JP2006123545A - 多孔質非陽極層を備え平版印刷版 - Google Patents
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- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 64
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 124
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 97
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 96
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 85
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 76
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 74
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 73
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 58
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 57
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 42
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 41
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims abstract description 37
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 27
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 21
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims abstract description 11
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims abstract description 10
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 37
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 9
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 8
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 13
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 9
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 9
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 8
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 6
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 5
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 complex metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N magnesium nitrate Chemical compound [Mg+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O YIXJRHPUWRPCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- FLDCSPABIQBYKP-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,2-dimethylbenzimidazole Chemical compound ClC1=CC=C2N(C)C(C)=NC2=C1 FLDCSPABIQBYKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001741 Ammonium adipate Substances 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 235000019293 ammonium adipate Nutrition 0.000 description 3
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 3
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P ammonium dichromate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- TUSDEZXZIZRFGC-UHFFFAOYSA-N 1-O-galloyl-3,6-(R)-HHDP-beta-D-glucose Natural products OC1C(O2)COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC1C(O)C2OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 TUSDEZXZIZRFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000011299 Brassica oleracea var botrytis Nutrition 0.000 description 1
- 240000003259 Brassica oleracea var. botrytis Species 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001263 FEMA 3042 Substances 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- LRBQNJMCXXYXIU-PPKXGCFTSA-N Penta-digallate-beta-D-glucose Natural products OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)OC=2C(=C(O)C=C(C=2)C(=O)OC[C@@H]2[C@H]([C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)O2)OC(=O)C=2C=C(OC(=O)C=3C=C(O)C(O)=C(O)C=3)C(O)=C(O)C=2)O)=C1 LRBQNJMCXXYXIU-PPKXGCFTSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQBLUJRVOKGWCF-UHFFFAOYSA-N [O].[AlH3] Chemical compound [O].[AlH3] CQBLUJRVOKGWCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 239000001785 acacia senegal l. willd gum Substances 0.000 description 1
- DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2,3,4,5,6-pentahydroxyhexanal;sodium Chemical compound [Na].CC(O)=O.OCC(O)C(O)C(O)C(O)C=O DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011124 aluminium ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- LCQXXBOSCBRNNT-UHFFFAOYSA-K ammonium aluminium sulfate Chemical compound [NH4+].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O LCQXXBOSCBRNNT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000002902 bimodal effect Effects 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- OIDPCXKPHYRNKH-UHFFFAOYSA-J chrome alum Chemical compound [K]OS(=O)(=O)O[Cr]1OS(=O)(=O)O1 OIDPCXKPHYRNKH-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UOUJSJZBMCDAEU-UHFFFAOYSA-N chromium(3+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Cr+3].[Cr+3] UOUJSJZBMCDAEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 238000000313 electron-beam-induced deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- YAGKRVSRTSUGEY-UHFFFAOYSA-N ferricyanide Chemical compound [Fe+3].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] YAGKRVSRTSUGEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 235000019812 sodium carboxymethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001027 sodium carboxymethylcellulose Polymers 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000012144 step-by-step procedure Methods 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- LRBQNJMCXXYXIU-NRMVVENXSA-N tannic acid Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)OC=2C(=C(O)C=C(C=2)C(=O)OC[C@@H]2[C@H]([C@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)[C@@H](OC(=O)C=3C=C(OC(=O)C=4C=C(O)C(O)=C(O)C=4)C(O)=C(O)C=3)O2)OC(=O)C=2C=C(OC(=O)C=3C=C(O)C(O)=C(O)C=3)C(O)=C(O)C=2)O)=C1 LRBQNJMCXXYXIU-NRMVVENXSA-N 0.000 description 1
