JP2006130868A - インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006130868A JP2006130868A JP2004324979A JP2004324979A JP2006130868A JP 2006130868 A JP2006130868 A JP 2006130868A JP 2004324979 A JP2004324979 A JP 2004324979A JP 2004324979 A JP2004324979 A JP 2004324979A JP 2006130868 A JP2006130868 A JP 2006130868A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink
- supply port
- ink supply
- etching
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 49
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 45
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 21
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 21
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 21
- 235000020637 scallop Nutrition 0.000 description 22
- 241000237509 Patinopecten sp. Species 0.000 description 21
- 239000010408 film Substances 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 10
- 238000009623 Bosch process Methods 0.000 description 8
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N isopropyl alcohol Natural products CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 2
- 241000237503 Pectinidae Species 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003020 moisturizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
- B41J2/1628—Manufacturing processes etching dry etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
- B41J2/1642—Manufacturing processes thin film formation thin film formation by CVD [chemical vapor deposition]
Abstract
【課題】 インク供給口の側壁面を必要最小限で耐インク性の保護膜を被覆することを可能にすることで信頼性の高い、優れた吐出性能を有するインクジェット記録ヘッド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 インク供給口が、シリコン基板100のエッチングマスク400から露出した部分をエッチングし、該基板のエッチングされた部分をコーティングし、液流路に連結するまで、前記エッチングと前記コーティングを交互に繰り返すことによって形成されるとき、前記インク供給口の側壁面に形成される凹部の深さをa、隣り合う凸部間の距離をbとし、aが1μm以下、bが5μm以下の範囲にあるとき、b/a≧1.7である。
【選択図】 図1
【解決手段】 インク供給口が、シリコン基板100のエッチングマスク400から露出した部分をエッチングし、該基板のエッチングされた部分をコーティングし、液流路に連結するまで、前記エッチングと前記コーティングを交互に繰り返すことによって形成されるとき、前記インク供給口の側壁面に形成される凹部の深さをa、隣り合う凸部間の距離をbとし、aが1μm以下、bが5μm以下の範囲にあるとき、b/a≧1.7である。
【選択図】 図1
Description
本発明は、インクジェット記録ヘッド及びその製造方法に関するものであり、より詳細には、インク供給口の表面形状に関するものである。
インクジェット記録方式は、記録時における騒音の発生が無視し得る程度に極めて小さいという点、また高速記録が可能であり、しかも、いわゆる普通紙に定着可能で特別な処理を必要とせずに記録が行なえるという点で、ここ数年、急速に普及しつつある。
また、インクジェット記録ヘッドの中で、インク吐出エネルギー発生素子が形成された基体に対して垂直方向にインク液滴が吐出するものを「サイドシュータ型記録ヘッド」と称し、本発明は、この種のサイドシュータ型記録ヘッドのインク供給に関するものである。
ここで、サイドシュータ型記録ヘッドの一般的な構造について説明する。
図7は一般的なサイドシュータ型インクジェット記録ヘッドを示す模式的斜視図であり、図8は図7の記録ヘッドをインク路で切断した断面図である。
