JP2006135323A - 多波長レーザーダイオード及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくとも三つのレーザーダイオード(200,400、600)が順次に積層されており、前記レーザーダイオードそれぞれの発光点(26、56、86)の中心部が前記レーザーダイオードの積層方向に一直線上に整列して配置されていることを特徴とする多波長レーザーダイオード。
【選択図】図1
Description
12 第1n型電極層、
14 GaN基板、
16 第1バッファ層、
18 第1n型クラッド層、
20 第1共振層、
22A、22B 第1導波層、
24 第1活性層、
26 第1発光点、
30 第1p型化合物の半導体層、
32 第1p型クラッド層、
34 第1p型コンタクト層、
36 第1p型電極層、
38 ボンディングメタル層、
40 第2p型化合物の半導体層、
42 ボンディングメタル層、
44 第2p型電極層、
46 第2p型コンタクト層、
48 第2p型クラッド層、
50 第2共振層、
52A、52B 第2導波層、
54 第2活性層、
56 第2発光点、
60 第2n型化合物の半導体層、
62 第2n型クラッド層、
64 第2n型コンタクト層、
67 第2n型電極層、
68 ボンディングメタル層、
70 第3p型化合物の半導体層、
72 ボンディングメタル層、
74 第3p型電極層、
76 第3p型コンタクト層、
78 第3p型クラッド層、
80 第3共振層、
82A、82B 第3導波層、
84 第3活性層、
86 第3発光点、
90 第3n型化合物の半導体層、
92 第3n型クラッド層、
94 第3バッファ層、
96 GaAs基板、
98 第3n型電極層、
200 第1レーザーダイオード、
400 第2レーザーダイオード、
600 第3レーザーダイオード。
Claims (17)
- 少なくとも三つのレーザーダイオードが順次に積層されてなる多波長レーザーダイオードであって、各レーザーダイオードそれぞれの発光点の中心部が前記レーザーダイオードの積層方向に一直線上に整列して配置されていることを特徴とする多波長レーザーダイオード。
- 一の前記レーザーダイオードの発光点の中心部と当該一のレーザーダイオードに隣接する他のレーザーダイオードの発光点の中心部との距離は、100μm以内であることを特徴とする請求項1に記載の多波長レーザーダイオード。
- 最も下側に配置される第1レーザーダイオードは、
第1共振層、前記第1共振層の両面にそれぞれ設けられる第1n型化合物の半導体層、及び第1p型化合物の半導体層を備える第1レーザー発振層と、
前記第1レーザー発振層の両面にそれぞれ設けられる第1n型電極層及び第1p型電極層と、
前記第1n型電極層及び第1p型電極層のうち、少なくとも何れか一面に設けられるボンディングメタル層と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の多波長レーザーダイオード。 - 前記第1n型化合物の半導体層は、
GaN基板と、
前記GaN基板上にGaNから形成された第1バッファ層と、
前記第1バッファ層上にAlGaNから形成された第1n型クラッド層と、を備え、
前記第1共振層は、
InGaNから形成された第1活性層と、
前記第1活性層の上下部にそれぞれInGaNから形成された第1導波層と、を備え、
前記第1p型化合物の半導体層は、
前記第1共振層上にAlGaNから形成された第1p型クラッド層と、
前記第1p型クラッド層上にGaNから形成された第1p型コンタクト層と、を備えることを特徴とする請求項3に記載の多波長レーザーダイオード。 - 第2レーザーダイオードは、
第2共振層、前記第2共振層の両面にそれぞれ設けられる第2n型化合物の半導体層及び第2p型化合物の半導体層を備える第2レーザー発振層と、
前記第2レーザー発振層の両面にそれぞれ設けられる第2n型電極層及び第2p型電極層と、
前記第2n型電極層及び第2p型電極層のうち、少なくとも何れか一面に設けられるボンディングメタル層と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の多波長レーザーダイオード。 - 前記第2p型化合物の半導体層は、
前記第2p型電極層上にGaAsから形成された第2p型コンタクト層と、
前記第2p型コンタクト層上にAlGaInPから形成された第2p型クラッド層と、を備え、
前記第2共振層は、
AlGaInPから形成された第2活性層と、
前記第2活性層の上下部にそれぞれAlGaInPから形成された第2導波層と、を備え、
前記第2n型化合物の半導体層は、
前記第2共振層上にAlGaInPから形成された第2n型クラッド層と、
前記第2n型クラッド層上にAlGaInPから形成された第2n型コンタクト層と、を備えることを特徴とする請求項5に記載の多波長レーザーダイオード。 - 第3レーザーダイオードは、
第3共振層、前記第3共振層の両面にそれぞれ設けられる第3n型化合物の半導体層、及び第3p型化合物の半導体層を備える第3レーザー発振層と、
前記第3レーザー発振層の両面にそれぞれ設けられる第3n型電極層及び第3p型電極層と、
前記第3n型電極層及び第3p型電極層のうち少なくとも何れか一面に設けられるボンディングメタル層と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の多波長レーザーダイオード。 - 前記第3p型化合物の半導体層は、
前記第3p型電極層上にGaAsから形成された第3p型コンタクト層と、