- 235000015523 tannic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940033123 tannic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920002258 tannic acid Polymers 0.000 description 1
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/04—Printing plates or foils; Materials therefor metallic
- B41N1/08—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
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Abstract
【解決手段】金属の基材と、約0.1〜約30μmの範囲内の厚さを有し、金属、金属酸化物、およびそれらの混合物からなる群の中の少なくとも1種類を備える、非陽極の砂目立てされていない多孔質被膜と、画像記録層とを備え、上記多孔質被膜が、酸化物のみから実質的になる場合、それが、Cu、Mg、Cd、Al、Zr、Hf、Th、Cr、W、Moおよび/またはCoの少なくとも1種類の酸化物を備え、上記多孔質被膜が、アルミナのみから実質的になる場合、それが指定の細孔を含む。ナノメートル規模の多孔質表面層であって、金属、金属酸化物、およびそれらの混合物の少なくとも1種類を備え、0〜100nmの範囲の幅を有する細孔を表面層中に備え、この範囲の細孔の過半数が約1〜約30nmの帯域の幅を有する多孔質表面層を有する製品。
【選択図】図1
Description
印刷版であって、
実質的に平面の基材と、
約0.1〜約30μmの範囲内の厚さを有し、金属、金属酸化物、およびそれらの混合物からなる群の中の少なくとも1種類を備える、真空蒸着され砂目立てされていない多孔質被膜と、
画像記録層と、
を記載の順序で備え、
上記多孔質被膜が、酸化物のみから実質的になる場合、それが、銅、マグネシウム、カドミウム、アルミニウム、ジルコニウム、ハフニウム、トリウム、クロム、タングステン、モリブデン、およびコバルトからなる群より選択される金属の少なくとも1種類の酸化物を備え(または、から実質的になり)、
上記多孔質被膜が、アルミナのみから実質的になる場合、それが、1〜30nmの範囲内の幅を有する細孔を備える、印刷版を提供する。
上記多孔質被膜が、酸化物のみから実質的になる場合、それが、銅、マグネシウム、カドミウム、アルミニウム、ジルコニウム、ハフニウム、トリウム、クロム、タングステン、モリブデン、およびコバルトからなる群より選択される金属の少なくとも1種類の酸化物を備え、
上記多孔質被膜が、アルミナのみから実質的になる場合、それが、1〜30nmの範囲内の幅を有する細孔を備える、印刷版を提供する。
実質的に平面の基材と、
約0.1〜約30μmの範囲の厚さを有し、金属、金属酸化物、およびそれらの混合物からなる群の中の少なくとも1種類を備える、上記基材上の真空蒸着され砂目立てされていない多孔質被膜であって、最大100nmまでの範囲の細孔幅を有する細孔をその表面上に備え、上記範囲の細孔の過半数が1〜30nmの帯域の幅を有する多孔質被膜とを備え、
上記多孔質被膜が、酸化物のみから実質的になる場合、それが、銅、マグネシウム、カドミウム、アルミニウム、ジルコニウム、ハフニウム、トリウム、クロム、タングステン、モリブデン、およびコバルトからなる群より選択される金属の少なくとも1種類の酸化物を備え、
上記多孔質被膜が、アルミナのみから実質的になる場合、それが、1〜30nmの範囲内の幅を有する細孔を備える、製品を提供する。
印刷版であって、
(a)実質的に平面の基材と、
(b)約0.1〜約30μmの範囲の厚さを有し、金属、金属酸化物、およびそれらの混合物からなる群の中の少なくとも1種類を備える、真空蒸着された多孔質被膜と、
(c)場合により親水性層と、
を記載の順序で備え、
上記多孔質被膜が、酸化物のみから実質的になる場合、それが、銅、マグネシウム、カドミウム、アルミニウム、ジルコニウム、ハフニウム、トリウム、クロム、タングステン、モリブデン、およびコバルトからなる群より選択される金属の少なくとも1種類の酸化物を備え、
上記多孔質被膜が、アルミナのみから実質的になる場合、それが、1〜30nmの範囲内の幅を有する細孔を備える、印刷版を提供する。
厚さ63.5μmおよび面積100cm2の脱脂したアルミニウム基材箔(7枚)1組に対して、有機カルボン酸ナトリウム塩の熱水溶液で従来通り洗浄した後、室温において6%NaOHアルカリ水溶液を使用して清浄にし、続いて高純度脱イオン水で洗浄(スプレー)して、乾燥させることによって、真空蒸着の準備を行った。これらの箔を使用して、2層被膜の一方の側に真空蒸着させた。約0.3mTorr以下の残留ガス圧を有するアルゴンの不活性雰囲気において金属凝縮速度約300Å/秒で、純アルミニウム蒸気から厚さ0.7〜1.3μmの第1の層を熱蒸着して、強靭でおよび確実に接着した酸化物被膜としての第2の層を得た。純アルミニウム蒸気から、真空チャンバー中で純酸素の反応性雰囲気中で、5〜20μmの厚さの第2の層を蒸着した。アルミナ凝縮速度は220〜340Å/秒の範囲であり、酸素圧は1.8〜2.1mTorrの範囲であった。真空蒸着中の基材温度は150〜200℃であった。こうして形成された被膜は、平均比重量1.3g/cm3の高多孔度アルミニウム酸化物からなる透明層であった。酸化物被膜の多孔度は、含浸ケイ素系油TKO−19+の重量法によって測定した。この値を測定すると60±5%となった。結果として、皮膜全体の平均比重量は約3.2g/cm3となった。あきらかに、この酸化物密度の評価は、Al2O3の嵩密度の既知の実験データに対応している