図7及び図8のサイドシュータ型インクジェット記録ヘッドはシリコン基板の上に成膜技術を用いて後述する吐出エネルギー発生部、共通インク室、インク路、吐出口25などを形成したものである。このような構成要素を有するシリコン基板(素子基板27)には、これを貫通する長孔状のインク供給口29が形成されている。このインク供給口29の両側には、被記録材の搬送方向、つまりインク供給口29の長手方向に沿って所定間隔で2列に並ぶ複数の電気熱変換体30が相互に半ピッチずらした状態で形成され、それぞれ吐出エネルギー発生部を構成している。素子基板27には、これら電気熱変換体30の他、電気熱変換体30と記録装置本体側との電気的接続を行なうための電極端子31および電気配線(不図示)などが成膜技術によって形成されている。素子基板27上には、インク供給口29に連通する共通インク室32と、電気熱変換体30とそれぞれ正対する複数の吐出ノズル25と、共通インク室32と個々の吐出ノズル25とに連通するインク路34とを有する天板部材(オリフィスプレートとも呼ばれる)33が形成される。隣接するインク路34の間には仕切り壁35が形成される。
インク供給口29から各インク路34内に供給される液体は、対応するインク路34に臨む電気熱変換体30に駆動信号が与えられることにより、電気熱変換体30の発熱に伴って沸騰し、これにより発生する気泡の圧力によって吐出ノズル25から吐出される。
このようなサイドシュータ型記録ヘッドにおいては、インク液滴吐出のためのインク供給は、吐出エネルギー発生素子である電気熱変換体が形成された基体(素子基板と呼ばれる。)に貫通口を設けることで行なうことを特徴としている。
従来、この種のインクジェット記録ヘッドの素子基板にインク供給口を形成する手段は、ドリル,レーザー,サンドブラストなどの手法や、結晶異方性エッチングによりインク供給口を形成する方法(特許文献1)が提案されている。
その他、特許文献2には、基板の第1の表面上に露出した部分をエッチングし、基板のエッチングされた部分をコーティングすることを、基板を貫通する流体チャネルが形成されるまで交互に繰り返す、いわゆるボッシュプロセスと呼ばれる方法が提案されている。
特開平9−11479号公報
特開2003−53979号公報
しかしながら、ドリル、レーザー、サンドブラストなどの手法を用いてインク供給口を形成する場合、インク供給口の寸法精度が出にくいという問題がある。
また、特許文献1に記載されているような、異方性エッチングによってインク供給口を形成する場合においては、<100>方位のシリコン基板であると、インク供給口の断面形状は台形(図8参照)となってしまうため、この結晶方位のシリコン基板を用いてインクジェット記録ヘッドのチップを作製する場合に当該チップのサイズを小さくすることが困難であり、コストダウンを実現するのが非常に困難である。<110>方位のシリコン基板であれば基板の厚さ方向に対して垂直のインク供給口を形成することは可能であるが、<110>基板を用いて半導体回路を形成する場合、ON抵抗が小さいため、<100>方位のシリコン基板に比較してチップサイズを小さくするのには限界がある。
また、特許文献2に示されている、いわゆるボッシュプロセスによってアスペクト比の大きい、略垂直なインク供給口を形成する方法がある。この方法によれば、高精度の開口幅を有するインク供給口を形成することが可能であるが、エッチングのステップとデポジション(deposition)のステップを繰り返してエッチングを行なう場合、そのエッチング側壁は、図1に示すような、スカロップと呼ばれるホタテ貝の貝殻表面に認められるような波形の形状になってしまう。図1に示すスカロップの深さaは、エッチングステップにおけるサイドエッチ量である。スカロップの隣接する凸部先端間の距離bは、エッチングステップ中のエッチング量であり、a、bのいずれもウエハー面内におけるパターンの開口率や各パターンのサイズ、エッチング条件などにより影響を受ける。
一方、シリコン基板にインク供給口をドライエッチングで形成した場合、インク供給口の側壁面に露出するシリコンの結晶面は、必ずしもアルカリ溶液に対してエッチングレートの遅い(111)面ではないため、このようなインク供給口を有するインクジェット記録ヘッドにアルカリインクを用いると、シリコンがインク中へ溶出する。そこで、この表面をアルカリインクに対して耐性のある膜によって被覆することが必要となるが、先に述べたように、インク供給口のエッチング側壁に形成されたスカロップの凸凹が大きいと、図2の点線の丸で囲った箇所のように、例えばスカロップ凸部先端を十分に被覆することが困難になる。被覆する膜厚を厚くすれば、このような部分においても十分に被覆することは可能になるが、厚く被覆すればするほど、インク供給口の開口幅精度を得ることは困難になる。インク供給口幅の寸法がばらつくと、インク供給口端部から電気熱変換体(ヒーター)までの距離が変動し、これによってノズル間の流抵抗に差が生じ、想定したリフィル周波数(吐出口から液流路の液体が吐出されてから液流路に液体が再充填されるときの単位時間当たりの繰り返し速度)を得ることが出来なくなる場合がある。
本発明の目的は、上記のような問題に鑑み、いわゆるボッシュプロセスを用いて形成されたインク供給口の、凹凸を繰り返す側壁面全部に必要最小限で耐インク性の保護膜を被覆することが可能となり、信頼性の高い、優れた吐出性能を有するインクジェット記録ヘッド及びその製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明は、インクを吐出する吐出口と、該吐出口からインクを吐出するために利用されるエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子と、該吐出エネルギー発生素子に対応して設けられた前記吐出口に連通する液流路と、前記液流路にインクを供給するために設けられたインク供給口とを有するインクジェット記録ヘッドにおいて、
前記インク供給口の側壁面に凹凸が繰り返し形成されており、
前記インク供給口の側壁面に形成される凹部の深さをa、隣り合う凸部間の距離をbとし、aが1μm以下、bが5μm以下の範囲にあるとき、b/a≧1.7であることを特徴とする。
