JP2006176682A - アルキル基側鎖を有する化合物およびスルホン化ポリマー - Google Patents

アルキル基側鎖を有する化合物およびスルホン化ポリマー Download PDF

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芳孝 山川
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誠 樋上
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Abstract

【課題】高温でのクリープ耐性、プロトン伝導性、他材料との密着性および加工性に優れたスルホン酸基を有するポリアリーレン系重合体の提供。
【解決手段】ポリアリーレン系重合体は、式(1m)で表される化合物を構成単位とすることを特徴とする。
Figure 2006176682

[Aは−CR12−(R1およびR2は、水素原子、ハロゲン原子または(ハロゲン化)アルキル基であり、少なくとも一方が炭素数2以上の(ハロゲン化)アルキル基である。)で表される基;Bは酸素原子または硫黄原子;Dは−CO−、−SO2−または直接結合;R3〜R10は、水素原子、フッ素原子または(ハロゲン化)アルキル基;R11〜R18は、水素原子、フッ素原子、(ハロゲン化)アルキル基、ニトロ基またはニトリル基;Xはフッ素を除くハロゲン原子、−OSO2CH3または−OSO2CF3;mは0以上の整数;nは1以上の整数。]
【選択図】 なし

Description

本発明は、アルキル基側鎖を有する化合物および該化合物から導かれる構成単位を有するスルホン化ポリマーに関する。
電解質は、通常、(水)溶液で用いられることが多い。しかし、近年これを固体系に置き換えていく傾向が高まっている。その第1の理由としては、例えば、電気・電子材料に応用する場合のプロセッシングの容易さであり、第2の理由としては、軽薄短小および省電力化への移行である。
従来、プロトン伝導性材料としては、無機化合物および有機化合物の両方が知られている。無機化合物としては、たとえば水和化合物であるリン酸ウラニルなどが挙げられるが、これら無機化合物は界面での接触が十分でなく、伝導層を基板または電極上に形成するには問題が多い。
一方、有機化合物としては、いわゆる陽イオン交換樹脂に属するポリマー、たとえばポリスチレンスルホン酸などのビニル系ポリマーのスルホン化物、ナフィオン(登録商標、デュポン社製)を代表とするパーフルオロアルキルスルホン酸ポリマーまたはパーフルオロアルキルカルボン酸ポリマーや、ポリベンゾイミダゾールまたはポリエーテルエーテルケトンなどの耐熱性高分子にスルホン酸基またはリン酸基を導入したポリマーなどが挙げられる。
そして、ナフィオン、フレミオン、アシプレックスのようなパーフルオロアルキルスルホン酸系ポリマーは、高い酸化耐性およびプロトン伝導性を有し、広く燃料電池の電解質膜として用いられている。
燃料電池作製の際は、通常、両電極間に上記パーフルオロアルキルスルホン酸系ポリマーからなる電解質膜を挟み、ホットプレス等の熱処理加工により、電極―膜接合体を得ている。上記フッ素系膜は、熱変形温度が80℃程度と比較的低く、容易に接合加工が可能である。しかし、燃料電池発電時は、その反応熱により場合によっては80℃以上となることがあり、電解質膜が軟化してクリープ現象が生じることにより、両極が短絡して発電不能となる問題がある。
このような問題を回避するために、現状では、電解質膜の膜厚をある程度厚くしたり、燃料電池の発電温度が80℃以下になるように設計しているが、発電の最高出力に制限が課せられてしまう。
パーフルオロアルキルスルホン酸系ポリマーの熱変形温度が低く、高温での機械特性に乏しいことを解決するために、エンジニアプラスチック等に用いられる芳香族系ポリマーを用いた固体高分子電解質膜が開発されている。
たとえば、米国特許第5,403,675号公報(特許文献1)には、スルホン化された剛直ポ
リフェニレンからなる固体高分子電解質が開示されている。このポリマーは、フェニレン連鎖からなる芳香族化合物を重合して得られるポリマーを主成分とし、これをスルホン化剤と反応させてスルホン酸基を導入している。このポリマーからなる電解質膜は、熱変形温度が180℃以上であり、高温でのクリープ耐性に優れるが、ホットプレスによる電極との接合の際に、非常に高温を必要とする。また、高温で長時間加熱することにより、ス
ルホン酸基の脱離反応、スルホン酸基同士の架橋反応、電極層の劣化などが生じるという問題がある。
米国特許第5,403,675号公報
本発明の課題は、高温でのクリープ耐性、プロトン伝導性、他材料との密着性および加工性に優れた電解質膜を形成することができる、スルホン酸基を有するポリアリーレン系重合体を提供することにある。
本発明に係るポリアリーレン系重合体は、下記一般式(1m)で表される化合物(以下「化合物(1m)」ともいう。)から導かれる構成単位(以下「疎水性ユニット」ともいう。)を有することを特徴とする。
Figure 2006176682
[式中、Aは−CR12−(R1およびR2は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、R1とR2とが結合して環を形成してもよく、R1およびR2の少なくとも一方が炭素数2以上のアルキル基または炭素数2以上のハロゲン化アルキル基である。)で表される基であり、Bは独立に酸素原子または硫黄原子であり、Dは独立に−CO−、−SO2−または直接結合であり、
3〜R10は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基
または少なくとも一部がハロゲン化されたハロゲン化アルキル基であり、R11〜R18は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基、少なくとも一部がハロゲン化されたハロゲン化アルキル基、ニトロ基またはニトリル基であり、Xは、フッ素を除くハロゲン原子、−OSO2CH3または−OSO2CF3であり、mは0以上の整数であり、nは1以上の整数である。]
上記化合物(1m)は、式(1m)中のAとして、
(A−1)−CR12−(R1およびR2は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、R1とR2とが結合して環を形成してもよく、R1およびR2の少なくとも一方が炭素数2以上のアルキル基または炭素数2以上のハロゲン化アルキル基である。)で表される基、および
(A−2)直接結合、−C(CH32−、−C(CF32−、−CO−、−COO−、−CONH−、−(CF2p−(pは1〜10の整数である。)、−SO2−および下記式
(a)で表される基;
Figure 2006176682
から選ばれる少なくとも1種
の両方を有する化合物でもよい。
また、本発明に係るポリアリーレン系重合体は、下記一般式(2)で表される構成単位をさらに含有することが好ましい。
Figure 2006176682
[式中、Yは2価の電子吸引性基であり、Zは2価の電子供与性基または直接結合であり、Arは−SO3Hで表される置換基を有する芳香族基であり、jは0〜4の整数であり
、kは0〜10の整数であり、lは0〜10の整数である。]
本発明に係るアルキル側鎖を有するスルホン化ポリマーを用いれば、熱水耐性、プロトン伝導性、発電性能、他材料との密着性および加工性に優れた固体高分子電解質膜を提供することができる。
以下、本発明に係るアルキル基側鎖を有する化合物および該化合物から導かれる構成単位を有するポリアリーレン系重合体について詳細に説明する。
〔アルキル基側鎖を有する化合物(疎水性ユニット)〕
本発明のアルキル基側鎖を有する化合物は、下記一般式(1m)で表され、これをモノマー単位として含む重合体に疎水部を付与するとともに、アルキル基側鎖を有するため、重合体の熱変形温度を低下させ、ホットプレスを用いた燃料電池作製時の加工性ならびに電極との接合安定性を改善させる作用を有する。
Figure 2006176682
式(1m)中、Xは、フッ素を除くハロゲン原子(塩素、臭素、ヨウ素)、−OSO2
CH3および−OSO2CF3から選ばれる原子または基を示す。
3〜R10は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル
基または少なくとも一部がハロゲン化されたハロゲン化アルキル基を示す。
11〜R18は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基、少なくとも一部がハロゲン化されたハロゲン化アルキル基、ニトロ基またはニトリル基を示す。
上記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などが挙げられ、メチル基およびエチル基が好ましい。
Aは−CR12−で表される基であり、R1およびR2は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、R1
とR2とが結合して環を形成してもよい。
上記R1およびR2におけるアルキル基としては、たとえば、メチル基、エチル基、プロピル基、iso−プロピル基、ブチル基、iso−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基などが挙げられる。
なお、上記R1およびR2の少なくとも一方は、炭素数2以上のアルキル基または炭素数2以上のハロゲン化アルキル基である。本発明の化合物(1m)が炭素数2以上の(ハロゲン化)アルキル基を有することにより、該化合物(1m)から導かれる構成単位を有するポリアリーレン系重合体からなる電解質膜は、熱変形温度が低下するため、電極との接合性の改善効果に優れる。
また、上記化合物(1m)は、式(1m)中のAとして、
(A−1)上記−CR12−で表される基と、
