JP2006108597A - 干渉計を備えた露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 露光用パターンを被露光体に投影する投影光学系と、計測用パターンを介して光を前記投影光学系に導光し、前記投影光学系の光学性能を干渉縞として測定する測定装置とを有する露光装置であって、前記干渉縞の最大光量をImax、前記干渉縞の最小光量をImin、前記干渉縞のビジビリティをV=(Imax−Imin)/(Imax+Imin)とすると、前記露光装置は、前記測定装置が前記投影光学系の光学性能を測定する際に、Vが0.3以上になるように前記計測用パターンを照明する前記光の開口数を調節することを特徴とする露光装置を提供する。
【選択図】 図1
Description
114a σ絞り
114b 計算機ホログラム
116 オプティカルインテグレータ
119 レンズ
150 投影光学系
170 測定装置
Claims (17)
- 露光用パターンを被露光体に投影する投影光学系と、
計測用パターンを介して光を前記投影光学系に導光し、前記投影光学系の光学性能を干渉縞として測定する測定装置とを有する露光装置であって、
前記干渉縞の最大光量をImax、前記干渉縞の最小光量をImin、前記干渉縞のビジビリティをV=(Imax−Imin)/(Imax+Imin)とすると、前記露光装置は、前記測定装置が前記投影光学系の光学性能を測定する際に、Vが0.3以上になるように前記計測用パターンを照明する前記光の開口数を調節することを特徴とする露光装置。 - 露光用パターンを被露光体に投影する投影光学系と、
計測用パターンを介して光を前記投影光学系に導光し、前記投影光学系の光学性能を干渉縞として測定する測定装置とを有する露光装置であって、
前記露光装置は、前記測定装置が前記投影光学系の光学性能を測定する際に、前記計測用パターンを照明する前記光の開口数をNAil、前記投影光学系の前記計測用パターン側の開口数をNAo、σをNAil/NAoとするとσ≦0.3を満足するように、前記計測用パターンを照明する前記光の開口数を調節することを特徴とする露光装置。 - 前記測定装置は、回折格子を有し、前記計測用パターンを前記投影光学系により前記回折格子の近傍に結像させるシアリング干渉計であり、
前記干渉縞は、前記回折格子から射出した2つ以上の異なる次数の光により形成されることを特徴とする請求項1又は2記載の露光装置。 - 露光用パターンを被露光体に投影する投影光学系と、
計測用パターンを介して光を前記投影光学系に導光し、前記投影光学系の光学性能を干渉縞として測定する測定装置とを有する露光装置であって、
前記露光装置は、前記測定装置が前記投影光学系の光学性能を測定する際に、前記計測用パターンの短手方向と長手方向で前記光の開口数が異なるように、前記計測用パターンを照明する前記光の開口数を調節することを特徴とする露光装置。 - 前記計測用パターンの前記短手方向を照明する前記光の開口数をNA1、前記投影光学系の前記計測用パターン側の開口数をNAo、σ1をNA1/NAoとすると、σ1≦0.3を満足するように、前記光の開口数を調節することを特徴とする請求項4記載の露光装置。
- 前記投影光学系の前記計測用パターン側の開口数をNAo、前記計測用パターンの前記長手方向を照明する前記光の開口数をNA2、σ2をNA2/NAoとすると、σ2≧1となるか前記計測用パターンを照明する前記光の開口数が最大となるように、前記光の開口数を調節することを特徴とする請求項4又は5記載の露光装置。
- 前記測定装置は、回折格子を有し、前記計測用パターンを前記投影光学系により前記回折格子の近傍に結像させるシアリング干渉計であり、
前記干渉縞は、前記回折格子から射出した2つ以上の異なる次数の光により形成され、
前記計測用パターンの前記短手方向は前記回折格子の格子パターンが並んでいる方向であることを特徴とする請求項4乃至6のうちいずれか一項記載の露光装置。 - 前記光の前記開口数を調節する開口絞りを更に有することを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか一項記載の露光装置。
- 前記光の前記開口数を調節するほぼスリット形状の開口を有する開口絞りを更に有することを特徴とする請求項4記載の露光装置。
- 光路から退避可能に設けられ、前記光の前記開口数を調節するための計算機ホログラムを更に有することを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか一項記載の露光装置。
- 光路から退避可能に設けられ、前記光の前記開口数を変更するレンズを更に有することを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか一項記載の露光装置。
- 前記レンズはシリンドリカルレンズであることを特徴とする請求項11記載の露光装置。
- 露光用パターンを被露光体に投影する投影光学系と、
計測用パターンを介して光を前記投影光学系に導光し、前記投影光学系の光学性能を干渉縞として測定する測定装置とを有する露光装置であって、
光路から退避可能に設けられ、前記露光用パターンを照明するための光をインコヒーレント化する手段とを有することを特徴とすることを特徴とする露光装置。 - 前記露光装置は、前記露光用パターンと前記計測用パターンとを照明する照明光学系を更に有することを特徴とする請求項1乃至13のうちいずれか一項記載の露光装置。
- 前記露光装置は、前記計測用パターンと、前記露光用パターンを形成したマスクと前記被露光体とのアライメントに使用するアライメントマークとを照明するアライメントスコープを更に有することを特徴とする請求項1乃至13のうちいずれか一項記載の露光装置。
- 請求項1乃至15記載の露光装置を利用して前記投影光学系の光学性能を算出するステップと、
前記算出された前記投影光学系の前記光学性能に基づいて前記投影光学系を調節するステップと、
前記調節された前記投影光学系を有する前記露光装置を使用して被露光体を露光するステップとを有することを特徴とする露光方法。 - 請求項1乃至15のうちいずれか一項記載の露光装置を利用して被露光体を露光するステップと、
前記露光された前記被露光体を現像するステップとを有するデバイス製造方法。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007287817A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Nikon Corp | 露光装置の較正方法及び露光装置 |