前記インク供給口の側壁面に凹凸が繰り返し形成されており、
前記インク供給口の側壁面に形成される凹部の深さをa、隣り合う凸部間の距離をbとし、aが1μm以下、bが5μm以下の範囲にあるとき、b/a≧1.7であることを特徴とする。
以上説明したように、本発明によれば、いわゆるボッシュプロセスを用いて形成されたインク供給口の、凹凸を繰り返す側壁面全部に必要最小限で耐インク性の保護膜を被覆することが可能となり、信頼性の高い、優れた吐出性能を有するインクジェット記録ヘッドを形成することが可能となる。
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。
本実施形態においては、インクジェット記録ヘッドの基体に貫通させるインク供給口(図7及び8の符号29参照)を、エッチングのステップとデポジションのステップを繰り返すエッチング方法(いわゆるボッシュプロセス)によって形成する場合、そのエッチングされたインク供給口側壁の表面に対し保護膜を十分に形成することが可能なスカロップ(図1)の形状を規定する。この形状を規定すべく、以下の実験を行った。
<実験>
発熱抵抗体を有する基板に、エッチングとデポジションのプロセスを交互に繰り返すいわゆるボッシュプロセスにてインク供給口を形成した後、その基板の裏面側よりインク供給口の側壁面を被覆するようにプラズマCVDにてSiO膜を形成した。インク供給口の側壁面のスカロップの寸法は、エッチングのステップとデポジションのステップの条件によって、例えば図3〜5に示すように変化する。なお、図3〜5に示すスカロップの深さaは、エッチングステップにおけるサイドエッチ量で、スカロップの隣接する凸部先端間の距離bは、エッチングステップ中のエッチング量である。
発熱抵抗体を有する基板に、エッチングとデポジションのプロセスを交互に繰り返すいわゆるボッシュプロセスにてインク供給口を形成した後、その基板の裏面側よりインク供給口の側壁面を被覆するようにプラズマCVDにてSiO膜を形成した。インク供給口の側壁面のスカロップの寸法は、エッチングのステップとデポジションのステップの条件によって、例えば図3〜5に示すように変化する。なお、図3〜5に示すスカロップの深さaは、エッチングステップにおけるサイドエッチ量で、スカロップの隣接する凸部先端間の距離bは、エッチングステップ中のエッチング量である。
図3と図4を比較すると、a1<a2,b1=b2である。b部の寸法が同じでa部の寸法が大きい場合、すなわち図4の場合は、インク供給口の側壁面のスカロップの凸部に着目すると、形状が鋭利になるため、保護膜の被覆性は低下する。
図3と図5を比較すると、a1=a3,b1<b3である。a部の寸法が同じでb部の寸法が大きい場合、すなわち図5の場合は、インク供給口の側壁面のスカロップの凸部に着目すると、形状が鈍くなるため、保護膜の被覆性は向上する。
この被覆性について、実験を行なった。
スカロップの凹部深さに対応するa部の寸法のサンプルは、1)0.2μm 2)0.3μm 3)0.4μm 4)0.5μm 5)0.8μm 6)1.0μmとし、スカロップの隣り合う凸部間に対応するb部の寸法のサンプルは、1)0.5μm 2)1.0μm 3)3.0μm 4)5.0μmとした。b部の各サンプルに対して、a部の各サンプルを割り当てた。その後、プラズマCVDにて基板裏面側よりSiOをインク供給口の側壁面において略0.5μmとなるように成膜し、それに液流路と吐出口を形成したオリフィスプレートを貼り付けインクジェット記録ヘッドとして組み立て、吐出耐久試験を行った。その結果を表1〜4に示す。ここで、吐出耐久試験として、エチレングリコール/尿素/イソプロピルアルコール/黒色染料/水=5/3/2/3/87部からなるインクを用いて、作成したインクジェットヘッドの電気熱変換体(ヒーター)に10μsの30Vの矩形電圧を3kHzで印加することで印加信号に応じて液体をオリフィスから吐出させた。ここで、前記インクは保湿成分(インクの蒸発を低減させ、ノズルの目詰まりを防ぐ)として尿素を添加しており、尿素が加水分解することで弱アルカリ性を示すものである。このようなアルカリインクを用いて液滴の形成を繰り返すと、インク供給口の側壁面の保護が不十分な場合、インク中にシリコンが溶出し、それが原因となってヒーター上にコゲが発生し、さらには析出物によって液流路が詰まり吐出出来なくなる。この時点における吐出繰り返し回数を本願においては耐久回数と定義する。
基板裏面側より成膜するSiOの厚さをインク供給口の側壁面において略0.5μmとなるように成膜したのは、次のような理由による。すなわち、保護膜を厚くすれば、スカロップの形状に関わらずインク中へのシリコン溶出を防ぐことは可能となるが、そのようにすることによってインク供給口幅の公差は大きくなり、リフィル周波数に影響を及ぼすことになる。特に今後のインクジェット記録ヘッドにおいて、ヘッドの小型化やコストダウンのために基板サイズを小さくしていくと、基板中央部に設けられた貫通穴であるインク供給口は、そのサイズを極限まで小さくすることが求められる。しかしながらインク供給口幅が小さくなっていくと、寸法変化に対する流抵抗の上昇が大きくなる。すなわち、インク供給口幅が僅かに小さくなっただけで、リフィル周波数が急激に低下するという現象が生じてしまう。そのためインク供給口幅の公差にはより厳しいものが必要となり、それにはインク供給口に対するエッチングの公差を小さくすることはもちろん必要であるが、それにあわせて保護膜の膜厚とその公差も小さくしなければならない。
そこで本件においては、現実性を考慮し、SiOの厚さをインク供給口の側壁面において略0.5μmとなるように成膜した。
上記表1〜4において、吐出耐久試験結果が×となったヘッドを分解し調べたところ、インク中へのシリコン溶出があり、吐出耐久試験で×となった原因であることがわかった。これとスカロップの形状と大きさを規定するaとbの寸法比の関係を調べたところ、a部寸法が1.0μm以下、b部寸法が5.0μm以下の範囲にて、表5のような関係にあることがわかった。すなわち、b/a≧1.7 であればよいことがわかる。