(A−2)直接結合、−C(CH32−、−C(CF32−、−CO−、−COO−、−CONH−、−(CF2p−(pは1〜10の整数である。)、−SO2−および下記式
(a)で表される基;
Figure 2006176682
から選ばれる少なくとも1種との両方を有していてもよい。この場合、(A−1)の基の含有量と(A−2)の基の含有量とを調節することで、(A−1)の基のみを有する重合体、および(A−2)の基のみを有する重合体のそれぞれが本来有する熱変形温度の中間の、任意の熱変形温度を有する重合体を得ることができる。
Bは独立に酸素原子または硫黄原子であり、Dは独立に−CO−、−SO2−または直
接結合である。また、mは0以上の整数であり、nは1以上の整数である。
上記化合物(1m)は、たとえば、次のような反応により合成することができる。
まず、下記一般式(3)で表される化合物(以下、「ビスフェノール類」または「化合物(3)」ともいう。)を、対応するビスフェノール類のアルカリ金属塩とするために、N−メチル−2−ピロリドン、N,N-ジメチルアセトアミド、スルホラン、ジフェニルスルホン、ジメチルスルホキサイドなどの誘電率の高い極性溶媒中でリチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、水素化アルカリ金属、水酸化アルカリ金属、アルカリ金
属炭酸塩などを加える。アルカリ金属はビスフェノール類の水酸基(B)に対し、過剰気味で反応させ、通常、1.1〜2倍当量、好ましくは1.2〜1.5倍当量で使用する。このとき、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、アニソールなどの水と共沸する溶媒を共存させて、反応の進行を促進させることが好ましい。
Figure 2006176682
(式(3)中、A、BおよびR3〜R10は、上記式(1m)中のA、BおよびR3〜R10と同義である。)
上記ビスフェノール類(化合物(3))としては、たとえば、以下のものが挙げられる。
Figure 2006176682
次に、上記ビスフェノール類のアルカリ金属塩と、塩素等のハロゲン原子で置換された芳香族ジハライド化合物とを反応させる。
上記芳香族ジハライド化合物としては、たとえば、4,4'−ジフルオロベンゾフェノン、4,4'−ジクロロベンゾフェノン、4,4'−クロロフルオロベンゾフェノン、ビス(4−クロロフェニル)スルホン、ビス(4−フルオロフェニル)スルホン、4−フルオロフェニル−4'−クロロフェニルスルホン、ビス(3−ニトロ−4−クロロフェニル)スル
ホン、2,6−ジクロロベンゾニトリル、2,6−ジフルオロベンゾニトリル、2,5−ジ
クロロベンゾニトリル、2,5−ジフルオロベンゾニトリル、2,4−ジクロロベンゾニトリル、2,4−ジフルオロベンゾニトリル、2,6−ジニトロベンゾニトリル、2,5−ジニトロベンゾニトリル、2,4−ジニトロベンゾニトリル、1,2−ビス(4−クロロベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(4−クロロベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビ
ス(4−クロロベンゾイル)ベンゼン、1,2−ビス(3−クロロベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(3−クロロベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(3−クロロベンゾイル)ベンゼン、1,2−ビス(2−クロロベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(2−クロロベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(2−クロロベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(4−クロロベンゾイル)−2,4,5,6−テトラフルオロベンゼン、1,4−ビス(4−クロロベンゾイル)−2,3,5,6−テトラフルオロベンゼン、1,2−ビス{(4−クロロフェニル)スルホニル}ベンゼン、1,3−ビス{(4−クロロフェニル)スルホニル}ベンゼン、1,4−ビス{(4−クロロフェニル)スルホニル}ベンゼンなどが挙げられる。
上記芳香族ジハライドは、ビスフェノール類1モルに対して、1.0001〜3モル、好ましくは1.001〜2モルの範囲の量で用いられる。また、両末端が塩素原子となるように、反応終了後に再度、芳香族ジクロライド、たとえば、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、2,6−ジクロロベンゾニトリルなどを過剰に加えて反応させてもよい。
これらの反応は、反応温度が60℃〜300℃、好ましくは80℃〜250℃の範囲で、反応時間が15分〜100時間、好ましくは1時間〜24時間の範囲で行われる。
得られたオリゴマーないしポリマーは、ポリマーの一般的な精製方法、たとえば、溶解−沈殿の操作によって精製することができる。分子量の調整は、過剰の芳香族ジクロライドとビスフェノールとの反応モル比によって行う。芳香族ジクロライドが過剰にあることにより、得られるオリゴマーないしポリマー分子の両末端が芳香族クロライドになる。
上記のようにして得られる化合物(1m)の具体的な構造としては、たとえば、以下のもの挙げることができる。
Figure 2006176682
Figure 2006176682
Figure 2006176682
Figure 2006176682
Figure 2006176682
〔ポリアリーレン系重合体〕
本発明に係るポリアリーレン系重合体は、上記化合物(1m)から導かれ、下記一般式(1)で表される構成単位(以下「構成単位(1)」ともいう。)のみから構成される単独重合体でもよいし、構成単位(1)と他の構成単位とを含有する共重合体でもよい。いずれの場合でも、重合体のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定し
たポリスチレン換算の重量平均分子量(以下、単に「重量平均分子量」という)は1万〜100万、好ましくは2万〜80万である。
Figure 2006176682
式(1)中、R3〜R18、A、B、D、mおよびnは、上記一般式(1m)中のR3〜R18、A、B、D、mおよびnと同義である。
本発明のポリアリーレン系重合体を構成する他の構成単位としては、下記一般式(2)で表される構成単位(以下「構成単位(2)」ともいう。)が好ましい。
Figure 2006176682
式中、Yは2価の電子吸引性基を示し、具体的には、−CO−、−SO2−、−SO−
、−CONH−、−COO−、−(CF2q−(ここで、qは1〜10の整数である)、−C(CF32−などが挙げられる。
Zは2価の電子供与性基または直接結合を示し、具体的には、−O−、−S−、−(CH2)−、−C(CH32−、−CH=CH−、−C≡C―および
Figure 2006176682
などが挙げられる。なお、電子吸引性基とは、ハメット(Hammett)置換基常数がフェニ
ル基のm位の場合0.06以上、p位の場合0.01以上の値となる基をいう。
Arは−SO3Hで表される置換基を有する芳香族基を示し、芳香族基としては、たと
えばフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナンチル基などが挙げられる。これらの基のうち、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
kは0〜10、好ましくは0〜2の整数、lは0〜10、好ましくは0〜2の整数を示し、jは1〜4の整数を示す。
上記構成単位(2)を含有することにより、ポリアリーレン系重合体にスルホン酸基が導入されるため、高分子電解質やプロトン伝導膜として好適に用いることができる。
本発明で用いられるスルホン酸基を有するポリアリーレンは、構成単位(1)を0.5〜100モル%、好ましくは10〜99.999モル%の割合で、構成単位(2)を99
.5〜0モル%、好ましくは90〜0.001モル%の割合で含有している。
上記スルホン酸基を有するポリアリーレンは、上記化合物(1m)と、上記構成単位(2)となりうる、スルホン酸エステル基を有する化合物とを共重合させ、スルホン酸エステル基を有するポリアリーレンを製造し、これを加水分解して、スルホン酸エステル基をスルホン酸基に変換することにより合成することができる。
また、スルホン酸基を有するポリアリーレンは、上記構成単位(1)と、上記構成単位(2)においてスルホン酸基およびスルホン酸エステル基を有しない構成単位とからなるポリアリーレンを予め合成し、このポリアリーレンをスルホン化することにより合成することもできる。
上記構成単位(2)となりうるスルホン酸エステル基を有する化合物としては、たとえば、下記一般式(2m)で表されるスルホン酸エステル(以下「化合物(2m)」ともいう。)が挙げられる。
Figure 2006176682
式(2m)中、X’はフッ素を除くハロゲン原子(塩素、臭素、ヨウ素)および−OSO2G(ここで、Gはアルキル基、フッ素置換アルキル基またはアリール基を示す。)か
ら選ばれる原子または基を示し、Y、Z、j、kおよびlは、それぞれ上記一般式(2)中のY、Z、j、kおよびlと同義である。
aは炭素原子数1〜20、好ましくは4〜20の炭化水素基を示し、具体的には、メ
チル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、tert-ブチル基、iso-ブチル
