗布においても光沢ムラ及びスジともに欠陥が認められず、良好に塗布することができた。一方、比較例3では、押圧面の中心線平均表面粗さ(Ra)を6.0μのブレードで塗布した場合に、光沢ムラとスジの欠陥が視認できた。また、比較例4では、押圧面の中心線平均表面粗さ(Ra)を8.0μのブレードで塗布した場合に、光沢ムラとスジの欠陥が視認できた。
また、ブレードの押圧面の真直度を5μm/10cm以下とし、且つ、中心線平均表面粗さ(Ra)を5μm以下とすることで、光沢ムラとスジの欠陥の発生をより確実に防止することができ、更に塗布性能を改善することができる。
25 マスク
27 開口
49 塗布液
51 ブレード
59 押圧面
100 ブレード塗布装置
D ディスク(平面基板)
27 開口
49 塗布液
51 ブレード
59 押圧面
100 ブレード塗布装置
D ディスク(平面基板)
Claims (4)
- 開口を有するマスクを平面基板上に重ね合わせ、前記マスク上方で該マスクに対して相対移動するブレードによって塗布液を前記マスク上に塗布することで、前記開口から露出する平面基板上の塗布面に塗布層を形成するブレード塗布装置であって、
前記ブレードが、前記マスク側に塗布時に塗布液と接触する押圧面が形成された長尺状部材であって、前記押圧面の長手方向のうねり成分を示す真直度が5μm/10cm以下であることを特徴とするブレード塗布装置。 - 前記ブレードの押圧面の中心線平均表面粗さ(Ra)が5μm以下であることを特徴とする請求項1に記載のブレード塗布装置。
- 前記塗布層の乾燥後の膜厚を20μmから50μmの範囲とし、前記ブレードと前記平面基板との間隔を100μmから350μmの範囲とし、且つ、前記塗布液の粘度を150cP〜800cPとすることを特徴とする請求項1又は2に記載のブレード塗布装置。
- 上記請求項1又は2のいずれか1つに記載のブレード塗布装置を用いて、ディスク状記録媒体の印刷面のうち少なくとも1層を形成することを特徴とするディスク用の印刷面塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005018384A JP2006205010A (ja) | 2005-01-26 | 2005-01-26 | ブレード塗布装置及びディスク用の印刷面塗布装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101700688B1 (ko) * | 2015-11-05 | 2017-02-01 | 김윤태 | 액상수지필러층이 형성된 디스크의 제조방법 |
CN112449546A (zh) * | 2019-08-27 | 2021-03-05 | 华硕电脑股份有限公司 | 液态金属散热膏涂布方法及散热模块 |
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2005
- 2005-01-26 JP JP2005018384A patent/JP2006205010A/ja active Pending
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KR101700688B1 (ko) * | 2015-11-05 | 2017-02-01 | 김윤태 | 액상수지필러층이 형성된 디스크의 제조방법 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A711 | Notification of change in applicant |
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