JP2006153709A - 浮遊粒子分析装置および浮遊粒子分析方法 - Google Patents

浮遊粒子分析装置および浮遊粒子分析方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 浮遊粒子の比重が特定可能な浮遊粒子分析装置および浮遊粒子分析方法の提供を課題とする。
【解決手段】 本発明において、分級管13によって浮遊粒子を質量ごとに分散させ、撮影することにより、浮遊粒子の径dと位置xとを取得することができる。そして、径dと位置xと比重ρとの対応関係を予め用意しておくことにより、径dと位置xとから比重ρを推定することができる。このようにすることにより、物質固有の比重ρを得ることができるため、浮遊粒子の素材や発生源を容易に特定することができる。
【選択図】 図12

Description

本発明は、流体中に浮遊する浮遊粒子についての分析を行う浮遊粒子分析装置および浮遊粒子分析方法に関する。
従来、この種の浮遊粒子分析装置として、気流に静電界を印加することにより浮遊粒子の粒径に依存した軌道をとらせ、その軌道毎に浮遊粒子の数量を計測することで同浮遊粒子の粒径分布を特定するものが知られている。(例えば、特許文献1、図1、参照。)。
かかる構成によれば、浮遊粒子の粒径分布を得ることができるため、浮遊粒子の特性や出所をある程度特定することができた。
特開2003−194700号公報
しかしながら、上述したような従来の浮遊粒子分析装置において、浮遊粒子の粒径分布は特定できるものの、浮遊粒子の比重を特定することができないという課題があった。クリーンルームやクリーンマシーン等における浮遊粒子の分析において、その比重を特定することは浮遊粒子の発生源や発生原因を調査する上で重要な手がかりとなる。浮遊粒子の比重が分かれば、ほぼ一義的に浮遊粒子の成分が特定できるからである。浮遊粒子の成分が判別できれば、その成分を使用している部位を絞り込み、不具合箇所を特定することができる。
これに対して、浮遊粒子の粒径のみが特定できても、浮遊粒子の大きさが分かるのみで、浮遊粒子の成分を特定することができない。なお、クリーンルームやクリーンマシーン等における浮遊粒子の発生源や発生原因の調査においては、浮遊粒子を採取し、同浮遊粒子の成分をFT−IR等といった成分分析手法を用いて特定しなければならず、非常に煩雑であった。
本発明は、上記課題にかんがみてなされたもので、浮遊粒子の比重が特定可能な浮遊粒子分析装置および浮遊粒子分析方法の提供を目的とする。
上記目的を達成するため、請求項1にかかる発明では、流体中に浮遊する浮遊粒子についての分析を行う浮遊粒子分析装置において、
上記流体をコーナーに沿って湾曲させることにより、上記浮遊粒子を質量に応じて同コーナーの下流に設けられた検出エリア上の異なる位置に分散させる分級手段と、上記検出エリアを撮像する撮像手段と、この撮像手段にて撮像されたイメージから上記浮遊粒子の径と、同浮遊粒子の上記検出エリア上における位置とを特定する浮遊粒子検出手段と、上記浮遊粒子の径と上記検出エリア上における位置とから上記浮遊粒子の比重を推定する比重推定手段とを具備する構成としてある。
上記のように構成した請求項1の発明において、分級手段は浮遊粒子が混在する流体を所定のコーナーに沿って湾曲させる。上記コーナーにおいて上記流体は同コーナーに沿って湾曲しようとするが、上記浮遊粒子には湾曲以前の進行方向の慣性力がその質量に応じて作用しているため、同浮遊粒子は質量毎に異なる軌道をとることとなる。従って、上記浮遊粒子は、上記コーナーの下流に設けられた検出エリアにおける異なる位置に到達し、質量毎に分散することとなる。撮像手段は、上記検出エリアを撮像する。浮遊粒子検出手段は、この撮像手段にて撮像されたイメージから上記浮遊粒子の径と、同浮遊粒子の上記検出エリア上における位置とを特定する。
上記分級手段によって上記浮遊粒子は質量毎に異なる軌道をとるため、上記浮遊粒子の上記検出エリア上における位置と上記浮遊粒子の質量とは相関するといえる。また、上記浮遊粒子の径と同浮遊粒子の体積も相関するといえるため、上記浮遊粒子の径と上記検出エリア上における位置とから単位体積あたりの質量を意味する上記浮遊粒子の比重を推定することができる。比重は物質固有の値であるため上記浮遊粒子の比重から、同浮遊粒子の成分を特定することができる。
また、請求項2にかかる発明は、上記分級手段は、上記浮遊粒子が上記コーナーを通過する際の同コーナーに対する同浮遊粒子の距離を一定化させる初期化手段を備える構成としてある。
上記のように構成した請求項2の発明において、初期化手段は上記浮遊粒子が上記コーナーを通過する際の同コーナーに対する同浮遊粒子の距離を一定化させる。このようにすることにより、上記コーナーが上記浮遊粒子の軌道に与える影響を均一化させることができる。
さらに、請求項3にかかる発明は、上記初期化手段は、上記流体が旋回する際の上記浮遊粒子に作用する遠心力により上記浮遊粒子を一定位置に幅寄せする構成としてある。このようにすることにより、上記浮遊粒子のみを幅寄せすることができ、上記流体の圧力損失等を軽減することができる。
上記のように構成した請求項3の発明において、上記初期化手段が上記流体を旋回させることにより、上記流体に浮遊する上記浮遊粒子を遠心方向に幅寄せすることができる。上記浮遊粒子を幅寄せすることにより、上記コーナーを通過する際の同コーナーに対する同浮遊粒子の距離を一定化させることができる。