基、n−ブチル基、sec−ブチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、アダマンチル基、アダマンタンメチル基、2−エチルヘキシル基、ビシクロ[2.2.1]へプチル基、ビシクロ[2.2.1]へプチルメチル基、テトラヒドロフルフリル基、2−メチルブチル基、3,3−ジメチル−2,4−ジオキソランメチル基、シクロヘキシルメチル基、アダマンチルメチル基、ビシクロ[2.2.1]ヘプチルメチル基などの直鎖状炭化水素基、分岐状炭化水素基、脂環式炭化水素基、5員の複素環を有する炭化水素基などが挙げられる。これらの中では、n−ブチル基、ネオペンチル基、テトラヒドロフルフリル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、アダマンチルメチル基、ビシクロ[2.2.1]ヘプチルメチル基が好ましく、特にネオペンチル基が好ましい。
Arは−SO3bで表わされる置換基を有する芳香族基を示し、芳香族基としては、たとえば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基などが挙げられる。これらの基のうち、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
置換基−SO3bは、芳香族基に1個または2個以上置換しており、置換基−SO3bが2個以上置換している場合には、これらの置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。
ここで、Rbは炭素原子数1〜20、好ましくは4〜20の炭化水素基を示し、具体的
には上記Raと同様の炭素原子数1〜20の炭化水素基などが挙げられる。これらの中で
は、n−ブチル基、ネオペンチル基、テトラヒドロフルフリル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、アダマンチルメチル基、ビシクロ[2.2.1]ヘプチルメチル基が好ましく、特にネオペンチル基が好ましい。
式(2m)で表されるスルホン酸エステルの具体例としては、以下の様な化合物が挙げられる。
Figure 2006176682
Figure 2006176682
Figure 2006176682
Figure 2006176682
Figure 2006176682
Figure 2006176682
Figure 2006176682
Figure 2006176682
Figure 2006176682
また、上記化合物において、塩素原子が臭素原子に置き換わった化合物、−CO−が
−SO2−に置き換わった化合物、ならびに、塩素原子が臭素原子に置き換わり、かつ、
−CO−が−SO2−に置き換わった化合物なども挙げられる。
一般式(2m)中のRb基は1級のアルコール由来で、β炭素が3級または4級炭素で
あることが、重合工程中の安定性に優れ、脱エステル化によるスルホン酸の生成に起因する重合阻害や架橋を引き起こさない点で好ましく、さらには、これらのエステル基は1級アルコール由来でβ位が4級炭素であることが好ましい。
また、上記構成単位(2m)においてスルホン酸基およびスルホン酸エステル基を有しない構成単位となりうる化合物の具体例としては、下記の様な化合物が挙げられる。
Figure 2006176682
また、上記化合物において、塩素原子が臭素原子に置き換わった化合物、−CO−が
−SO2−に置き換わった化合物、ならびに、塩素原子が臭素原子に置き換わり、かつ、
−CO−が−SO2−に置き換わった化合物なども挙げられる。
(スルホン酸基を有するポリアリーレン系重合体の製造方法)
本発明において好ましい態様である、スルホン酸基を有するポリアリーレン系重合体(以下、単に「スルホン化ポリアリーレン」ともいう。)は、上記化合物(1m)と化合物(2m)とを、触媒の存在下に反応させることにより合成される。
この際使用される触媒は、遷移金属化合物を含む触媒系であり、このような触媒系としては、(i)遷移金属塩および配位子となる化合物(以下「配位子成分」という)、また
は、配位子が配位された遷移金属錯体(銅塩を含む)と、(ii)還元剤とを必須成分とし、さらに、重合速度を上げるために「塩」を添加してもよい。
ここで、遷移金属塩としては、塩化ニッケル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル、ニッケルアセチルアセトナートなどのニッケル化合物;塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウムなどのパラジウム化合物;塩化鉄、臭化鉄、ヨウ化鉄などの鉄化合物;塩化コバルト、臭化コバルト、ヨウ化コバルトなどのコバルト化合物などが挙げられる。これらのうち特に、塩化ニッケル、臭化ニッケルなどが好ましい。
また、配位子成分としては、トリフェニルホスフィン、2,2'−ビピリジン、1,5−
シクロオクタジエン、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパンなどが挙げられる
。これらのうち、トリフェニルホスフィン、2,2'−ビピリジンが好ましい。上記配位子成分である化合物は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
さらに、配位子が配位された遷移金属錯体としては、例えば、塩化ニッケルビス(トリフェニルホスフィン)、臭化ニッケルビス(トリフェニルホスフィン)、ヨウ化ニッケルビス(トリフェニルホスフィン)、硝酸ニッケルビス(トリフェニルホスフィン)、塩化ニッケル(2,2'−ビピリジン)、臭化ニッケル(2,2'−ビピリジン)、ヨウ化ニッケル(2,2'−ビピリジン)、硝酸ニッケル(2,2'−ビピリジン)、ビス(1,5−シク
ロオクタジエン)ニッケル、テトラキス(トリフェニルホスフィン)ニッケル、テトラキス(トリフェニルホスファイト)ニッケル、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムなどが挙げられる。これらのうち、塩化ニッケルビス(トリフェニルホスフィン)
、塩化ニッケル(2,2'−ビピリジン)が好ましい。
上記触媒系に使用することができる還元剤としては、例えば、鉄、亜鉛、マンガン、アルミニウム、マグネシウム、ナトリウム、カルシウムなどが挙げられる。これらのうち、亜鉛、マグネシウム、マンガンが好ましい。これらの還元剤は、有機酸などの酸に接触させることにより、より活性化して用いることができる。
また、上記触媒系において使用することのできる「塩」としては、フッ化ナトリウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、硫酸ナトリウムなどのナトリウム化合物;フッ化カリウム、塩化カリウム、臭化カリウム、ヨウ化カリウム、硫酸カリウムなどのカリウム化合物;フッ化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウム、硫酸テトラエチルアンモニウムなどのアンモニウム化合物などが挙げられる。これらのうち、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、臭化カリウム、臭化テトラエチルアンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウムが好ましい。
各成分の使用割合は、遷移金属塩または遷移金属錯体が、上記モノマー(化合物(1m)および(2m))の総計1モルに対し、通常0.0001〜10モル、好ましくは0.01〜0.5モルである。0.0001モル未満では、重合反応が十分に進行しないことがあり、一方、10モルを超えると、分子量が低下することがある。
触媒系において、遷移金属塩および配位子成分を用いる場合、この配位子成分の使用割合は、遷移金属塩1モルに対し、通常0.1〜100モル、好ましくは1〜10モルである。0.1モル未満では、触媒活性が不十分となることがあり、一方、100モルを超えると、分子量が低下することがある。
また、還元剤の使用割合は、上記モノマーの総計1モルに対し、通常、0.1〜100モル、好ましくは1〜10モルである。0.1モル未満では、重合が十分進行しないことがあり、100モルを超えると、得られる重合体の精製が困難になることがある。
さらに、「塩」を使用する場合、その使用割合は、上記モノマーの総計1モルに対し、通常、0.001〜100モル、好ましくは0.01〜1モルである。0.001モル未満では、重合速度を上げる効果が不十分となることがあり、100モルを超えると、得られる重合体の精製が困難となることがある。
化合物(1m)と化合物(2m)とを反応させる際に使用することのできる重合溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジメチルスルホキシド、N,
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリド
ン、γ−ブチロラクトン、N,N'−ジメチルイミダゾリジノンなどが挙げられる。これらのうち、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N,N'−ジメチルイミダゾリジノンが好ましい。これらの重合溶媒は、十分に乾燥してから用いることが好ましい。
重合溶媒中における上記モノマーの総計の濃度は、通常1〜90重量%、好ましくは5〜40重量%である。重合する際の重合温度は、通常0〜200℃、好ましくは50〜120℃である。また、重合時間は、通常0.5〜100時間、好ましくは1〜40時間である。
上記化合物(2m)を用いて得られたスルホン酸エステル基を有するポリアリーレンは、スルホン酸エステル基を加水分解して、スルホン酸基に変換することによりスルホン酸
基を有するポリアリーレンとすることができる。
加水分解の方法としては、
(1)少量の塩酸を含む過剰量の水またはアルコールに、上記スルホン酸エステル基を有するポリアリーレンを投入し、5分間以上撹拌する方法
(2)トリフルオロ酢酸中で、上記スルホン酸エステル基を有するポリアリーレンを80〜120℃程度の温度で5〜10時間程度反応させる方法