1)アルカリ金属ケイ酸塩、6)カルボキシメチルセルロース、
2)フルオロジルコニウム酸カリウム、7)没食子酸、
3)有機Ti含有化合物、8)リンタングステン酸塩、
4)フェロシアン化物およびフェリシアン化物、9)ポリビニルホスホン酸、
5)ポリアクリル酸、10)アラビアゴム。
0.002Torr〜0.005torrの間の圧力の窒素、および2×10−4Torr〜5×10−4Torrの間の圧力の酸素の無水雰囲気中で300℃の温度に維持した清浄なアルミニウム箔基材上に熱伝導抵抗蒸着によってアルミニウムを蒸着した。蒸着速度は約300Å/秒であった。
図4は、表面における細孔幅分布のグラフであり、約8nm〜約10,000nmの範囲で細孔がこれらの実施例により拡大されており、最も多数の細孔は約10〜約30nmの範囲に集中し約20nmでピークとなっており2番目に多い細孔は約200〜約5000nmに集中し約3000nmでピークとなっていることが分かる。
陽極酸化された箔を以下の段階的手順で製造する。
1.米国特許第6,287,673号に記載されるように、約10−3Torr〜約10−2Torrの間の圧力を有し酸素分圧も有する不活性ガス雰囲気中で、高純度アルミニウム箔基材に対してAl/Al2O3の反応性蒸着を行う。
2.約85℃の温度のアジピン酸アンモニウムの0.83M水溶液中、初期電流密度約2A/dm2のDC電流によってステップ1の生成物を陽極酸化する。陽極酸化は、電流ブレークアウトの後最大10分間続ける。
3.ステップ2の生成物を脱イオン水で十分に洗浄する。
4.ステップ3の生成物を、40℃においてH3PO4(80%の酸35g/l)とクロム酸(20g/lのCrO3)とを含有する水溶液に2.5分間浸漬することによってエッチングする。
5.ステップ4の生成物を、ステップ2の条件下で陽極酸化する。
6.ステップ5の生成物を脱イオン水で十分に洗浄する。
7.ステップ6の生成物を、熱風中約500℃で約2分間焼きなましして、前述の条件下で2分間さらに陽極酸化する。
8.ステップ7の生成物を、ステップ2の条件下で約2分間陽極酸化する。
9.ステップ8の生成物を脱イオン水で十分に洗浄し、熱風で乾燥させる。
これは、ステップ2〜4を以下の手順(最初の陽極酸化とエッチングとを実質的に同時に行う)で置き換えることを除けば実施例3と同様に実施する。0.83Mのアジピン酸アンモニウムと0.14Mのシュウ酸との水溶液を含有する1つの槽にステップ1の生成物を浸漬する。この作業の電流密度、温度、および時間は、実施例Iのステップ2で前述したものと同じである。この箔を脱イオン水で十分に洗浄した後、実施例Iのステップ5〜9に記載の作業を実施する。
方法。米国特許第6,287,673号に記載されるようにして、厚さ63μmおよび全面積12.38cm2のAl箔基材に基づくVD箔NN464/1/11/1および464/1/11/2の2つの同一のサンプルに、各面厚さ20μmのAl/Al2O3を両面コーティングした。コーティングされた各表面の面積は11.91cm2であった。形成電圧21ボルト、形成電流0.5A、および電解質温度85℃において、アジピン酸アンモニウム溶液中で10分間両方のサンプルを形成(陽極酸化)した。このように陽極酸化されたサンプルの面積は10cm2であった。次にサンプルを脱イオン水で洗浄し、乾燥させ、そして秤量した。
第1の(エッチングしていない)箔サンプルは、8.9mgの油を吸収し、すなわち8.9/0.87=10.22mm3の油が11.91cm2の領域上に分散したことが分かった。したがって、サンプルの陽極酸化された領域(10cm2)上に吸収された油の体積は10.22×10/11.91=8.58mm3である。陽極酸化によって生じる細孔体積の減少は、15nmと見積もられる壁の厚さと関連し、これは約5.55mm3であり、したがって陽極酸化は5.55+8.58=14.13mm3であった。処理(基材の両側)下の皮膜体積は約40mm3であるので、初期サンプルの多孔度は100×14.13/40=35.3%である。
この実施例では、表面積を増加させるための方法として、(先の実施例2に記載した方法による)アルミニウム箔基材上の最初のアルミニウム/アルミニウム酸化物VD被膜の上の外部多孔質皮膜としてアルミナの真空蒸着を行った。蒸着過程中に蒸着したアルミニウムを全体的に酸化させる目的で、純酸素、または酸素を含有する気体混合物の反応性雰囲気中で純アルミニウムの真空蒸着によってアルミナ蒸着を行った(実施例1と比較されたい)。さらなる詳細な以下の表に示す。
この実施例(以下のシリーズ1〜12を参照)では、蒸着速度約1.5〜10Å/秒、内部圧力2〜5mTorrの窒素雰囲気、および350〜400℃、好ましくは360〜380℃の基材温度を使用して、アルミニウム箔(前出の実施例に記載のものと同様)の少なくとも一方の表面上に多孔質クロム被膜を真空蒸着する。
Claims (20)
- 実質的に平面の基材と、
約0.1〜約30μmの範囲内の厚さを有し、金属、金属酸化物、およびそれらの混合物からなる群の中の少なくとも1種類を備える、真空蒸着され砂目立てされていない多孔質被膜と、
画像記録層と、
を記載の順序で備え、
前記多孔質被膜が、酸化物のみから実質的になる場合、それが、銅、マグネシウム、カドミウム、アルミニウム、ジルコニウム、ハフニウム、トリウム、クロム、タングステン、モリブデン、およびコバルトからなる群より選択される金属の少なくとも1種類の酸化物を備え、