次に、図6に沿って、本発明の実施例に係る、インクジェット記録ヘッドの製造方法を説明する。
図6(a)には、インクジェット記録ヘッドの基板(基体)を示している。シリコン基板100の表面にはヒーター200及びエッチングストップ層300がある。エッチングストップ層300として、本例においてはアルミを使用した。シリコン基板100の厚さは200μmである。
図6(b)には、シリコン基板100の裏面に、後工程で異方性のあるドライエッチングによりインク供給口を形成するためのエッチングマスク400を設け、表面に基板表面保護レジスト500を設けた状態を示す。本例において、エッチングマスク400及び基板表面保護レジスト500には、東京応化製OFPRを用いたが、その他一般に市販されているポジ型フォトレジストや他の材料も使用可能である。
図6(c)には、ドライエッチングにより、シリコン基板100にインク供給口を形成した状態を示す。本例において、ドライエッチングにはアルカテル社製ICPエッチング装置:型式番号601Eを使用し、SF6を用いたエッチングとC4F8を用いたデポジション(コーティングともいう。)のプロセスを交互に繰り返す、いわゆるボッシュプロセスを行った。
この時、プラズマCVDによって形成したアルミよりなるエッチングストップ層300において、インク供給口をエッチングする異方性のドライエッチングは止められる。
本件においてはボッシュプロセスによって形成したインク供給口の側壁形状を観察したところ、シリコン基板100の厚さ方向と同一の方向の、スカロップの隣接する凸部先端間の距離はおおむね1μmであり、シリコン基板100の厚さと垂直な方向と同一の方向のスカロップの凹部の深さは、おおむね0.3μmであった。エッチング条件は、プラズマソースのパワー2200W,基板バイアスパワー120W,SF6/500ml/min(normal)/5.0s/約5.0E-2mbar,C4F8/150ml/min(normal)/2.0s/約1.6E-2mbarである。また、ウエハー温度は−5℃であり、総エッチング時間は20minである。
図6(d)には、エッチングストップ層300としてのアルミを除去した後、エッチングマスク400及び基板表面保護レジスト500を剥離した状態を示す。アルミの除去は、混酸C−6(東京応化)を使用し、エッチングマスク400及び基板表面保護レジスト500の剥離には、シプレイファーイースト社の1112A剥離液を使用した。
図6(e)には、プラズマCVDにてシリコン基板100の裏面側よりSiOを0.5μm成膜した状態を示す。このSiOはシリコン基板100の裏面に形成されるとともに、インク供給口800の側壁面において保護膜550として形成される。上述したようにインク供給口の側壁面においてスカロップの隣接する凸部先端間の距離がおおむね1μmであり、スカロップの凹部の深さがおおむね3μmであるため、保護膜550は0.5μmという薄膜であってもスカロップの凸部先端を十分に被覆することができた。
図6(f)には、液流路700と吐出口650を形成したオリフィスプレート600を接着剤で貼り付けた状態を示す。
以上のように図6(a)〜図6(f)に示した工程を経て作製したインクジェット記録ヘッドを記録装置に装着し、アルカリ性インクを用いて記録を行ったところ、安定した印刷が可能であり、得られた印刷物は高品位なものであった。
100 シリコン基板
200 ヒーター
300 エッチングストップ層
400 エッチングマスク
550 保護膜
600 オリフィスプレート
650 吐出口
800 インク供給口
200 ヒーター
300 エッチングストップ層
400 エッチングマスク
550 保護膜
600 オリフィスプレート
650 吐出口
800 インク供給口
Claims (3)
- インクを吐出する吐出口と、該吐出口からインクを吐出するために利用されるエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子と、該吐出エネルギー発生素子に対応して設けられた前記吐出口に連通する液流路と、前記液流路にインクを供給するために設けられたインク供給口とを有するインクジェット記録ヘッドにおいて、
前記インク供給口の側壁面に凹凸が繰り返し形成されており、
前記インク供給口の側壁面に形成される凹部の深さをa、隣り合う凸部間の距離をbとし、aが1μm以下、bが5μm以下の範囲にあるとき、b/a≧1.7であることを特徴とするインクジェット記録ヘッド。 - インクを吐出する吐出口と、該吐出口からインクを吐出するために利用されるエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子と、該吐出エネルギー発生素子に対応して設けられた前記吐出口に連通する液流路と、前記液流路にインクを供給するために設けられたインク供給口とを有するインクジェット記録ヘッドの製造方法において、
前記インク供給口が、基板の露出した部分をエッチングし、該基板のエッチングされた部分をコーティングし、前記液流路に連結するまで、前記エッチングと前記コーティングを交互に繰り返すことによって形成するとき、
前記インク供給口の側壁面に形成される凹部の深さをa、凸部間の距離をbとし、aが1μm以下、bが5μm以下の範囲にあるとき、b/a≧1.7となる前記インク供給口のエッチング工程を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。 - インクを吐出するために利用されるエネルギーを発生する吐出エネルギー発生素子を基板の表面に形成する工程と、
前記基板の表面に溶解可能な樹脂にて、前記吐出エネルギー発生素子に対応するインク流路を形成する工程と、
前記溶解可能な樹脂層上に被覆樹脂層を形成する工程と、