(3)スルホン酸エステル基を有するポリアリーレン中のスルホン酸エステル基(−SO3R)1モルに対して1〜3倍モルのリチウムブロマイドを含む溶液、例えばN−メチル
ピロリドンなどの溶液中で、上記ポリアリーレンを80〜150℃程度の温度で3〜10時間程度反応させた後、塩酸を添加する方法
などを挙げることができる。
また、本発明のスルホン酸基を有するポリアリーレンは、上記化合物(1m)と、上記化合物(2m)においてスルホン酸エステル基を有しない化合物とを共重合させることにより、スルホン酸基およびスルホン酸エステル基を有しないポリアリーレン系共重合体(以下「非スルホン化ポリアリーレン」ともいう。)を予め合成し、この非スルホン化ポリアリーレンをスルホン化することにより合成することもできる。この場合、上記合成方法に準じた方法により非スルホン化ポリアリーレンを製造した後、スルホン化剤を用いてスルホン酸基を導入することにより、スルホン酸基を有するポリアリーレンを得ることができる。
スルホン酸基の導入方法は特に制限されず、一般的な方法で行うことができる。例えば、上記非スルホン化ポリアリーレンを、無溶剤下または溶剤存在下で、無水硫酸、発煙硫酸、クロルスルホン酸、硫酸または亜硫酸水素ナトリウムなどの公知のスルホン化剤を用いて、公知の条件でスルホン化することにより、スルホン酸基を導入することができる〔Polymer Preprints,Japan,Vol.42,No.3,p.730 (1993);Polymer Preprints,Japan,Vol.43,No.3,p.736 (1994);Polymer Preprints,Japan,Vol.42,No.7,p.2490〜2492
(1993)〕。
スルホン化の際に用いられる溶剤としては、例えば、n−ヘキサンなどの炭化水素溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶剤、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの非プロトン系極性溶剤、テトラクロロエタン、ジクロロエタン、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素などが挙げられる。反応温度は、特に限定されないが、通常−50〜200℃、好ましくは−10〜100℃である。また、反応時間は、通常0.5〜1,000時間、好ましくは1〜200時間である。
上記のような方法により製造されるスルホン化ポリアリーレン中のスルホン酸基量は、通常0.3〜5meq/g、好ましくは0.5〜3meq/g、さらに好ましくは0.8〜2.8meq/gである。0.3meq/g未満では、プロトン伝導度が低く実用的ではなく、5meq/gを超えると、耐水性が低下することがある。上記スルホン酸基量は、例えば、モノマーの種類、使用割合、組み合わせを変えることにより、調整することができる。
このようにして得られるスルホン酸基を有するポリアリーレンの分子量は、ゲルパーミエションクロマトグラフィ(GPC)によるポリスチレン換算の重量平均分子量で、1万〜100万、好ましくは2万〜80万である。分子量が上記範囲内であることにより、塗膜性、強度的性質、溶解性および加工性などに優れる。
本発明のスルホン酸基を有するポリアリーレン系重合体の構造は、赤外線吸収スペクトルによって、1,030〜1,045cm-1、1,160〜1,190cm-1のS=O吸収、1,130〜1,250cm-1のC−O−C吸収、1,640〜1,660cm-1のC=O吸収などにより確認でき、これらの組成比は、スルホン酸の中和滴定や、元素分析により知ることができる。また、核磁気共鳴スペクトル(1H-NMR)により、6.8〜8.0ppmの芳香族プロトンのピークから、その構造を確認することができる。
(固体高分子電解質)
本発明の固体高分子電解質は、上記スルホン化ポリアリーレンからなり、プロトン伝導性を損なわない範囲で、フェノール性水酸基含有化合物、アミン系化合物、有機リン化合物、有機イオウ化合物などの酸化防止剤などを含んでもよい。
また、本発明の固体高分子電解質は、老化防止剤、好ましくは分子量500以上のヒンダードフェノール系化合物を含有してもよく、このような老化防止剤を含有することにより、電解質膜としての耐久性をより向上させることができる。
本発明で使用することのできるヒンダードフェノール系化合物としては、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート](商品名:IRGANOX 245)、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート](商品名:IRGANOX 259
)、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−3,5−トリアジン(商品名:IRGANOX 565)、ペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート](商品名:IRGANOX 1010)、2,2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネート](商品名:IRGANOX 1035)、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート)(商品名:IRGANOX
1076)、N,N−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチルー4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)(IRGAONOX 1098)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4―ヒドロキシベンジル)ベンゼン(商品名:IRGANOX 1330)、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイト(商品名:IRGANOX 3114)、3,9−ビス[2−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチ
ルフェニル)プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン(商品名:Sumilizer GA-80)などを挙げることができる。
上記ヒンダードフェノール系化合物は、スルホン化ポリアリーレン100重量部に対して0.01〜10重量部の量で使用することが好ましい。
上記固体高分子電解質は、使用用途に応じて、粒状、繊維状、膜状など種々の形状で用いることができる。たとえば、燃料電池や水電解装置などの電気化学デバイスに用いる場合には、その形状を膜状(いわゆる、プロトン伝導膜)とすることが望ましい。
(プロトン伝導膜)
上記プロトン伝導膜は、上記スルホン化ポリアリーレンからなる固体高分子電解質を用いて調製することができる。また、プロトン伝導膜を調製する際に、固体高分子電解質以外に、硫酸、リン酸などの無機酸、カルボン酸を含む有機酸、適量の水などを併用してもよい。
上記スルホン化ポリアリーレンを、溶剤に溶解して溶液とした後、基体上に流延してフィルム状に成形するキャスティング法などにより、フィルム状に成形することによりプロトン伝導膜を製造することができる。
上記基体としては、通常の溶液キャスティング法に用いられる基体であれば特に限定されず、たとえばプラスチック製、金属製などの基体が用いられ、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムなどの熱可塑性樹脂からなる基体が用いられる。
スルホン化ポリアリーレンを溶解する溶媒としては、たとえば、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、γ−ブチロラクトン、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチル尿素、ジメチルイミダゾリジノンなどの非プロトン系極性溶剤が挙げられ、特に溶解性、溶液粘度の面から、N−メチル−2−ピロリドン(以下「NMP」ともいう。)が好ましい。非プロトン系極性溶剤は、1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。
また、上記スルホン化ポリアリーレンを溶解させる溶媒として、上記非プロトン系極性溶剤とアルコールとの混合物も用いることができる。アルコールとしては、たとえば、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、iso−プロピルアルコール、sec−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコールなどが挙げられ、特にメタノールが幅広い組成範囲で溶液粘度を下げる効果があり好ましい。アルコールは、1種単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。
上記溶媒として、非プロトン系極性溶剤とアルコールとの混合物を用いる場合には、非プロトン系極性溶剤が95〜25重量%、好ましくは90〜25重量%、アルコールが5〜75重量%、好ましくは10〜75重量%(合計100重量%)からなる。アルコールの量が上記範囲内にあると、溶液粘度を下げる効果に優れる。
上記スルホン化ポリアリーレンを溶解させた溶液のポリマー濃度は、スルホン化ポリアリーレンの分子量にもよるが、通常、5〜40重量%、好ましくは7〜25重量%である。5重量%未満では、厚膜化し難く、また、ピンホールが生成しやすい。一方、40重量%を超えると、溶液粘度が高すぎてフィルム化し難く、また、表面平滑性に欠けることがある。