JP2009021450A (ja) * | 2007-07-12 | 2009-01-29 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2009182253A (ja) * | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Canon Inc | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP2010283308A (ja) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | Canon Inc | 波面収差の測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP5725018B2 (ja) * | 2010-04-05 | 2015-05-27 | 株式会社ニコン | 波面収差測定装置 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8859000B2 (en) * | 2003-05-05 | 2014-10-14 | The Research Foundation Of State University Of New York | Synthesis of nanoparticles by an emulsion-gas contacting process |
JP4666982B2 (ja) * | 2004-09-02 | 2011-04-06 | キヤノン株式会社 | 光学特性測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2009216454A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Canon Inc | 波面収差測定装置、波面収差測定方法、露光装置およびデバイス製造方法 |
CN101782720A (zh) * | 2009-01-21 | 2010-07-21 | 钜晶电子股份有限公司 | 测量和监控曝光机台的数值孔径的方法、控片和光掩模 |
KR101941987B1 (ko) * | 2011-12-26 | 2019-01-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 노광 장치 |
JP6980562B2 (ja) * | 2018-02-28 | 2021-12-15 | キヤノン株式会社 | パターン形成装置、アライメントマークの検出方法及びパターン形成方法 |
JP7031626B2 (ja) * | 2019-03-13 | 2022-03-08 | オムロン株式会社 | センサヘッド |
CN115390364A (zh) * | 2022-07-22 | 2022-11-25 | 北京华卓精科科技股份有限公司 | 曝光周期调整装置及方法 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0645217A (ja) * | 1991-10-08 | 1994-02-18 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JP2000097666A (ja) * | 1998-09-22 | 2000-04-07 | Nikon Corp | 面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉計の校正方法 |
JP2000340488A (ja) * | 1999-05-28 | 2000-12-08 | Canon Inc | 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
JP2001035057A (ja) * | 1999-07-22 | 2001-02-09 | Sony Corp | オートチェンジャの制御装置及び制御方法 |
WO2002042728A1 (fr) * | 2000-11-27 | 2002-05-30 | Nikon Corporation | Procede et dispositif permettant de mesurer les aberrations d'un systeme optique de projection et procede et dispositif d'exposition |
JP2002231619A (ja) * | 2000-11-29 | 2002-08-16 | Nikon Corp | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 |
WO2003088329A1 (en) * | 2002-04-17 | 2003-10-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Reticle and optical characteristic measuring method |
JP2003302205A (ja) * | 2002-02-07 | 2003-10-24 | Nikon Corp | シアリング干渉測定方法及びシアリング干渉計、投影光学系の製造方法、投影光学系、及び投影露光装置 |
JP2003318087A (ja) * | 2002-04-23 | 2003-11-07 | Canon Inc | 照明光学系、照明方法及び露光装置 |
JP2004037429A (ja) * | 2002-07-08 | 2004-02-05 | Nikon Corp | シアリング干渉計の校正方法、投影光学系の製造方法、投影光学系、及び投影露光装置 |
JP2004273748A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Canon Inc | 収差測定装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5764139A (en) | 1980-10-08 | 1982-04-19 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Interferometer |
US5757505A (en) * | 1996-02-16 | 1998-05-26 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
US6312373B1 (en) | 1998-09-22 | 2001-11-06 | Nikon Corporation | Method of manufacturing an optical system |