さらに、請求項4にかかる発明は、上記初期化手段は、上記コーナーに対する噴出位置が一定である細孔ノズルに上記流体を通過させる構成としてある。
上記のように構成した請求項4の発明において、上記流体が上記コーナーを通過するにあたり、予め同コーナーに対する噴出位置が一定である細孔ノズルに上記流体を通過させておく。これにより、上記浮遊粒子と上記流体が上記コーナーに対して一定位置を通過するようにすることができる。また、上記細孔ノズルにて上記流体を噴出させることにより、同流体を乱流とすることができる。
また、請求項5にかかる発明は、上記分級手段は、上記検出エリアにおける上記流体の速度差を緩和する同流体の補助流域を具備する構成としてある。
上記のように構成した請求項5の発明において、上記流体の流路に補助領域を設けることにより、上記検出エリアにおける上記流体の速度差を緩和することができる。
さらに、請求項6にかかる発明は、上記流体の流量を検出する流量検出手段と、上記流量と上記浮遊粒子検出手段にて特定された上記浮遊粒子の個数とから同流体単位体積当たりの同浮遊粒子数を特定するパーティクルカウント手段を具備する構成としてある。
上記のように構成した請求項6の発明において、上記流体の流量と、上記浮遊粒子の個数をそれぞれ検出すれば、こられから上記流体単位面積当たりの同浮遊粒子数を特定することができる。すなわち、上記浮遊粒子装置をパーティクルカウンタとしても機能させることができる。
さらに、請求項7にかかる発明は、上記撮像手段は、進行する上記流体を横切るように照射された平行光を受光する複数の撮像素子を具備する構成としてある。
上記のように構成した請求項7の発明において、進行する上記流体を横切るように平行光を照射し、この平行光を受光することにより上記検出エリアを撮像することができる。すなわち、上記平行光が通過する領域が上記検出エリアとなる。そして、上記平行光が上記流体を横切る間に上記浮遊粒子に行きあたった場合には、同浮遊粒子によって平行光が遮断され、対応する撮像素子においては受光されない。従って、受光されない上記撮像素子が存在することをもって上記浮遊粒子の存在、および、その位置を検出することができるし、受光されない同撮像素子の数によって同浮遊粒子の径を特定することができる。
さらに、請求項8にかかる発明は、上記撮像素子は上記検出エリアにおける上記流体の進行方向に直交し、かつ、上記コーナーにおける上記流体の侵入方向と平行となる線状に配列する構成としてある。
上記のように構成した請求項8の発明において、上記撮像素子を線状に配列させたラインセンサを使用しても良い。上記撮像素子を上記検出エリアにおける上記流体の進行方向に直交する線状に配列させることにより、同流体の流れに直交する面状の上記検出エリアを形成することができる。さらに、上記撮像素子を上記コーナーにおける上記流体の侵入方向と平行となる線状に配列することにより、同侵入方向に作用する上記浮遊粒子の慣性力によって同浮遊粒子が分散される方向に複数の同撮像素子を配列することができる。
また、上述した浮遊粒子分析の手法は、方法としても適用可能であり、請求項9にかかる発明においても、基本的には同様の作用となる。むろん、請求項2〜請求項8に記載された構成を請求項9の方法に対応させることも可能である。
以上説明したように、請求項1および請求項9にかかる発明によれば、浮遊粒子の比重が特定可能な浮遊粒子分析装置および浮遊粒子分析方法を提供することができる。
また、請求項2にかかる発明によれば、正確な分級を実現することができる。
さらに、請求項3にかかる発明によれば、流体の圧力損失を低減できる。
また、請求項4にかかる発明によれば、細孔ノズルにて乱流を起こし、コーナーにおけるコアンダ効果を効果的に発揮させることができる。
また、請求項5にかかる発明によれば、検出エリアの部位毎の検出結果に時間的なずれが発生することが防止できる。
さらに、請求項6にかかる発明によれば、パーティクルカウンタとしても機能させることができる。
また、請求項7にかかる発明によれば、遮光状態から浮遊粒子の通過を検出できる。
さらに、請求項8にかかる発明によれば、ラインセンサによって浮遊粒子を検出できる。
ここでは、下記の順序に従って本発明の実施形態について説明する。
(1)浮遊粒子分析装置の構成:
(2)浮遊粒子分析装置の動作:
(3)変形例:
(4)まとめ:
(1)浮遊粒子分析装置の構成:
図1は、本発明の第一の実施形態にかかる浮遊粒子分析装置の概略構成を示している。同図において、浮遊粒子分析装置100は、測定ユニット10と分析用コンピュータ(PC)50とから構成されている。浮遊粒子分析装置100は、略密閉空間であるクリーンルーム20の内部に浮遊する粒子を分析するために備えられている。クリーンルーム20の内部にはファン20aが備えられており、内部と外部とを連通させる吸気口40が設けられている。そして、ファン20aが駆動することによりクリーンルーム20の内部に負圧を生じさせ、吸気口40から内部に空気を吹き込ませることが可能となっている。さらに、吸気口40にHEPAフィルター等を備えることにより、流入空気を清浄化し、クリーンルーム20内にゴミや塵等の粒子が混入しないようになっている。