前記被覆樹脂層に前記インク流路に連通するインク吐出口を形成する工程と、
前記基板に前記インク流路に繋がるインク供給口を形成する工程とを有するインクジェット記録ヘッドの製造方法において、
前記インク供給口が、基板の露出した部分をエッチングし、該基板のエッチングされた部分をコーティングし、前記液流路に連結するまで、前記エッチングと前記コーティングを交互に繰り返すことによって形成するとき、
前記インク供給口の側壁面に形成される凹部の深さをa、凸部間の距離をbとし、aが1μm以下、bが5μm以下の範囲にあるとき、b/a≧1.7となる前記インク供給口のエッチング工程を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004324979A JP2006130868A (ja) | 2004-11-09 | 2004-11-09 | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
US11/252,545 US7380915B2 (en) | 2004-11-09 | 2005-10-19 | Ink jet recording head and producing method therefor |
TW094137670A TWI281442B (en) | 2004-11-09 | 2005-10-27 | Ink jet recording head and producing method therefor |
CNB2005101246048A CN100427311C (zh) | 2004-11-09 | 2005-11-09 | 喷墨记录头及其制造方法 |
KR1020050106788A KR100816573B1 (ko) | 2004-11-09 | 2005-11-09 | 잉크젯 기록 헤드 및 그 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004324979A JP2006130868A (ja) | 2004-11-09 | 2004-11-09 | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006130868A true JP2006130868A (ja) | 2006-05-25 |
Family
ID=36315868
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004324979A Withdrawn JP2006130868A (ja) | 2004-11-09 | 2004-11-09 | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7380915B2 (ja) |
JP (1) | JP2006130868A (ja) |
KR (1) | KR100816573B1 (ja) |
CN (1) | CN100427311C (ja) |
TW (1) | TWI281442B (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006326910A (ja) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Canon Inc | インクジェット記録用基体 |
KR100816573B1 (ko) | 2004-11-09 | 2008-03-24 | 캐논 가부시끼가이샤 | 잉크젯 기록 헤드 및 그 제조 방법 |
WO2008090794A1 (ja) * | 2007-01-23 | 2008-07-31 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 液体吐出ヘッド用ノズルプレート及び液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法 |
JP2011136559A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Xerox Corp | 可撓性デバイス及び可撓性デバイスを作製するための方法 |
US8162439B2 (en) | 2007-06-20 | 2012-04-24 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Method for manufacturing nozzle plate for liquid ejection head, nozzle plate for liquid ejection head and liquid ejection head |
JP2012158150A (ja) * | 2011-02-02 | 2012-08-23 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法 |
US8419168B2 (en) | 2010-09-21 | 2013-04-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head and manufacturing method therefor |
JP2014533894A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-12-15 | インテル コーポレイション | 電気化学コンデンサ用ナノマシン構造 |
JP2018002778A (ja) * | 2016-06-28 | 2018-01-11 | セイコーエプソン株式会社 | 水系インク組成物および液滴吐出方法 |