溶液粘度は、スルホン化ポリアリーレンの分子量やポリマー濃度にもよるが、通常、2,000〜100,000mPa・s、好ましくは3,000〜50,000mPa・sである。2,000mPa・s未満では、成膜中の溶液の滞留性が悪く、基体から流れてしま
うことがある。一方、100,000mPa・sを超えると、粘度が高過ぎて、ダイから
の押し出しができず、流延法によるフィルム化が困難となることがある。
上記のようにして成膜した後、得られた未乾燥フィルムを水に浸漬すると、未乾燥フィルム中の有機溶剤を水と置換することができ、得られるプロトン伝導膜の残留溶媒量を低減することができる。なお、成膜後、未乾燥フィルムを水に浸漬する前に、未乾燥フィルムを予備乾燥してもよい。予備乾燥は、未乾燥フィルムを通常50〜150℃の温度で、0.1〜10時間保持することにより行われる。
未乾燥フィルムを水に浸漬する際は、枚葉を水に浸漬するバッチ方式であってもよく、通常得られる基板フィルム(たとえば、PET)上に成膜された状態の積層フィルムのまま、あるいは基板から分離した膜を水に浸漬させて、巻き取っていく連続方式でもよい。バッチ方式の場合は、処理フィルムを枠にはめるなどの方式が処理されたフィルムの表面の皺形成が抑制されるので好都合である。
未乾燥フィルムを水に浸漬する際には、未乾燥フィルム1重量部に対し、水が10重量部以上、好ましくは30重量部以上の接触比となるようにすることがよい。得られるプロ
トン伝導膜の残存溶媒量をできるだけ少なくするためには、できるだけ大きな接触比を維持することが好ましい。また、浸漬に使用する水を交換したり、オーバーフローさせたりして、常に水中の有機溶媒濃度を一定濃度以下に維持しておくことも、得られるプロトン伝導膜の残存溶媒量の低減に有効である。プロトン伝導膜中に残存する有機溶媒量の面内分布を小さく抑えるためには、水中の有機溶媒濃度を撹拌等によって均質化させることは効果がある。
未乾燥フィルムを水に浸漬する際の水の温度は、好ましくは5〜80℃の範囲である。高温ほど、有機溶媒と水との置換速度は速くなるが、フィルムの吸水量も大きくなるので、乾燥後に得られるプロトン伝導膜の表面状態が荒れる懸念がある。通常、置換速度と取り扱いやすさから10〜60℃の温度範囲が好都合である。浸漬時間は、初期の残存溶媒量や接触比、処理温度にもよるが、通常10分〜240時間の範囲である。好ましくは30分〜100時間の範囲である。
上記のように未乾燥フィルムを水に浸漬した後乾燥すると、残存溶媒量が低減されたプロトン伝導膜が得られるが、このようにして得られるプロトン伝導膜の残存溶媒量は、通常5重量%以下である。また、浸漬条件によっては、得られるプロトン伝導膜の残存溶媒量を1重量%以下とすることができる。このような条件としては、たとえば、未乾燥フィルムと水との接触比が、未乾燥フィルム1重量部に対して水が50重量部以上であり、浸漬する際の水の温度が10〜60℃、浸漬時間が10分〜10時間である。
上記のように未乾燥フィルムを水に浸漬した後、フィルムを30〜100℃、好ましくは50〜80℃で、10〜180分、好ましくは15〜60分乾燥し、次いで、50〜150℃で、好ましくは500mmHg〜0.1mmHgの減圧下、0.5〜24時間、真空乾燥することにより、プロトン伝導膜を得ることができる。
上記のような方法により得られるプロトン伝導膜は、その乾燥膜厚が、通常10〜100μm、好ましくは20〜80μmである。
また、上記スルホン酸エステル化されたポリアリーレン系重合体を加水分解することなく、上述したような方法でフィルム状に成形した後、上記と同様の方法で加水分解することによりスルホン酸基を有するポリアリーレン系重合体からなるプロトン伝導膜を製造することもできる。
上記プロトン伝導膜は、たとえば、一次電池、二次電池および燃料電池などの固体高分子電解質として、また、表示素子、各種センサー、信号伝達媒体、固体コンデンサー、イオン交換膜などにおけるプロトン伝導膜として好適に用いることができる。
[実施例]
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
〔実施例1〕
(1)疎水性ユニットの合成
攪拌機、温度計、Dean-stark管、窒素導入管および冷却管を取り付けた1L三口フラスコに、4,4’−(1,3−ジメチルイソブチリデン)ビスフェノール27.0g(100mmol)、4,4’−ジクロロベンゾフェノン27.6g(110mmol)および炭酸カリウム20.0g(130mmol)をはかりとった。窒素置換後、スルホラン300mlおよびトルエン150mlを加えて攪拌し、オイルバスで反応液を150℃で加熱還流させた。反応によって生成する水はDean-stark管にトラップした。3時間後、水の生成がほとんど認められなくなったところで、トルエンをDean-stark管から系外に除去し
た。徐々に反応温度を200℃に上げ、5時間攪拌を続けた後、4,4’−ジクロロベンゾフェノン7.53g(30mmol)を加え、さらに8時間反応をさせた。
反応液を放冷後、トルエン100mlを加えて希釈した。反応液に不溶の無機塩をろ過し、ろ液をメタノール2Lに注いで生成物を沈殿させた。沈殿した生成物をろ過、乾燥後、テトラヒドロフラン250mlに溶解し、これをメタノール2Lに注いで再沈殿させた。沈殿した白色粉末をろ過、乾燥し、疎水性ユニット42.5gを得た。GPCで測定した数平均分子量(Mn)は8,300であった。得られた疎水性ユニットは式(I)で表されるオリゴマーであることを確認した。
Figure 2006176682
(2)スルホン化ポリマーの合成
攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに、3−(2,5-
ジクロロベンゾイル)ベンゼンスルホン酸ネオペンチル31.5g(78.6mmol)、(1)で得られた疎水性ユニット12.0g(1.44mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロリド1.57g(2.4mmol)、ヨウ化ナトリウム0.36g(2.4mmol)、トリフェニルホスフィン8.39g(0.032mmol)および亜鉛12.6g(192mmol)をはかりとり、乾燥窒素置換した。ここにN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)96mlを加え、反応温度を80℃に保持しながら3時間攪拌を続けた後、DMAc168mlを加えて希釈し、不溶物をろ過した。
得られた溶液を、攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに入れ、115℃に加熱し、臭化リチウム15.0g(173mmol)を加えた。7時間加熱攪拌後、アセトン5Lに注いで生成物を沈殿させた。次いで、1N塩酸、純水の順に洗浄後、乾燥して目的のスルホン化ポリマー28.3gを得た。得られた重合体の重量平均分子量(Mw)は、160,000であった。
〔実施例2〕
(1)疎水性ユニットの合成
攪拌機、温度計、Dean-stark管、窒素導入管および冷却管を取り付けた1L三口フラスコに、4,4’−デシリデンビスフェノール32.6g(100mmol)、4,4’−ジクロロベンゾフェノン27.6g(110mmol)および炭酸カリウム20.0g(130mmol)をはかりとった。窒素置換後、スルホラン300mlおよびトルエン150mlを加えて攪拌し、オイルバスで反応液を150℃で加熱還流させた。反応によって生成する水はDean-stark管にトラップした。3時間後、水の生成がほとんど認められなくなったところで、トルエンをDean-stark管から系外に除去した。徐々に反応温度を200℃に上げ、5時間攪拌を続けた後、4,4’−ジクロロベンゾフェノン7.53g(30mmol)を加え、さらに8時間反応させた。
反応液を放冷後、トルエン100mlを加えて希釈した。反応液に不溶の無機塩をろ過し、ろ液をメタノール2Lに注いで生成物を沈殿させた。沈殿した生成物をろ過、乾燥後、テトラヒドロフラン250mlに溶解し、これをメタノール2Lに注いで再沈殿させた
。沈殿した白色粉末をろ過、乾燥し、疎水性ユニット45.5gを得た。GPCで測定した数平均分子量(Mn)は7,800であった。得られた疎水性ユニットは式(II)で表されるオリゴマーであることを確認した。
Figure 2006176682
(2)スルホン化ポリマーの合成
攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに、3−(2,5-
ジクロロベンゾイル)ベンゼンスルホン酸ネオペンチル31.5g(78.5mmol)、(1)で得られた疎水性ユニット12.0g(1.54mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロリド1.57g(2.4mmol)、ヨウ化ナトリウム0.36g(2.4mmol)、トリフェニルホスフィン8.39g(0.032mmol)および亜鉛12.6g(192mmol)をはかりとり、乾燥窒素置換した。ここにN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)96mlを加え、反応温度を80℃に保持しながら3時間攪拌を続けた後、DMAc168mlを加えて希釈し、不溶物をろ過した。
得られた溶液を、攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに入れ、115℃に加熱し、臭化リチウム15.0g(173mmol)を加えた。7時間加熱攪拌後、アセトン5Lに注いで生成物を沈殿させた。次いで、1N塩酸、純水の順に洗浄後、乾燥して目的のスルホン化ポリマー29.0gを得た。得られた重合体の重量平均分子量(Mw)は、183,000であった。
〔実施例3〕
(1)疎水性ユニットの合成