ファン20aが駆動することにより排気ダクト30にクリーンルーム20の内部の空気が送出される。排気ダクト30は略筒状に形成されており、先端から外部に空気を排出することが可能となっている。測定ユニット10は排気ダクト30に併設されている。なお、クリーンルーム20の内部においては半導体部品の製造や塗装等の不純物を嫌う作業が行われている。むろん、浮遊粒子分析装置100を半導体部品の製造装置や塗装装置等のクリーンマシーンに設置してもよいし、これらの装置に組み込んでもよい。また、クリーンルーム20は排気ダクト30にて排気を行うことができればよく、上述したものと異なる空気循環システムを採用してもよい。
図2は、浮遊粒子分析装置100の外部構成を斜めから見て示している。同図において、測定ユニット10は、吸気管11から始まり、排気管15にて終端する一続きの管路を構成しており、排気ダクト30に取り付けられている。測定ユニット10の両端に設けられた吸気管11と排気管15とが排気ダクト30の内部と連通している。排気管15には調整ファン16が備えられている。調整ファン16が駆動することにより、吸気管11と排気管15との圧力差が排気ダクト30における吸気管11と排気管15との接続部位の圧力差と同等とされている。従って、排気ダクト30と同様に測定ユニット10にクリーンルーム20の排気を流通させることが可能となっている。
吸気管11の一端は排気ダクト30に接続しており、もう一端は略円筒状に形成されたサイクロン容器12に接続している。図3は、サイクロン容器12を斜めから見て示している。同図において、本発明の初期化手段を構成するサイクロン容器12の下端に吸気管11の一端が接続し、同サイクロン容器12の上端には分級管13の一端が接続している。吸気管11はサイクロン容器12に対して反時計回りに空気を吹き込んでおり、分級管13はサイクロン容器12の接線方向に空気を導出することが可能となっている。
サイクロン容器12の内部には、断面ドーナツ状の中空空間12aが形成されており、吸気管11から同中空空間12aに吹き込まれた空気は反時計回りに旋回させられる。さらに、サイクロン容器12の中空空間12aには螺旋状の案内壁面12bが備えられている。従って、吸気管11から中空空間12aに吹き込まれた空気が案内壁面12bに沿うように旋回しつつ、分級管13が接続されたサイクロン容器12の上端に到達する。この上端においても空気が反時計回りに旋回するため、その接線方向に接続された分級管13に対してまっすぐ空気を導出することができる。
このように、サイクロン容器12には空気を旋回させることにより、空気中の浮遊粒子に遠心力を付与することができるため、同浮遊粒子をサイクロン容器12の外径付近に幅寄せしておくことができる。なお、サイクロン容器12に所定の高さを設け、螺旋状の案内壁面12bを形成することにより、旋回流路を長くすることができ、確実に浮遊粒子を幅寄せすることができる。また、サイクロン容器12によれば一様な流路断面を確保することができるため、測定ユニット10全体の圧力損失を軽減することができる。従って、調整ファン16を小型化することができる。
本発明の分級手段を構成する分級管13では、サイクロン容器12の外径壁面と接続する側の初期壁面13aに浮遊粒子が集中させることができる。図2において、分級管13は、浮遊粒子が集中される初期壁面13aを内側にして略L字状に屈曲させられている。図4は、分級管13の水平断面を見て示している。同図において、初期壁面13a側を内側としてコーナー13cにて、空気の流路が略直角に屈曲されている。分級管13の屈曲前後において空気の流路面積は一定となるように形成ているが、コーナー13cと対抗する部位については幅を広く形成することにより、流路面積が拡大された補助流域13dが設けらている。
図2において、分級管13が屈曲した後には直線筒状の分級部13bが設けられており、分級部13bは略箱状の測定部14の内部に導入されている。測定部14の筐体は遮光素材によって形成されている。分級部13bにおける測定部14の内部に導入された部位には、分級部13bに対して直交する平面状の検出エリアRが設けられている。図5は検出エリアRを斜めから見て示し、図6はエリアR付近の分級部13bの鉛直断面を見て示している。両図において、分級管13の壁面は遮光性を有する素材で形成されており、同壁面における検出エリアRの両端部位にはそれぞれ線状のスリット13b1,13b2が形成されており、同スリット13b1,13b2が形成された部位においてのみ外部から光の授受を行うことが可能となっている。
図6において、分級管13のスリット13b1が形成された壁面に沿うように光源ユニット14bが備えられている。光源ユニット14bはスリット13b1に線状の平行光を供給するために備えられており、所定の電源を得て発光するレーザー光源等の光源部14b1と、ノンガウスレンズ14b2と、三角プリズム14b3とから構成されている。光源部14b1は点光源であるものの発光された光がノンガウスレンズ14b2と三角プリズム14b3とを経ることにより平行光に変換されるとともに、検出エリアRに沿う方向に屈曲される。なお、図5は検出エリアRに沿って進行する平行光を破線によって示している。むろん、平行光を発生させるための光学系は、上述したものに限られず、他の光学系を利用してもよい。例えば、球面平凸レンズや長尺プリズムロッド等を利用して平行光を生成してもよい。