JP2020055225A (ja) * | 2018-10-02 | 2020-04-09 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッドの製造方法及びインクジェットヘッド |
JP2020059768A (ja) * | 2018-10-05 | 2020-04-16 | セイコーエプソン株式会社 | 水系インクジェットインク組成物及びインクジェット記録方法 |
US11787963B2 (en) | 2020-01-22 | 2023-10-17 | Seiko Epson Corporation | Aqueous ink jet ink composition and ink jet recording method |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4641440B2 (ja) * | 2005-03-23 | 2011-03-02 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドおよび該インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
JP4812512B2 (ja) * | 2006-05-19 | 2011-11-09 | オンセミコンダクター・トレーディング・リミテッド | 半導体装置の製造方法 |
JP5074172B2 (ja) * | 2007-12-21 | 2012-11-14 | オンセミコンダクター・トレーディング・リミテッド | メサ型半導体装置及びその製造方法 |
JP2009158589A (ja) * | 2007-12-25 | 2009-07-16 | Sanyo Electric Co Ltd | メサ型半導体装置及びその製造方法 |
TW200933899A (en) * | 2008-01-29 | 2009-08-01 | Sanyo Electric Co | Mesa type semiconductor device and method for making the same |
US8210649B2 (en) * | 2009-11-06 | 2012-07-03 | Fujifilm Corporation | Thermal oxide coating on a fluid ejector |
US11666918B2 (en) | 2020-03-06 | 2023-06-06 | Funai Electric Co., Ltd. | Microfluidic chip, head, and dispensing device for dispensing fluids containing an acidic component |
US11262506B1 (en) | 2020-08-07 | 2022-03-01 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Recessed portion in a substrate and method of forming the same |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4520375A (en) * | 1983-05-13 | 1985-05-28 | Eaton Corporation | Fluid jet ejector |
JPH05345419A (ja) * | 1992-06-15 | 1993-12-27 | Sharp Corp | インクジェット記録ヘッド |
JP3480617B2 (ja) * | 1995-02-16 | 2003-12-22 | 株式会社リコー | インクジェットプリンタヘッド用ノズル板の製作方法 |
JP3343875B2 (ja) | 1995-06-30 | 2002-11-11 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッドの製造方法 |
US6582053B1 (en) * | 1998-02-18 | 2003-06-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing a liquid jet recording head and a liquid jet recording head manufactured by such method |
US6197696B1 (en) * | 1998-03-26 | 2001-03-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for forming interconnection structure |
JP2000185407A (ja) | 1998-12-24 | 2000-07-04 | Ricoh Co Ltd | 流路−ノズル板の製造方法及び該流路−ノズル板を用いたインクジェットヘッド |
JP3647365B2 (ja) * | 1999-08-24 | 2005-05-11 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド用基板ユニットおよびその製造方法ならびに液体吐出ヘッド,カートリッジおよび画像形成装置 |
FR2806833B1 (fr) * | 2000-03-27 | 2002-06-14 | St Microelectronics Sa | Procede de fabrication d'un transistor mos a deux grilles, dont l'une est enterree, et transistor correspondant |