前記多孔質被膜が、アルミナのみから実質的になる場合、それが、1〜30nmの範囲内の幅を有する細孔を備える、印刷版。 - 以下の特徴、すなわち、
前記被膜が、赤外線に対して少なくとも65%の吸光度を有する、
前記印刷版が、前記被膜と前記画像記録層との間に有機アンダーコート層をさらに備える、および(または)
前記画像記録層がポリマーマトリックスを含む、
の少なくとも1つをさらなる特徴とする、請求項1に記載の印刷版。 - (a)実質的に平面の基材と、
(b)約0.1〜約30μmの範囲内の厚さを有し、金属、金属酸化物、およびそれらの混合物からなる群の中の少なくとも1種類を備える、真空蒸着され砂目立てされていない多孔質被膜と、
(c)親水性層と、
(d)画像記録層と、
を記載の順序で備え、
前記多孔質被膜が、酸化物のみから実質的になる場合、それが、銅、マグネシウム、カドミウム、アルミニウム、ジルコニウム、ハフニウム、トリウム、クロム、タングステン、モリブデン、およびコバルトからなる群より選択される金属の少なくとも1種類の酸化物を備え、
前記多孔質被膜が、アルミナのみから実質的になる場合、それが、1〜30nmの範囲内の幅を有する細孔を備える、印刷版。 - 層(c)が陽極金属酸化物層または真空蒸着された層である、請求項3に記載の印刷版。
- 以下の特徴、
(i)被膜(b)が、(α)および(β)からなる群、すなわち、
(α)弁金属およびクロム、および
(β)弁金属およびクロムから選択される少なくとも1種類の金属と、弁金属およびクロムの酸化物から選択される少なくとも1種類の酸化物との混合物、からなる群の中の少なくとも1種類を備える、
(ii)層(c)が親水性金属層および親水性金属酸化物層から選択される、
(iii)前記基材が、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム、およびステンレス鋼の基材から選択される、
(iv)前記印刷版が、前記被膜と前記画像記録層との間に有機アンダーコート層をさらに備える、
(v)前記画像記録層がポリマーマトリックスを含む、
の少なくとも1つをさらなる特徴とする、請求項3に記載の印刷版。 - 以下の特徴、
(i)被膜(b)が、選択された少なくとも1種類の弁金属と少なくとも1種類の弁金属酸化物との混合物を備える、
(ii)層(c)が、親水性金属銅層および親水性弁金属酸化物層から選択される、
(iii)前記基材が、支持されたアルミニウム箔およびアルミニウム合金箔から選択される、
の少なくとも1つをさらなる特徴とする、請求項5に記載の印刷版。 - 以下の特徴、
(i)被膜(b)がフラクタル表面構造を有する、
(ii)層(c)が、陽極弁金属酸化物層および非陽極弁金属酸化物層から選択される、
(iii)前記基材が、比較的剛性のより高い金属またはポリマーの母材で支持されたアルミニウム箔およびアルミニウム合金箔から選択される、
の少なくとも1つをさらなる特徴とする、請求項6に記載の印刷版。 - 被膜(b)において、前記金属および金属酸化物が、弁金属およびクロムならびにそれらの酸化物から選択され、被膜(b)が100%金属からなるのではなく、(b)および(c)の少なくとも一方が赤外性に対して少なくとも65%の吸光度を有することを特徴とする、請求項3に記載の印刷版。
- 前記基材が、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム、およびステンレス鋼の基材から選択される、請求項8に記載の印刷版。
- 以下の特徴、
(i)被膜(b)が、少なくとも1種類の弁金属と少なくとも1種類の弁金属酸化物との混合物を備える、
(ii)層(c)が、親水性金属銅層および親水性弁金属酸化物層から選択される、
(iii)前記基材が、支持されたアルミニウム箔およびアルミニウム合金箔から選択される、
の少なくとも1つをさらなる特徴とする、請求項8に記載の印刷版。 - 以下の特徴、
(i)被膜(b)が、少なくとも1種類の弁金属と少なくとも1種類の弁金属酸化物との混合物を備える、
(ii)層(c)が、親水性金属銅層および親水性弁金属酸化物層から選択される、
(iii)前記基材が、支持されたアルミニウム箔およびアルミニウム合金箔から選択される、
の少なくとも1つをさらなる特徴とする、請求項9に記載の印刷版。 - 以下の特徴、
(i)被膜(b)がフラクタル表面構造を有する、
(ii)層(c)が、陽極弁金属酸化物層および非陽極弁金属酸化物層から選択される、
(iii)前記基材が、比較的剛性のより高い金属またはポリマーの母材で支持されたアルミニウム箔およびアルミニウム合金箔から選択される、
の少なくとも1つをさらなる特徴とする、請求項10に記載の印刷版。 - 以下の特徴、
(i)被膜(b)がフラクタル表面構造を有する、
(ii)層(c)が、陽極弁金属酸化物層および非陽極弁金属酸化物層から選択される、
(iii)前記基材が、比較的剛性のより高い金属またはポリマーの母材で支持されたアルミニウム箔およびアルミニウム合金箔から選択される、
の少なくとも1つをさらなる特徴とする、請求項11に記載の印刷版。 - 前記基材が、金属性およびポリマーの支持体から選択される比較的剛性が高く使い捨てまたは再利用可能な母剤に接着されたアルミニウム箔およびアルミニウム合金箔から選択される、請求項1〜3のいずれか一項に記載の印刷版。
- ナノメートル規模の多孔質表面層を有する製品であって、
実質的に平面の基材と、
約0.1〜約30μmの範囲の厚さを有し、金属、金属酸化物、およびそれらの混合物からなる群の中の少なくとも1種類を備える、前記基板上の真空蒸着され砂目立てされていない多孔質被膜であって、最大100nmまでの範囲の細孔幅を有する細孔をその表面層中に備え、前記範囲の細孔の過半数が1〜30nmの帯域の幅を有する被膜とを備える多孔質被膜と、
を備え、