JP2000146705A (ja) | 1998-11-04 | 2000-05-26 | Nikon Corp | グレーティングシアリング干渉計を用いた位相分布の計測方法 |
JP3796368B2 (ja) | 1999-03-24 | 2006-07-12 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置 |
JP3796369B2 (ja) | 1999-03-24 | 2006-07-12 | キヤノン株式会社 | 干渉計を搭載した投影露光装置 |
EP1231514A1 (en) * | 2001-02-13 | 2002-08-14 | Asm Lithography B.V. | Measurement of wavefront aberrations in a lithographic projection apparatus |
KR100927560B1 (ko) * | 2002-01-29 | 2009-11-23 | 가부시키가이샤 니콘 | 이미지 형성 상태 조정 시스템, 노광 방법 및 노광 장치, 그리고 프로그램 및 정보 기록 매체 |
US7095509B2 (en) * | 2003-03-07 | 2006-08-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Aberration measuring method for projection optical system with a variable numerical aperture in an exposure apparatus |
-
2004
- 2004-10-08 JP JP2004296973A patent/JP4769448B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
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Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0645217A (ja) * | 1991-10-08 | 1994-02-18 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
JP2000097666A (ja) * | 1998-09-22 | 2000-04-07 | Nikon Corp | 面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉計の校正方法 |
JP2000340488A (ja) * | 1999-05-28 | 2000-12-08 | Canon Inc | 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
JP2001035057A (ja) * | 1999-07-22 | 2001-02-09 | Sony Corp | オートチェンジャの制御装置及び制御方法 |
WO2002042728A1 (fr) * | 2000-11-27 | 2002-05-30 | Nikon Corporation | Procede et dispositif permettant de mesurer les aberrations d'un systeme optique de projection et procede et dispositif d'exposition |
JP2002231619A (ja) * | 2000-11-29 | 2002-08-16 | Nikon Corp | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 |
JP2003302205A (ja) * | 2002-02-07 | 2003-10-24 | Nikon Corp | シアリング干渉測定方法及びシアリング干渉計、投影光学系の製造方法、投影光学系、及び投影露光装置 |
WO2003088329A1 (en) * | 2002-04-17 | 2003-10-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Reticle and optical characteristic measuring method |
JP2003318087A (ja) * | 2002-04-23 | 2003-11-07 | Canon Inc | 照明光学系、照明方法及び露光装置 |
JP2004037429A (ja) * | 2002-07-08 | 2004-02-05 | Nikon Corp | シアリング干渉計の校正方法、投影光学系の製造方法、投影光学系、及び投影露光装置 |
JP2004273748A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Canon Inc | 収差測定装置 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007287817A (ja) * | 2006-04-14 | 2007-11-01 | Nikon Corp | 露光装置の較正方法及び露光装置 |
JP2009021450A (ja) * | 2007-07-12 | 2009-01-29 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US8294875B2 (en) | 2007-07-12 | 2012-10-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device fabrication method |
JP2009182253A (ja) * | 2008-01-31 | 2009-08-13 | Canon Inc | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP2010283308A (ja) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | Canon Inc | 波面収差の測定装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP5725018B2 (ja) * | 2010-04-05 | 2015-05-27 | 株式会社ニコン | 波面収差測定装置 |
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