スリット13b1を通過して分級部13bの内部に入射した平行光は検出エリアRに沿って鉛直に進行し、もう一方のスリット13b2に入射する。すなわち、線状スリット13b1とスリット13b2との間を平行光が通過することにより、分級部13bに直交する光路面が形成される。なお、この光路面を検出エリアRというものとする。一方、スリット13b2から分級部13bの外部に導出される平行光を待ち受ける部位に複数の撮像素子14a1を線状に配列させたCCDラインセンサ14aが備えられている。複数のCCD撮像素子14a1はスリット13b2に沿う方向に例えば7μmピッチで配列されており、それぞれが平行光を入射し、それに応じてそれぞれ電荷を生成させることが可能となっている。この電荷は、順次、分析用PC50に送り出される。
図2において、分級部13bにおける検出エリアRの下流部位は再び測定部14の外側に導出されており、当該部位には流量計17が備えられている。流量計17は当該部位を通過する空気の流量を測定することが可能であり、例えば質量流量計や容積流量計や渦流量計や超音波流量計等を適用することができる。なお、測定ユニット10は一続きの管路であり空気が大きな状態変化をすることもないため、流量計17における測定流量が測定ユニット10全体の流量を示すと考えてよい。流量計17が取り付けられた部位のさらに下流には上述した調整ファン16が備えられており、調整ファン16の下流には排気管15が接続されている。
図7は、分析用PC50の概略構成を模式的に示している。分析用PC50は汎用的なコンピュータであり、主要な構成としてCPU51とRAM52とROM53とハードディスク(HDD)54を備えている。CPU51は、ROM53やHDD54に記憶されたプログラムを読み出して、RAM52をワークエリアとして利用しつつ同プログラムにしたがった演算処理を実行させる。なお、RAM52にはCCDラインセンサ14aによって撮影された画像データを一時的に記憶するデータエリアも割り当てられている。そして、CPU51が演算処理をして得られた分析結果等のデータがHDD54に記憶される。
CPU51には、各種インターフェイス(I/F)55,56,57を介して測定ユニット10の流量計17と光源ユニット14bとCCDラインセンサ14aとが接続されている。また、ビデオI/F58を介してディスプレイ59も接続されており、分析結果等を映像によって使用者に伝達することが可能となっている。むろん、ディスプレイ59以外の出力装置としてプリンタ等を接続し、印刷媒体によって分析結果等を記録してもよい。
(2)浮遊粒子分析装置の動作:
クリーンルーム20のファン20aは断続的に駆動しており、測定ユニット10には断続的に排気が流入する。このとき、調整ファン16が駆動され測定ユニット10の負圧が制御される。分析用PC50においては浮遊粒子分析用のプログラムが実行されており、同プログラムを実行するCPU51の指令によって流量計17と光源ユニット14bとCCDラインセンサ14aが常時動作させられている。CCDラインセンサ14aは、複数のCCD撮像素子14a1における撮影と、電荷の送出とを繰り返し行っている。各CCD撮像素子14a1から送出された電荷はI/F57を介して増幅やA/D変換され、各CCD撮像素子14a1に対応した複数の画素データからなるデジタル画像データが生成される。すなわち、各CCD撮像素子14a1が受光した光量に対応する階調を各画素が有する画像データが生成される。なお、CCDラインセンサ14aにおける撮影と画像データの生成との繰り返し周波数を意味するスキャン周波数は、例えば1.0MHzとされている。
図4において、コーナー13cに到達した空気は分級管13の形状に沿って湾曲気流となる。初期壁面13aに沿って進行する浮遊粒子も気流の湾曲とともに進行方向を転換しようとする。しかしながら、浮遊粒子は空気よりも質量が大きく作用する慣性力が大きいため、湾曲気流との摩擦力に抗して直進しようとする。特に、質量が大きい浮遊粒子においてはコーナー13c到達直前の初速が維持され、初期壁面13aに沿った方向の飛翔距離が長くなる。一方、質量が小さい浮遊粒子においてはコーナー13c到達直前の初速が空気との摩擦によって打ち消され、初期壁面13aに沿った方向の飛翔距離が短くなり、分級部13bの内側壁面に沿った位置を進行することとなる。なお、浮遊粒子の形状等も飛翔距離に影響するが、慣性力の寄与が大きいため、質量に応じて浮遊粒子が分散されると考えてよい。
このように、分級管13における屈曲後の分級部13bにおいては幅方向に質量の異なる浮遊粒子を分散させることができる。そして、分級部13bにおいて幅方向に質量の異なる浮遊粒子が分散する気流は、分級部13bに沿って整流され、そのまま検出エリアRに直交する。なお、気流の湾曲箇所に補助流域13dを形成することにより、空気の密度の偏りが緩和されるため、検出エリアRに流れ込む気流の速度を均一化することができる。一方、検出エリアRにおいて平行光は鉛直に走査するため、図8に示すように水平方向に分散された浮遊粒子を垂直に投影した画像をCCDラインセンサ14aにて撮像することが可能となっている。言い換えれば、CCDラインセンサ14aの各CCD撮像素子14a1は分級管13による浮遊粒子の分散方向に分布しており、CCDラインセンサ14aによる画像データから浮遊粒子の分散状態を取得することが可能となっている。