攪拌機、温度計、Dean-stark管、窒素導入管および冷却管を取り付けた1L三口フラスコに、4,4’−(1,3−ジメチルブチリデン)ビスフェノール27.0g(100mmol)、2,6−ジクロロベンゾニトリル18.9g(110mmol)および炭酸カリウム20.0g(130mmol)をはかりとった。窒素置換後、スルホラン300mlおよびトルエン150mlを加えて攪拌し、オイルバスで反応液を150℃で加熱還流させた。反応によって生成する水はDean-stark管にトラップした。3時間後、水の生成がほとんど認められなくなったところで、トルエンをDean-stark管から系外に除去した。徐々に反応温度を200℃に上げ、5時間攪拌を続けた後、2,6−ジクロロベンゾニトリル5.16g(30mmol)を加え、さらに8時間反応させた。
反応液を放冷後、トルエン100mlを加えて希釈した。反応液に不溶の無機塩をろ過し、ろ液をメタノール2Lに注いで生成物を沈殿させた。沈殿した生成物をろ過、乾燥後、テトラヒドロフラン250mlに溶解し、これをメタノール2Lに注いで再沈殿させた。沈殿した白色粉末をろ過、乾燥し、疎水性ユニット37.3gを得た。GPCで測定した数平均分子量(Mn)は8,000であった。得られた疎水性ユニットは式(III)で
表されるオリゴマーであることを確認した。得られた疎水性ユニットの1H−NMRスペ
クトルを図1に示す。
Figure 2006176682
(2)スルホン化ポリマーの合成
攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに、3−(2,5-
ジクロロベンゾイル)ベンゼンスルホン酸ネオペンチル31.5g(78.5mmol)、(1)で得られた疎水性ユニット12.0g(1.50mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロリド1.57g(2.4mmol)、ヨウ化ナトリウム0.36g(2.4mmol)、トリフェニルホスフィン8.39g(0.032mmol)および亜鉛12.6g(192mmol)をはかりとり、乾燥窒素置換した。ここにN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)96mlを加え、反応温度を80℃に保持しながら3時間攪拌を続けた後、DMAc168mlを加えて希釈し、不溶物をろ過した。
得られた溶液を、攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに入れ、115℃に加熱し、臭化リチウム15.0g(173mmol)を加えた。7時間加熱攪拌後、アセトン5Lに注いで生成物を沈殿させた。次いで、1N塩酸、純水の順に洗浄後、乾燥して目的のスルホン化ポリマー29.8gを得た。得られた重合体の重量平均分子量(Mw)は、182,000であった。得られたスルホン化ポリマーの1H−NMRスペクトルを図2に示す。
〔実施例4〕
(1)疎水性ユニットの合成
攪拌機、温度計、Dean-stark管、窒素導入管および冷却管を取り付けた1L三口フラスコに、4,4’−(1−メチル−へプチリデン)ビスフェノール29.8g(100mmol)、2,6−ジクロロベンゾニトリル18.9g(110mmol)おとび炭酸カリウム20.0g(130mmol)をはかりとった。窒素置換後、スルホラン300mlおよびトルエン150mlを加えて攪拌し、オイルバスで反応液を150℃で加熱還流させた。反応によって生成する水はDean-stark管にトラップした。3時間後、水の生成がほとんど認められなくなったところで、トルエンをDean-stark管から系外に除去した。徐々に反応温度を200℃に上げ、5時間攪拌を続けた後、2,6−ジクロロベンゾニトリル5.16g(30mmol)を加え、さらに8時間反応させた。
反応液を放冷後、トルエン100mlを加えて希釈した。反応液に不溶の無機塩をろ過し、ろ液をメタノール2Lに注いで生成物を沈殿させた。沈殿した生成物をろ過、乾燥後、テトラヒドロフラン250mlに溶解し、これをメタノール2Lに注いで再沈殿させた。沈殿した白色粉末をろ過、乾燥し、疎水性ユニット37.3gを得た。GPCで測定した数平均分子量(Mn)は8,000であった。得られた疎水性ユニットは式(IV)で表されるオリゴマーであることを確認した。
Figure 2006176682
(2)スルホン化ポリマーの合成
攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに、3−(2,5-
ジクロロベンゾイル)ベンゼンスルホン酸ネオペンチル31.5g(78.5mmol)、(1)で得られた疎水性ユニット12.0g(1.50mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロリド1.57g(2.4mmol)、ヨウ化ナトリウム0.36g(2.4mmol)、トリフェニルホスフィン8.39g(0.032mmol)および亜鉛12.6g(192mmol)をはかりとり、乾燥窒素置換した。ここにN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)96mlを加え、反応温度を80℃に保持しながら3時間攪拌を続けた後、DMAc168mlを加えて希釈し、不溶物をろ過した。
得られた溶液を、攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに入れ、115℃に加熱し、臭化リチウム15.0g(173mmol)を加えた。7時間加熱攪拌後、アセトン5Lに注いで生成物を沈殿させた。次いで、1N塩酸、純水の順に洗浄後、乾燥して目的のスルホン化ポリマー29.8gを得た。得られた重合体の重量平均分子量(Mw)は、180,000であった。
〔実施例5〕
(1)疎水性ユニットの合成
攪拌機、温度計、Dean-stark管、窒素導入管および冷却管を取り付けた1L三口フラスコに、4,4’−(1,3−ジメチルイソブチリデン)ビスフェノール61.1g(22
6mmol),4,4’−ジクロロジフェニルスルホン61.1g(210mmol)、炭酸カリウム40.6g(294mmol)をはかりとった。窒素置換後、スルホラン340mlおよびトルエン170mlを加えて攪拌し、オイルバスで反応液を150℃で加熱還流させた。反応によって生成する水はDean-stark管にトラップした。3時間後、水の生成がほとんど認められなくなったところで、トルエンをDean-stark管から系外に除去した。徐々に反応温度を200℃に上げ、5時間攪拌を続けた。次に、4,4’−ジクロロベンゾフェノン12.2g(48mmol)、4,4'−(1,3−ジメチルイソブチリデン)ビスフェノール4.33g(16mmol)およびトルエン170mlを加え、さらに5時間反応させた。この間、反応温度を150℃から徐々に200℃に上げ、トルエンを系外に除去しながら反応を進めた。
反応液を放冷後、トルエン200mlを加えて希釈した。反応液に不溶の無機塩をろ過し、ろ液をメタノール4Lに注いで生成物を沈殿させた。沈殿した生成物をろ過、乾燥後、テトラヒドロフラン400mlに溶解し、これをメタノール4Lに注いで再沈殿させた。沈殿した白色粉末をろ過、乾燥し、疎水性ユニット122gを得た。GPCで測定した数平均分子量(Mn)は8,000であった。得られた疎水性ユニットは式(V)で表されるオリゴマーであることを確認した。
Figure 2006176682
(2)スルホン化ポリマーの合成
攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに、3−(2,5-
ジクロロベンゾイル)ベンゼンスルホン酸ネオペンチル31.5g(78.5mmol)、(1)で得られた疎水性ユニット12.0g(1.50mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロリド1.57g(2.4mmol)、ヨウ化ナトリウム0.36g(2.4mmol)、トリフェニルホスフィン8.39g(0.032mmol)および亜鉛12.6g(192mmol)をはかりとり、乾燥窒素置換した。ここにN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)96mlを加え、反応温度を80℃に保持しながら3時間攪拌を続けた後、DMAc168mlを加えて希釈し、不溶物をろ過した。
得られた溶液を、攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに入れ、115℃に加熱し、臭化リチウム15.0g(173mmol)を加えた。7時間加熱攪拌後、アセトン5Lに注いで生成物を沈殿させた。次いで、1N塩酸、純水の順に洗浄後、乾燥して目的のスルホン化ポリマー29.8gを得た。得られた重合体の重量平均分子量(Mw)は、180,000であった。
〔実施例6〕
(1)疎水性ユニットの合成
攪拌機、温度計、Dean-stark管、窒素導入管および冷却管を取り付けた1L三口フラスコに、4,4’−シクロヘキシリデンビスフェノール26.8g(100mmol)、1,4−ビス(4−クロロベンゾイル)ベンゼン39.1g(110mmol)および炭酸カリウム20.0g(130mmol)をはかりとった。窒素置換後、スルホラン300mlおよびトルエン150mlを加えて攪拌し、オイルバスで反応液を150℃で加熱還流させた。反応によって生成する水はDean-stark管にトラップした。3時間後、水の生成がほとんど認められなくなったところで、トルエンをDean-stark管から系外に除去した。徐々に反応温度を200℃に上げ、5時間攪拌を続けた後、1,3−ビス(4−クロロベンゾイル)ベンゼン10.7g(30mmol)を加え、さらに8時間反応させた。
反応液を放冷後、トルエン100mlを加えて希釈した。反応液に不溶の無機塩をろ過し、ろ液をメタノール2Lに注いで生成物を沈殿させた。沈殿した生成物をろ過、乾燥後、テトラヒドロフラン250mlに溶解し、これをメタノール2Lに注いで再沈殿させた。沈殿した白色粉末をろ過、乾燥し、疎水性ユニット52.2gを得た。GPCで測定した数平均分子量(Mn)は8,800であった。得られた疎水性ユニットは式(VI)で表されるオリゴマーであることを確認した。