US6472332B1 (en) * | 2000-11-28 | 2002-10-29 | Xerox Corporation | Surface micromachined structure fabrication methods for a fluid ejection device |
US6555480B2 (en) | 2001-07-31 | 2003-04-29 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Substrate with fluidic channel and method of manufacturing |
CN100355573C (zh) * | 2002-12-27 | 2007-12-19 | 佳能株式会社 | 用于制造喷墨记录头的基础件 |
CN100581824C (zh) * | 2003-02-13 | 2010-01-20 | 佳能株式会社 | 喷墨记录喷头用基板的制造方法 |
JP4522086B2 (ja) * | 2003-12-15 | 2010-08-11 | キヤノン株式会社 | 梁、梁の製造方法、梁を備えたインクジェット記録ヘッド、および該インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
JP2005205889A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-08-04 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドの製造方法及び該製造方法により製造されるインクジェット記録ヘッド |
JP4537246B2 (ja) * | 2004-05-06 | 2010-09-01 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド用基体の製造方法及び該方法により製造された前記基体を用いた記録ヘッドの製造方法 |
JP2006130868A (ja) | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
-
2004
- 2004-11-09 JP JP2004324979A patent/JP2006130868A/ja not_active Withdrawn
-
2005
- 2005-10-19 US US11/252,545 patent/US7380915B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-10-27 TW TW094137670A patent/TWI281442B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-11-09 CN CNB2005101246048A patent/CN100427311C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-11-09 KR KR1020050106788A patent/KR100816573B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100816573B1 (ko) | 2004-11-09 | 2008-03-24 | 캐논 가부시끼가이샤 | 잉크젯 기록 헤드 및 그 제조 방법 |
JP2006326910A (ja) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Canon Inc | インクジェット記録用基体 |
JP4693496B2 (ja) * | 2005-05-24 | 2011-06-01 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 |
WO2008090794A1 (ja) * | 2007-01-23 | 2008-07-31 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 液体吐出ヘッド用ノズルプレート及び液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法 |
US8162439B2 (en) | 2007-06-20 | 2012-04-24 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Method for manufacturing nozzle plate for liquid ejection head, nozzle plate for liquid ejection head and liquid ejection head |
JP2011136559A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Xerox Corp | 可撓性デバイス及び可撓性デバイスを作製するための方法 |
US8419168B2 (en) | 2010-09-21 | 2013-04-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head and manufacturing method therefor |
JP2012158150A (ja) * | 2011-02-02 | 2012-08-23 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法 |
JP2014533894A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-12-15 | インテル コーポレイション | 電気化学コンデンサ用ナノマシン構造 |
JP2018002778A (ja) * | 2016-06-28 | 2018-01-11 | セイコーエプソン株式会社 | 水系インク組成物および液滴吐出方法 |