同図において、検出エリアRにおけるコーナー13c側に軽い浮遊粒子が分布し、コーナー13cの反対側に重い浮遊粒子が分布する。また、浮遊粒子が位置する部位については平行光が遮光されるため、対応する位置の各CCD撮像素子14a1においては平行光が受光されない。従って、画像データにおいて受光されなかった画素を特定することにより、浮遊粒子が通過したことと、同浮遊粒子の重さを特定することができる。なお、サイクロン容器12によってコーナー13cに対する浮遊粒子の位置が揃えられているため、浮遊粒子ごとに分散前の初期位置が分散後の位置に影響を与えることはない。また、サイクロン容器12のような長い経路を流通する間に浮遊粒子が気流に追従して進行するため、各浮遊粒子がコーナー13cに到達する際の初期速度も一定であると考えることができる。
図9は、CCDラインセンサ14aによって撮影された画像データを模式的に示している。例えば、同図下段に示すような形状の浮遊粒子が検出エリアRを通過したとする。図8に示したように浮遊粒子によって平行光が遮光されるため、浮遊粒子が検出エリアRを通過する際には浮遊粒子が投影されるCCD撮像素子14a1においては光が受光されない。従って、画像データにおいては受光されないCCD撮像素子14a1に対応する画素が低階調となる。同図上段では、所定の閾値よりも低階調となる画素を黒く示し、同閾値よりも低階調となる画素を白く示している。
CCD撮像素子14a1の配列方向に対して垂直に平行光が入射するため、受光されないCCD撮像素子14a1の幅方向位置を浮遊粒子が通過したと考えることができる。従って、画像データにおける黒画素の位置から浮遊粒子の通過位置を特定することができる。画像データにおける黒画素の連続数によって浮遊粒子の径を特定することができる。例えば、7μmピッチでCCD撮像素子14a1が配列し、黒画素が5画素連続した場合には、35μmの径を有する浮遊粒子が検出エリアRを通過したと考えることができる。一方、CCDラインセンサ14aにおけるスキャン周期は1.0MHzであるため、時間的に不連続な画像データが生成されることとなる。
例えば、図9下段に示す浮遊粒子が0.1m/secで検出エリアRを通過したとすると、浮遊粒子が0.1μm進行するごとにCCDラインセンサ14aにて撮影が行われ、それぞれのタイミングで画像データが生成されることとなる。図9上段では100フレームごとの画像データを模式的に示している。100フレームごとに撮影される画像は、同図下段に示すように浮遊粒子を10umずつずらして撮影した画像と同様となる。従って、浮遊粒子の全体にわたって径を検出することができる。
図10は、順次生成される画像データから浮遊粒子の径を特定するための処理の流れを示している。同図において、ステップS100にて画像データが取得される。上述したとおりCCDラインセンサ14aのスキャン周波数は1.0MHzであり、これに追従するようにCPU51が画像データを生成し、RAM52に同画像データを更新させる。ステップS110においては画像データにおいて所定の階調を満たさない黒画素があるかどうかが判断され、ない場合には再びステップS100にて次のフレームデータを取得する。一方、黒画素が検出された場合にはステップS120にて、同黒画素の位置と径を検出する。図9上段の例のように複数の黒画素が連続する場合には、これらをひとまとまりとして以降の処理を行う。すなわち、CCD撮像素子14a1のピッチに黒画素群の連続数を乗算することにより径を算出するとともに、連続する黒画素群の中心の画素に対応するCCD撮像素子14a1の位置を特定する。
図9上段では、100フレーム目から200フレーム目の間のいずれかの画像データにおいて初めて黒画素(群)が検出され、ステップS120が実行される。それ以前においては、ステップS100とステップS110とが繰り返される。ステップS130においては、今回検出された黒画素(群)が前フレームで検出された黒画素(群)と同じ位置であるかどうかが判断される。今フレームまたは前フレームにおいて連続する黒画素群が検出された場合には、黒画素群に含まれるいずれかの黒画素の位置が一致する場合に同じ位置であると判断する。図9上段の例では、200フレーム目から500フレーム目まで、いずれかの黒画素が同じ位置に存在している。ステップS130において、前フレームの黒画素(群)の位置が同じでないと判断された場合には、ステップS140にて新たな浮遊粒子を投影した黒画素(群)であるとして、新たな浮遊粒子データを作成する。
図11は、浮遊粒子データが格納される浮遊粒子テーブルを示している。浮遊粒子テーブルT1はHDD54に作成されており、逐次、更新記憶される。同図において、浮遊粒子テーブルT1において、各浮遊粒子データにIDが付与されており、それぞれ径と位置と検出タイミング(フレーム番号)が記憶されている。ステップS140においては、新たなIDを作成し、ステップS120にて検出した径と位置とが当該IDと対応づけられた浮遊粒子データを浮遊粒子テーブルT11に格納する。ステップS140を実行すると、再びステップS100を実行し、次フレームデータを取得する。なお、ステップS130の判定を行う際には、浮遊粒子テーブルT1を参照し、直前のフレームで検出された浮遊粒子についての浮遊粒子データを取得することにより、黒画素(群)の位置の比較を行っている。