前記第3p型コンタクト層上にAlGaAsから形成された第3p型クラッド層と、を備え、
前記第3共振層は、
AlGaAsから形成された第3活性層と、
前記第3活性層の上下部にそれぞれAlGaAsから形成された第3導波層と、を備え、
前記第3n型化合物の半導体層は、
前記第3共振層上にAlGaAsから形成された第3n型クラッド層と、
前記第3n型クラッド層上にGaAsから形成された第3バッファ層と、
前記第3バッファ層上に積層されたGaAs基板と、
を備えることを特徴とする請求項7に記載の多波長レーザーダイオード。 - 第1面と前記第1面に対向する第2面と、をそれぞれ有する少なくとも三つのレーザーダイオードを準備する第1工程と、
第1レーザーダイオードの第2面に、第2レーザーダイオードの第2面を接合する第2工程と、
前記第2レーザーダイオードの第1面に、電極層とボンディングメタル層とを順次に形成する第3工程と、
前記第2レーザーダイオードのボンディングメタル層上に、第3レーザーダイオードの第2面を接合する第4工程と、を含み、
少なくとも三つのレーザーダイオードが順次に積層され、各レーザーダイオードの発光点の中心部が前記レーザーダイオードの積層方向に一直線上に整列して配置されていることを特徴とする多波長レーザーダイオードの製造方法。 - 一の前記レーザーダイオードの発光点の中心部と当該一のレーザーダイオードに隣接する他のレーザーダイオードの発光点の中心部との距離は、100μm以内であることを特徴とする請求項9に記載の多波長レーザーダイオードの製造方法。
- 前記第2レーザーダイオードは、第1面に基板を更に備え、
前記第2工程と第3工程との間に、前記第2レーザーダイオードの基板を除去する工程を更に含むことを特徴とする請求項9に記載の多波長レーザーダイオードの製造方法。 - 前記第1レーザーダイオードは、
第1共振層、前記第1共振層の両面にそれぞれ設けられる第1n型化合物の半導体層及び第1p型化合物の半導体層を備える第1レーザー発振層と、
前記第1レーザー発振層の両面にそれぞれ設けられる第1n型電極層及び第1p型電極層と、
前記第1n型電極層及び第1p型電極層のうち、少なくとも何れか一面に設けられるボンディングメタル層と、を備えることを特徴とする請求項9に記載の多波長レーザーダイオードの製造方法。 - 前記第1n型化合物の半導体層は、
GaN基板と、
前記GaN基板上にGaNから形成された第1バッファ層と、
前記第1バッファ層上にAlGaNから形成された第1n型クラッド層と、を備え、
前記第1共振層は、
InGaNから形成された第1活性層と、
前記第1活性層の上下部にそれぞれInGaNから形成された第1導波層と、を備え、
前記第1p型化合物の半導体層は、
前記第1共振層上にAlGaNから形成された第1p型クラッド層と、
前記第1p型クラッド層上にGaNから形成された第1p型コンタクト層と、を備えることを特徴とする請求項12に記載の多波長レーザーダイオードの製造方法。 - 前記第2レーザーダイオードは、
第2共振層、前記第2共振層の両面にそれぞれ設けられる第2n型化合物の半導体層及び第2p型化合物の半導体層を備える第2レーザー発振層と、
前記第2レーザー発振層の第2面に設けられる電極層と、
前記電極層上に設けられるボンディングメタル層と、
を備えることを特徴とする請求項9に記載の多波長レーザーダイオードの製造方法。 - 前記第2n型化合物の半導体層は、
GaAs基板と、
前記GaAs基板上にGaAsから形成された第2バッファ層と、
前記第2バッファ層上にAlGaInPから形成された第2n型コンタクト層と、
前記第2n型コンタクト層上にAlGaInPから形成された第2n型クラッド層と、を備え、
前記第2共振層は、
AlGaInPから形成された第2活性層と、
前記第2活性層の上下部にそれぞれAlGaInPから形成された第2導波層と、を備え、
前記第2p型化合物の半導体層は、
前記第2共振層上にAlGaInPから形成された第2p型クラッド層と、
前記第2p型クラッド層上にGaAsから形成された第2p型コンタクト層と、を備え、
前記第2工程と第3工程との間に、前記GaAs基板及び第2バッファ層を除去する工程を更に含むことを特徴とする請求項14に記載の多波長レーザーダイオードの製造方法。 - 前記第3レーザーダイオードは、
第3共振層、前記第3共振層の両面にそれぞれ設けられる第3n型化合物の半導体層及び第3p型化合物の半導体層を備える第3レーザー発振層と、
前記第3レーザー発振層の両面にそれぞれ設けられる第3n型電極層及び第3p型電極層と、
前記第3n型電極層及び第3p型電極層のうち、少なくとも何れか一面に設けられるボンディングメタル層と、を備えることを特徴とする請求項9に記載の多波長レーザーダイオードの製造方法。 - 前記第3n型化合物の半導体層は、
GaAs基板と、
前記GaAs基板上にGaAsから形成された第3バッファ層と、
前記第3バッファ層上にAlGaAsから形成された第3n型クラッド層と、を備え、
前記第3共振層は、
AlGaAsから形成された第3活性層と、
前記第3活性層の上下部にそれぞれAlGaAsから形成された第1導波層と、を備え、
前記第3p型化合物の半導体層は、
前記第3共振層上にAlGaAsから形成された第3p型クラッド層と、
前記第3p型クラッド層上にGaAsから形成された第3p型コンタクト層と、を備えることを特徴とする請求項16に記載の多波長レーザーダイオードの製造方法。
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