JP2020055225A (ja) * | 2018-10-02 | 2020-04-09 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッドの製造方法及びインクジェットヘッド |
JP7172398B2 (ja) | 2018-10-02 | 2022-11-16 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッドの製造方法 |
JP2020059768A (ja) * | 2018-10-05 | 2020-04-16 | セイコーエプソン株式会社 | 水系インクジェットインク組成物及びインクジェット記録方法 |
US11591490B2 (en) | 2018-10-05 | 2023-02-28 | Seiko Epson Corporation | Aqueous ink jet ink composition and ink jet recording method |
JP7344458B2 (ja) | 2018-10-05 | 2023-09-14 | セイコーエプソン株式会社 | 水系インクジェットインク組成物及びインクジェット記録方法 |
US11787963B2 (en) | 2020-01-22 | 2023-10-17 | Seiko Epson Corporation | Aqueous ink jet ink composition and ink jet recording method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI281442B (en) | 2007-05-21 |
KR20060052541A (ko) | 2006-05-19 |
CN100427311C (zh) | 2008-10-22 |
TW200628317A (en) | 2006-08-16 |
US7380915B2 (en) | 2008-06-03 |
KR100816573B1 (ko) | 2008-03-24 |
CN1772487A (zh) | 2006-05-17 |
US20060098050A1 (en) | 2006-05-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100816573B1 (ko) | 잉크젯 기록 헤드 및 그 제조 방법 | |
US7517059B2 (en) | Liquid jet head and method for producing the same | |
US6019907A (en) | Forming refill for monolithic inkjet printhead | |
US7753495B2 (en) | Ink jet recording head, manufacturing method therefor, and substrate for ink jet recording head manufacture | |
US8205967B2 (en) | Liquid ejection head and manufacturing method thereof | |
JPH071738A (ja) | サーマルインクジェット印刷ヘッドにインク充填スロットを製作する方法 | |
KR100474423B1 (ko) | 버블 잉크젯 프린트 헤드 및 그 제조방법 | |
US20080252698A1 (en) | Ink jet recording head | |
JPH11240173A (ja) | 流体から汚染物質を除去するためのフィルタ―及びその形成方法 | |
CN105102230A (zh) | 流体喷射装置 | |
CN103009813B (zh) | 喷墨记录头、记录元件基板及制造该记录头和基板的方法 | |
US5461406A (en) | Method and apparatus for elimination of misdirected satellite drops in thermal ink jet printhead | |
TW201410484A (zh) | 用以控制基體與載體間之黏著劑之技術 | |
JP2010240869A (ja) | 液体吐出ヘッド用基板の製造方法 | |
KR101426176B1 (ko) | 액체 토출 헤드용 기판의 제조 방법 | |
JP5294657B2 (ja) | インクジェット記録ヘッド | |
KR100553912B1 (ko) | 잉크젯 프린트헤드 및 그 제조방법 | |
WO2008075715A1 (ja) | 液体吐出ヘッド用ノズルプレートの製造方法、液体吐出ヘッド用ノズルプレート及び液体吐出ヘッド | |
JP2007168115A (ja) | インクジェットヘッドおよびその製造方法 | |
US6958125B2 (en) | Method for manufacturing liquid jet recording head | |
JP2004284063A (ja) | インクジェット記録ヘッド | |
JP2008120003A (ja) | インクジェット記録ヘッドおよび該へッド用基板の製造方法 | |
JP2012121168A (ja) | 液体吐出ヘッド及びその製造方法 | |
JP3564853B2 (ja) | インクジェットヘッドの製造方法およびそのヘッドを用いたプリンタ | |
JP4261904B2 (ja) | インクジェット記録ヘッド用基板の製造方法、およびインクジェット記録ヘッドの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20080509 |