一方、ステップS130において、前フレームの黒画素(群)の位置が同じあると判断された場合には、すでに検出された浮遊粒子と同一の浮遊粒子が再度投影された黒画素(群)であるとして、新たな浮遊粒子データは作成しない。そして、ステップS150にて、直前のフレームにおいて同一の浮遊粒子について記憶された径と、今回、ステップS120で検出した径との比較を行い、これらのうち大きいもの浮遊粒子データに更新記録する。図9上段の例において300フレーム目と400フレーム目とを比較した場合に、400フレーム目の91μmが浮遊粒子の径として更新記録される。ステップS150にて径を更新記録すると同時に、今回のフレーム番号も浮遊粒子データに更新する。
以上説明した処理を繰り返し行うことにより、検出された浮遊粒子についての径と位置と検出タイミング(フレーム番号)とが記憶された浮遊粒子テーブルT1を作成することができる。なお、いずれのステップを経由してもステップS100は1.0MHzで繰り返される。また、気流の湾曲箇所に補助流域13dを形成することにより、検出エリアRに流れ込む気流の速度を均一化されているため、検出エリアRにおいて時間的なずれが発生することが防止されている。
例えば、ステップS100〜S160を数分間繰り返すことにより、この数分間において検出された浮遊粒子についての径と位置とフレーム番号とを得ることができる。むろん、検出された浮遊粒子の個数も特定することができる。一方、流量計17は測定ユニット10を流れる空気の量を常時測定しているため、ステップS100〜S160の繰り返し時間と流量計17の測定結果とから、積算流量を算出し、同積算数量で検出された浮遊粒子の個数を除算することにより、単位体積当たりの浮遊粒子の個数を算出することができる。すなわち、このような演算をCPU51が行うことにより、本浮遊粒子分析装置100をパーティクルカウンタとして機能させることができる。かかる構成によれば、レーザー回折等を使用することのない、簡易なパーティクルカウンタを提供することができる。
さらに、浮遊粒子テーブルT1に記録された径と位置とから比重を推定する。HDD54には浮遊粒子の径と位置と比重との対応関係が規定された対応テーブルT2が記憶されており、CPU51はROM53またはHDD54に記憶された所定のプログラムにしたがって同対応テーブルT2を参照し、径と位置とから比重を推定する。図12は、径と位置と比重との対応関係をグラフにして示している。同図において、縦軸が径dを示し、横軸が位置xを示している。そして、同グラフにおいて比重ρがρ<sub>1</sub>とρ<sub>2</sub>とρ<sub>3</sub>(ρ<sub>1</sub><ρ<sub>2</sub><ρ<sub>3</sub>)であるときの径dと位置xとの推移を示している。
なお、検出エリアRにおけるx=0とx=Lの位置については、図8に示すとおりである。すなわち、コーナー13cに近い側がx=0とされ、コーナー13cに遠い側がx=Lとされている。図12において、同一の径dの浮遊粒子において比重が大きいものほどコーナー13cから遠い位置(x=L)に飛翔することがわかる。また、同一の位置で検出された浮遊粒子において比重が小さい浮遊粒子ほど径が大きいことがわかる。このような相関関係は、シミュレーションによって推定することもできるし、実際に浮遊粒子を分級した実験結果から得ることもできる。いずれにしても、浮遊粒子の径dと位置xと比重ρとの対応関係が規定された対応テーブルT2が用意されていれば、径dと位置xとから比重ρを推定することができる。各浮遊粒子についての比重ρが推定できると、検出結果としてディスプレイ58に浮遊粒子の個数と比重ρと径dとを表示させる。
また、浮遊粒子の径dと位置xと比重ρとの対応関係が規定された対応テーブルT2の代わりに径dと位置xと比重ρとの関係式を用意し、この関数に径dと位置xとを代入することによって比重ρを算出してもよい。さらに、径dと位置xの全組合せについて対応関係を規定すると対応テーブルT2のデータ量や用意する関数が膨大となるため、代表的な組合せのみを規定した対応テーブルT2や関数を用意し、補間演算を行って中間の値を推定するようにしてもよい。
(3)変形例:
図13は、変形例にかかる分級管113の水平断面を示している。同図において、分級管113の上流にはサイクロン容器は接続されておらず、その代わりに細孔ノズル112が設置されている。細孔ノズル112は分級管113のコーナー113cに沿った略線状の細孔を有しており、同細孔から空気を噴出させる。このようにすることにより、浮遊粒子を空気とともにコーナー113cの近傍に揃えることができるため、コーナー113cにおける分級の初期条件を揃えることができる。さらに、細孔ノズル112によれば気流を乱流とすることができるため、コーナー113cの壁面に沿って気流を進行させるコアンダ効果を顕著とすることができる。従って、分級管113における分級を促進することができる。
(4)まとめ:
以上説明したように、本発明において、分級管13によって浮遊粒子を質量ごとに分散させ、撮影することにより、浮遊粒子の径dと位置xとを取得することができる。そして、径dと位置xと比重ρとの対応関係を予め用意しておくことにより、径dと位置xとから比重ρを推定することができる。このようにすることにより、物質固有の比重ρを得ることができるため、浮遊粒子の素材や発生源を容易に特定することができる。