Figure 2006176682
(2)スルホン化ポリマーの合成
攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに、3−(2,5-
ジクロロベンゾイル)ベンゼンスルホン酸ネオペンチル31.5g(78.6mmol)、(1)で得られた疎水性ユニット12.0g(1.36mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロリド1.57g(2.4mmol)、ヨウ化ナトリウム0.36g(2.4mmol)、トリフェニルホスフィン8.39g(0.032mmol)および亜鉛12.6g(192mmol)をはかりとり、乾燥窒素置換した。ここにN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)96mlを加え、反応温度を80℃に保持しながら3時間攪拌を続けた後、DMAc168mlを加えて希釈し、不溶物をろ過した。
得られた溶液を、攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに入れ、115℃に加熱し、臭化リチウム15.0g(173mmol)を加えた。7時間加熱攪拌後、アセトン5Lに注いで生成物を沈殿させた。次いで、1N塩酸、純水の順に洗浄後、乾燥して目的のスルホン化ポリマー29.5gを得た。得られた重合体の重量平均分子量(Mw)は、180,000であった。
〔実施例7〕
(1)疎水性ユニットの合成
撹拌機、温度計、冷却管、Dean-Stark管および窒素導入の三方コックを取り付けた1Lの三つ口のフラスコに、4,4’−デシリデンビスフェノール27.8g(85mmol)、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン5.3g(15mmol)、4,4’−ジクロロベンゾフェノン27.6g(110mmol)および炭酸カリウム20g(130mmol)をはかりとった。窒素置換後、スルホラン300mlおよびトルエン150mlを加えて攪拌し、オイルバスで反応液を150℃で加熱還流させた。反応によって生成する水はDean-stark管にトラップした。3時間後、水の生成がほとんど認められなくなったところで、トルエンをDean-stark管から系外に除去した。徐々に反応温度を200℃に上げ、5時間攪拌を続けた後、4,4’−ジクロロベンゾフェノン7.53g(30mmol)を加え、さらに8時間反応させた。
反応液を放冷後、トルエン100mlを加えて希釈した。反応液に不溶の無機塩をろ過し、ろ液をメタノール2Lに注いで生成物を沈殿させた。沈殿した生成物をろ過、乾燥後、テトラヒドロフラン250mlに溶解し、これをメタノール2Lに注いで再沈殿させた。沈殿した白色粉末をろ過、乾燥し、疎水性ユニット41.2gを得た。GPCで測定した数平均分子量(Mn)は9,200であった。得られた疎水性ユニットは式(VII)で
表されるオリゴマーであることを確認した。
Figure 2006176682
(2)スルホン化ポリマーの合成
攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに、3−(2,5-
ジクロロベンゾイル)ベンゼンスルホン酸ネオペンチル31.5g(78.6mmol)、(1)で得られた疎水性ユニット12.0g(1.36mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロリド1.57g(2.4mmol)、ヨウ化ナトリウム0.36g(2.4mmol)、トリフェニルホスフィン8.39g(0.032mmol)および亜鉛12.6g(192mmol)をはかりとり、乾燥窒素置換した。ここにN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)96mlを加え、反応温度を80℃に保持しながら3時間攪拌を続けた後、DMAc168mlを加えて希釈し、不溶物をろ過した。
得られた溶液を、攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに入れ、115℃に加熱し、臭化リチウム15.0g(173mmol)を加えた。7時間加熱攪拌後、アセトン5Lに注いで生成物を沈殿させた。次いで、1N塩酸、純水の順に洗浄後、乾燥して目的のスルホン化ポリマー29.6gを得た。得られた重合体の重量平均分子量(Mw)は、187,000であった。
〔比較例1〕
(1)疎水性ユニットの合成
撹拌機、温度計、冷却管、Dean-Stark管および窒素導入の三方コックを取り付けた1Lの三つ口のフラスコに、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン(ビスフェノールAF)50.4g(0.15mol)、4,4'−ジクロロベンゾフェノン(4,4'−DCBP)40.2g(0.16mol)、炭酸カリウム27.0g(0.20mol)、スルホラン300mLおよびトルエン150mLをはかりとった。これを窒素雰囲気下で攪拌し、オイルバスで加熱して130℃で反応させた。反応により生成する水をトルエンと共沸させ、Dean-Stark管で系外に除去しながら反応させると、約3時間で水の生成がほとんど認められなくなった。反応温度を130℃から徐々に200℃まで上げながら大部分のトルエンを除去し、200℃で10時間反応を続けた後、4,4'−DCBP16.1g(0.064mol)を加え、さらに5時間反応させた。
得られた反応液を放冷後、副生した無機化合物の沈殿物を濾過除去し、濾液を4Lのメタノール中に注いで生成物を沈殿させた。沈殿した生成物を濾過、乾燥後、テトラヒドロフラン300mLに溶解した。これをメタノール4Lに再沈殿させ、疎水性ユニット65.7g(収率85%)を得た。GPC(THF溶媒)で求めたポリスチレン換算の重量平均分子量は11,200であった。また、得られた疎水性ユニットはTHF、NMP、D
MAc、スルホランなどに可溶で、Tgは110℃、熱分解温度は498℃であった。
(2)スルホン化ポリマーの合成
攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに、3−(2,5-
ジクロロベンゾイル)ベンゼンスルホン酸ネオペンチル39.5g(98.7mmol)、(1)で得られた疎水性ユニット15.1g(1.35mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロリド1.96g(3.00mmol)、ヨウ化ナトリウム
0.45g(3.0mmol)、トリフェニルホスフィン10.5g(40.0mmol)および亜鉛15.7g(240mmol)をはかりとり、乾燥窒素置換した。ここにN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)126mlを加え、反応温度を80℃に保持しながら3時間攪拌を続けた後、DMAc168mlを加えて希釈し、不溶物をろ過した。
得られた溶液を、攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに入れ、115℃に加熱し、臭化リチウム18.8g(217mmol)を加えた。7時間加熱攪拌後、アセトン5Lに注いで生成物を沈殿させた。次いで、1N塩酸、純水の順に洗浄後、乾燥して目的のスルホン化ポリマー38.9gを得た。得られた重合体の重量平均分子量(Mw)は、178,000であった。
〔比較例2〕
(1)疎水性ユニットの合成
攪拌機、温度計、Dean-stark管、窒素導入管および冷却管を取り付けた1L三口フラスコに、メチレンビスフェノール20.2g(100mmol)、2,6−ジクロロベンゾニトリル18.9g(110mmol)および炭酸カリウム20.0g(130mmol)をはかりとった。窒素置換後、スルホラン300mlおよびトルエン150mlを加えて攪拌し、オイルバスで反応液を150℃で加熱還流させた。反応によって生成する水はDean-stark管にトラップした。3時間後、水の生成がほとんど認められなくなったところで、トルエンをDean-stark管から系外に除去した。徐々に反応温度を200℃に上げ、5時間攪拌を続けた後、2,6−ジクロロベンゾニトリル5.16g(30mmol)を加え、さらに8時間反応させた。
反応液を放冷後、トルエン100mlを加えて希釈した。反応液に不溶の無機塩をろ過し、ろ液をメタノール2Lに注いで生成物を沈殿させた。沈殿した生成物をろ過、乾燥後、テトラヒドロフラン250mlに溶解し、これをメタノール2Lに注いで再沈殿させた。沈殿した白色粉末をろ過、乾燥し、疎水性ユニット28.3gを得た。GPCで測定した数平均分子量(Mn)は7,900であった。
(2)スルホン化ポリマーの合成
攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに、3−(2,5-
ジクロロベンゾイル)ベンゼンスルホン酸ネオペンチル31.5g(78.5mmol)、(1)で得られた疎水性ユニット12.0g(1.50mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロリド1.57g(2.4mmol)、ヨウ化ナトリウム0.36g(2.4mmol)、トリフェニルホスフィン8.39g(0.032mmol)および亜鉛12.6g(192mmol)をはかりとり、乾燥窒素置換した。ここにN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)96mlを加え、反応温度を80℃に保持しながら3時間攪拌を続けた後、DMAc168mlを加えて希釈し、不溶物をろ過した。