前記多孔質被膜が、酸化物のみから実質的になる場合、それが、銅、マグネシウム、カドミウム、アルミニウム、ジルコニウム、ハフニウム、トリウム、クロム、タングステン、モリブデン、およびコバルトからなる群より選択される金属の少なくとも1種類の酸化物を備え、
前記多孔質被膜が、アルミナのみから実質的になる場合、それが、1〜30nmの範囲内の幅を有する細孔を備える、製品。 - 以下の特徴、(a)前記1〜30nm幅の細孔の過半数が、前記細孔の幅の1〜2倍の範囲内にある細孔長さを有する、(b)1〜8nm細孔幅の帯域幅内の細孔の密度が約3.5nmにおいてピークとなる、(c)8nm〜10,000nmの広い帯域幅において、最も多数の細孔が10〜30nmの範囲に集中し、2番目に多い細孔が200〜5000nmの範囲に集中する、(d)フラクタル構造を備える、(e)前記金属が弁金属であり、前記金属酸化物が弁金属酸化物である、
の少なくとも1つをさらなる特徴とする、請求項15に記載の製品。 - 印刷版であって、
(a)実質的に平面である砂目立てしていない金属性基材と、
(b)約0.1〜約30μmの範囲の厚さを有し、金属、金属酸化物、およびそれらの混合物からなる群の中の少なくとも1種類を備える、真空蒸着された多孔質被膜と、
(c)場合により親水性層と、
(d)画像記録層と、
を記載の順序で備え、
前記多孔質被膜が、酸化物のみから実質的になる場合、それが、銅、マグネシウム、カドミウム、アルミニウム、ジルコニウム、ハフニウム、トリウム、クロム、タングステン、モリブデン、およびコバルトからなる群より選択される金属の少なくとも1種類の酸化物を備え、
前記多孔質被膜が、アルミナのみから実質的になる場合、それが、1〜30nmの範囲内の幅を有する細孔を備える、印刷版。 - 実質的に、添付の図面を参照して本明細書で説明され、添付の図面に示されている製品。
- 実質的に、添付の図面を参照して本明細書で説明され、添付の図面に示されている印刷版。
- 印刷版であって、
(a)実質的に平面の基材と、
(b)約0.1〜約30μmの範囲の厚さを有し、金属、金属酸化物、およびそれらの混合物からなる群の中の少なくとも1種類を備える、真空蒸着された多孔質被膜と、場合により、
(c)親水性層と、
を記載の順序で備え、
前記多孔質被膜が、酸化物のみから実質的になる場合、それが、銅、マグネシウム、カドミウム、アルミニウム、ジルコニウム、ハフニウム、トリウム、クロム、タングステン、モリブデン、およびコバルトからなる群より選択される金属の少なくとも1種類の酸化物を備え、
前記多孔質被膜が、アルミナのみから実質的になる場合、それが、1〜30nmの範囲内の幅を有する細孔を備え、
前記印刷版に画像記録層が存在しないことを特徴とする、印刷版。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB0421810.3 | 2004-10-01 | ||
GB0421810A GB2418628B (en) | 2004-10-01 | 2004-10-01 | Improved laminates and the manufacture thereof |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006123545A true JP2006123545A (ja) | 2006-05-18 |
JP2006123545A5 JP2006123545A5 (ja) | 2008-09-11 |
JP4859428B2 JP4859428B2 (ja) | 2012-01-25 |
Family
ID=33427879
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005290245A Expired - Fee Related JP4859428B2 (ja) | 2004-10-01 | 2005-10-03 | 多孔質非陽極層を備える平版印刷版 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8877426B2 (ja) |
EP (1) | EP1643308A3 (ja) |
JP (1) | JP4859428B2 (ja) |
GB (1) | GB2418628B (ja) |
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- 2005-10-03 US US11/242,292 patent/US8877426B2/en active Active
- 2005-10-03 JP JP2005290245A patent/JP4859428B2/ja not_active Expired - Fee Related
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US8877426B2 (en) | 2014-11-04 |
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EP1643308A3 (en) | 2008-05-28 |
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EP1643308A2 (en) | 2006-04-05 |
GB0421810D0 (en) | 2004-11-03 |
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JP4859428B2 (ja) | 2012-01-25 |
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Legal Events
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