浮遊粒子分析装置の全体図である。 浮遊粒子分析装置の斜視図である。 サイクロン容器の斜視図である。 分級管の水平断面図である。 検出エリアRの斜視図である。 分級部の鉛直断面図である。 浮遊粒子分析装置の構成ブロック図である。 検出エリアの正面図である。 画像データと浮遊粒子を示す図である。 浮遊粒子の径を検出する処理を示すフローチャートである。 浮遊粒子テーブルを示す表である。 浮遊粒子の径と位置と比重との対応関係を示すグラフである。 変形例にかかる分級管の水平断面図である。
符号の説明
10…測定ユニット
11…吸気管
12…サイクロン容器
12a…中空空間
12b…案内壁面
13,113…分級管
13a…初期壁面
13b…分級部
13b1,13b2…スリット
13c,113c…コーナー
13d…補助流域
14…測定部
14a…ラインセンサ
14a1…撮像素子
14b…光源ユニット
14b1…光源部
14b2…ノンガウスレンズ
14b3…三角プリズム
15…排気管
16…調整ファン
17…流量計
20…クリーンルーム
20a…ファン
30…排気ダクト
40…吸気口
50…分析用コンピュータ
51…CPU
52…RAM
53…ROM
54…HDD
100…浮遊粒子分析装置
112…細孔ノズル
R…検出エリア
T1…浮遊粒子テーブル
T2…対応テーブル

Claims (9)

  1. 流体中に浮遊する浮遊粒子についての分析を行う浮遊粒子分析装置において、
    上記流体をコーナーに沿って湾曲させることにより、上記浮遊粒子を質量に応じて同コーナーの下流に設けられた検出エリア上の異なる位置に分散させる分級手段と、
    上記検出エリアを撮像する撮像手段と、
    この撮像手段にて撮像されたイメージから上記浮遊粒子の径と、同浮遊粒子の上記検出エリア上における位置とを特定する浮遊粒子検出手段と、
    上記浮遊粒子の径と上記検出エリア上における位置とから上記浮遊粒子の比重を推定する比重推定手段とを具備することを特徴とする浮遊粒子分析装置。
  2. 上記分級手段は、上記浮遊粒子が上記コーナーを通過する際の同コーナーに対する同浮遊粒子の距離を一定化させる初期化手段を備えることを特徴とする請求項1に記載の浮遊粒子分析装置。
  3. 上記初期化手段は、上記流体が旋回する際の上記浮遊粒子に作用する遠心力により上記浮遊粒子を一定位置に幅寄せすることを特徴とする請求項2に記載の浮遊粒子分析装置。
  4. 上記初期化手段は、上記コーナーに対する噴出位置が一定である細孔ノズルに上記流体を通過させることを特徴とする請求項2に記載の浮遊粒子分析装置。
  5. 上記分級手段は、上記検出エリアにおける上記流体の速度差を緩和する同流体の補助流域を具備することを特量とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の浮遊粒子分析装置。
  6. 上記流体の流量を検出する流量検出手段と、
    上記流量と上記浮遊粒子検出手段にて特定された上記浮遊粒子の個数とから同流体単位体積当たりの同浮遊粒子数を特定するパーティクルカウント手段を具備することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の浮遊粒子分析装置。
  7. 上記撮像手段は、進行する上記流体を横切るように照射された平行光を受光する複数の撮像素子を具備することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに記載の浮遊粒子分析装置。
  8. 上記撮像素子は上記流体の進行方向に直交する線状に配列することを特徴とする請求項7に記載の浮遊粒子分析装置。
  9. 流体中に浮遊する浮遊粒子についての分析を行う浮遊粒子分析方法において、
    上記流体をコーナーに沿って湾曲させることにより、上記浮遊粒子を質量に応じて同コーナーの下流に設けられた検出エリア上の異なる位置に分散させる分級工程と、
    上記検出エリアを撮像する撮像工程と、
    この撮像工程にて撮像されたイメージから上記浮遊粒子の径と、同浮遊粒子の上記検出エリア上における位置とを特定する浮遊粒子検出工程と、
    上記浮遊粒子の径と上記検出エリア上における位置とから上記浮遊粒子の比重を推定する比重推定工程とを具備することを特徴とする浮遊粒子分析方法。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008111791A (ja) * 2006-10-31 2008-05-15 National Traffic Safety & Environment Laboratory 交流電場を用いて微粒子を質量分級する微粒子計測装置および計測方法
WO2012012168A2 (en) * 2010-06-30 2012-01-26 Luminex Corporation Apparatus, system, and method for increasing measurement accuracy in a particle imaging device using light distribution