得られた溶液を、攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに入れ、115℃に加熱し、臭化リチウム15.0g(173mmol)を加えた。7時間加熱攪拌後、アセトン5Lに注いで生成物を沈殿させた。次いで、1N塩酸、純水の順に洗浄後、乾燥してスルホン化ポリマー29.4gを得た。得られた重合体の重量平均分子量(Mw)は、176,000であった。
〔比較例3〕
(1)疎水性ユニットの合成
攪拌機、温度計、Dean-stark管、窒素導入管および冷却管を取り付けた1L三口フラスコに、ビフェノール18.6g(100mmol)、4,4'−ジクロロベンゾフェノン27.6g(110mmol)および炭酸カリウム20.0g(130mmol)をはかり
とった。窒素置換後、スルホラン300mlおよびトルエン150mlを加えて攪拌し、オイルバスで反応液を150℃で加熱還流させた。反応によって生成する水はDean-stark管にトラップした。3時間後、水の生成がほとんど認められなくなったところで、トルエンをDean-stark管から系外に除去した。徐々に反応温度を200℃に上げ、5時間攪拌を続けた後、4,4'−ジクロロベンゾフェノン7.53g(30mmol)を加え、さらに8時間反応させた。
反応液を放冷後、トルエン100mlを加えて希釈した。反応液に不溶の無機塩をろ過し、ろ液をメタノール2Lに注いで生成物を沈殿させた。沈殿した生成物をろ過、乾燥後、テトラヒドロフラン250mlに溶解し、これをメタノール2Lに注いで再沈殿させた。沈殿した白色粉末をろ過、乾燥し、疎水性ユニット33.3gを得た。GPCで測定した数平均分子量(Mn)は8,400であった。
(2)スルホン化ポリマーの合成
攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに、3−(2,5-
ジクロロベンゾイル)ベンゼンスルホン酸ネオペンチル31.5g(78.6mmol)、(1)で得られた疎水性ユニット12.0g(1.42mmol)、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケルジクロリド1.57g(2.4mmol)、ヨウ化ナトリウム0.36g(2.4mmol)、トリフェニルホスフィン8.39g(0.032mmol)および亜鉛12.6g(192mmol)をはかりとり、乾燥窒素置換した。ここにN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)96mlを加え、反応温度を80℃に保持しながら3時間攪拌を続けた後、DMAc168mlを加えて希釈し、不溶物をろ過した。
得られた溶液を、攪拌機、温度計および窒素導入管を取り付けた1Lの三口フラスコに入れ、115℃に加熱し、臭化リチウム15.0g(173mmol)を加えた。7時間加熱攪拌後、アセトン5Lに注いで生成物を沈殿させた。次いで、1N塩酸、純水の順に洗浄後、乾燥してスルホン化ポリマー29.9gを得た。得られた重合体の重量平均分子量(Mw)は、186,000であった。
〔電解質膜の作製〕
実施例および比較例で得られた各ポリマーを、N−メチル―2−ピロリドン:メタノール=1:1(重量比)混合溶剤に、固形分濃度が15wt%になるように溶解させた。これをドクターブレードを用いて、PETフィルム上にキャストし、120℃で1時間乾燥し、厚さ40μmの電解質膜(プロトン伝導膜)を得た。
〔評価〕
実施例および比較例で得られた疎水性ユニット、スルホン化ポリマーおよび該スルホン化ポリマーを用いて作製した電解質膜の評価を以下のようにして行った。結果を表1に示す。
<構造解析(NMR測定)>
疎水性ユニットについてはCDCl3に溶解し、また、スルホン酸基を有しないポリア
リーレンおよびスルホン酸基を有するポリアリーレンについては、DMSO−d6に1〜10wt%の固形分濃度となるように溶解し、500MHz−NMR(BRUKER社製)を用いてスペクトルを測定して構造解析を行った。
<分子量の測定>
スルホン酸基を有しないポリアリーレンの分子量は、溶剤としてテトラヒドロフラン(THF)を用い、GPCによって、ポリスチレン換算の分子量を求めた。スルホン酸基を有するポリアリーレンの分子量は、溶剤として臭化リチウムおよび燐酸を添加したN−メ
チル−2−ピロリドン(NMP)を用い、GPCによって、ポリスチレン換算の分子量を求めた。
<イオン交換容量>
得られたスルホン化ポリマーの水洗水が中性になるまで洗浄し、フリーに残存している酸を除いて充分に水洗し、乾燥後、所定量を秤量し、THF/水の混合溶剤に溶解したフェノールフタレインを指示薬とし、NaOHの標準液を用いて滴定を行い、中和点からイオン交換容量を求めた。
<プロトン伝導度>
交流抵抗は、5mm幅の短冊状にカットした各電解質膜の表面に、白金線(Φ=0.5mm)を押し当て、恒温恒湿装置((株)ヤマト科学製「JW241」)中に試料を保持し、白金線間の交流インピーダンス測定から求めた。すなわち、85℃、相対湿度90%の環境下で交流10kHzにおけるインピーダンスを測定した。抵抗測定装置としては、(株)NF回路設計ブロック製のケミカルインピーダンス測定システムを用いた。白金線は、5mm間隔に5本押し当てて、線間距離を5〜20mmに変化させて交流抵抗を測定した。下記式に従って、線間距離と抵抗の勾配から膜の比抵抗を算出し、比抵抗の逆数から交流インピーダンスを算出し、このインピーダンスからプロトン伝導度を算出した。
比抵抗R(Ω・cm)=0.5(cm)×膜厚(cm)×抵抗線間勾配(Ω/cm)
プロトン伝導度(S/cm)=1/比抵抗R(Ω・cm)
<熱変形温度>
得られた各電解質膜を、5mm×30mmの短冊状にカットし、サンプルを作製した。これを動的粘弾性測定器(レオメトリック・サイエンティフィック・エフ・イー(株)社製「RSAII」)を用いて、各電解質膜の熱変形温度を測定した。
Figure 2006176682
本発明の重合体は、良好なプロトン伝導度を有するとともに、熱変形温度が165℃以下であるので、他材料との密着性および加工性に優れるものである。
実施例3で得られた疎水性ユニットのNMRスペクトルである。 実施例3で得られたスルホン化ポリマーのNMRスペクトルである。

Claims (4)

  1. 下記一般式(1m)で表されることを特徴とする化合物。
    Figure 2006176682
    [式中、Aは−CR12−(R1およびR2は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、R1とR2とが結合して環を形成してもよく、R1およびR2の少なくとも一方が炭素数2以上のアルキル基または炭素数2以上のハロゲン化アルキル基である。)で表される基であり、
    Bは独立に酸素原子または硫黄原子であり、
    Dは独立に−CO−、−SO2−または直接結合であり、
    3〜R10は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基
    または少なくとも一部がハロゲン化されたハロゲン化アルキル基であり、
    11〜R18は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基、少なくとも一部がハロゲン化されたハロゲン化アルキル基、ニトロ基またはニトリル基であり、
    Xは、フッ素を除くハロゲン原子、−OSO2CH3または−OSO2CF3であり、
    mは0以上の整数であり、nは1以上の整数である。]
  2. 下記一般式(1m)で表されることを特徴とする化合物。
    Figure 2006176682
    [式中、Aは、
    (A−1)−CR12−(R1およびR2は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはハロゲン化アルキル基であり、R1とR2とが結合して環を形成してもよく、R1およびR2の少なくとも一方が炭素数2以上のアルキル基または炭素数2以上のハロゲン化アルキル基である。)で表される基、または
    (A−2)直接結合、−C(CH32−、−C(CF32−、−CO−、−COO−、−CONH−、−(CF2p−(pは1〜10の整数である。)、−SO2−および下記式
    (a)で表される基;
    Figure 2006176682
    から選ばれる少なくとも1種であり、該化合物中に(A−1)および(A−2)の両方の基を有し、
    Bは独立に酸素原子または硫黄原子であり、
    Dは独立に−CO−、−SO2−または直接結合であり、
    3〜R10は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基
    または少なくとも一部がハロゲン化されたハロゲン化アルキル基であり、
    11〜R18は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、アルキル基、少なくとも一部がハロゲン化されたハロゲン化アルキル基、ニトロ基またはニトリル基であり、
    Xは、フッ素を除くハロゲン原子、−OSO2CH3または−OSO2CF3であり、
    mは0以上の整数であり、nは1以上の整数である。]
  3. 請求項1または2に記載の化合物から導かれる構成単位を有することを特徴とするポリアリーレン系重合体。
  4. 下記一般式(2)で表される構成単位をさらに含有することを特徴とする請求項3に記載のポリアリーレン系重合体。
    Figure 2006176682
    [式中、Yは2価の電子吸引性基であり、Zは2価の電子供与性基または直接結合であり、Arは−SO3Hで表される置換基を有する芳香族基であり、jは0〜4の整数であり
    、kは0〜10の整数であり、lは0〜10の整数である。]

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