US8274656B2 (en) 2010-06-30 2012-09-25 Luminex Corporation Apparatus, system, and method for increasing measurement accuracy in a particle imaging device
JP2012189492A (ja) * 2011-03-11 2012-10-04 Seiko Instruments Inc パーティクルカウンタ
WO2015005929A1 (en) * 2013-07-11 2015-01-15 Persys Technology Ltd. Method and apparatus for determining cleanliness of a sample
KR101498411B1 (ko) * 2011-05-13 2015-03-03 신닛테츠스미킨 카부시키카이샤 강하 매진의 비정상 발진원 위치의 탐색 방법
JP2016016177A (ja) * 2014-07-09 2016-02-01 花王株式会社 吸収体の製造における積繊繊維の掻き取り量の検査装置及び検査方法、並びに該検査方法を用いた吸収体の製造方法
US9752975B2 (en) 2013-07-11 2017-09-05 Persys Technology Ltd. Method and apparatus for determining cleanliness of a sample

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008111791A (ja) * 2006-10-31 2008-05-15 National Traffic Safety & Environment Laboratory 交流電場を用いて微粒子を質量分級する微粒子計測装置および計測方法
US8767069B2 (en) 2010-06-30 2014-07-01 Luminex Corporation Apparatus, system, and method for increasing measurement accuracy in a particle imaging device using light distribution
WO2012012168A3 (en) * 2010-06-30 2012-04-19 Luminex Corporation Apparatus, system, and method for increasing measurement accuracy in a particle imaging device using light distribution
US8274656B2 (en) 2010-06-30 2012-09-25 Luminex Corporation Apparatus, system, and method for increasing measurement accuracy in a particle imaging device
CN103003683A (zh) * 2010-06-30 2013-03-27 卢米尼克斯股份有限公司 用于通过使用光分布来提高粒子成像设备中的测量精确度的装置、系统和方法
WO2012012168A2 (en) * 2010-06-30 2012-01-26 Luminex Corporation Apparatus, system, and method for increasing measurement accuracy in a particle imaging device using light distribution
CN103003683B (zh) * 2010-06-30 2015-04-15 卢米尼克斯股份有限公司 用于通过使用光分布来提高粒子成像设备中的测量精确度的装置、系统和方法
JP2012189492A (ja) * 2011-03-11 2012-10-04 Seiko Instruments Inc パーティクルカウンタ
KR101498411B1 (ko) * 2011-05-13 2015-03-03 신닛테츠스미킨 카부시키카이샤 강하 매진의 비정상 발진원 위치의 탐색 방법
WO2015005929A1 (en) * 2013-07-11 2015-01-15 Persys Technology Ltd. Method and apparatus for determining cleanliness of a sample
US9746409B2 (en) 2013-07-11 2017-08-29 Persys Technology Ltd. Method and apparatus for determining cleanliness of a sample
US9752975B2 (en) 2013-07-11 2017-09-05 Persys Technology Ltd. Method and apparatus for determining cleanliness of a sample
JP2016016177A (ja) * 2014-07-09 2016-02-01 花王株式会社 吸収体の製造における積繊繊維の掻き取り量の検査装置及び検査方法、並びに該検査方法を用いた吸収体の製造方法

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