JP2009021450A - 露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光源からの光束を用いてレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを、ステージに支持された基板に投影する投影光学系と、測定部とを有し、前記測定部は、前記ステージに配置されて前記投影光学系からの光束を透過する面積が互いに異なる複数の開口パターンを含む測定基板と、前記ステージに配置されて前記複数の開口パターンからの光束を受光する光電変換センサとを有し、前記光電変換センサからの出力に基づいて、前記照明光学系で形成される有効光源分布、前記レチクルのパターンによって発生する回折光分布及び前記投影光学系の瞳透過率分布の少なくとも1つと、前記投影光学系の波面収差とが求められることを特徴とする露光装置を提供する。
【選択図】図1
Description
10 照明装置
12 光源
14 照明光学系
20 レチクル
25 レチクルステージ
30 投影光学系
40 ウエハ
45 ウエハステージ
50 調整部
60 制御部
70 測定部
71 レチクル側測定基板
711、711A及び711B スリット
713 ピンホール
700 センサユニット
720 ウエハ側測定基板
721、721A及び712B スリット
722 ピンホール
723 スリット
724、724A及び724B ピンホール
725 回折格子パターン
740 光電変換センサ
742 受光面
760 遮蔽板
780 光学系(瞳結像光学系)
Claims (11)
- 光源からの光束を用いてレチクルを照明する照明光学系と、
前記レチクルのパターンを、ステージに支持された基板に投影する投影光学系と、
測定部とを有し、
前記測定部は、
前記ステージに配置されて前記投影光学系からの光束を透過する面積が互いに異なる複数の開口パターンを含む測定基板と、
前記ステージに配置されて前記複数の開口パターンからの光束を受光する光電変換センサとを有し、
前記光電変換センサからの出力に基づいて、前記照明光学系で形成される有効光源分布、前記レチクルのパターンによって発生する回折光分布及び前記投影光学系の瞳透過率分布の少なくとも1つと、前記投影光学系の波面収差とが求められることを特徴とする露光装置。 - 前記複数の開口パターンは、矩形形状の開口パターン及び円形形状の開口パターンを含むことを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記矩形形状の開口パターンは、前記投影光学系の波面収差を測定する際に用いられる短手方向の幅が互いに異なる一対のスリットと、前記レチクルのパターンによって発生する回折光分布を測定する際に用いられるスリットとを含むことを特徴とする請求項2記載の露光装置。
- 前記円形形状の開口パターンは、前記照明光学系で形成される有効光源分布を測定する際に用いられることを特徴とする請求項2記載の露光装置。
- 前記円形形状の開口パターンは、前記投影光学系の波面収差を測定する際に用いられる面積が互いに異なる一対のピンホールを含むことを特徴とする請求項2記載の露光装置。
- 前記矩形形状の開口パターン及び前記円形形状の開口パターンは、前記矩形形状の開口パターンから射出する光束の前記光電変換センサにおける有効径と前記円形形状の開口パターンから射出する光束の前記光電変換センサにおける有効径とが重なるように配置され、
前記光電変換センサは、少なくとも、前記矩形形状の開口パターンから射出する光束の前記光電変換センサにおける有効径及び前記円形形状の開口パターンから射出する光束の前記光電変換センサにおける有効径に外接する大きさの面積を有することを特徴とする請求項2記載の露光装置。 - 前記光電変換センサは、複数の画素を含み、
前記投影光学系の波面収差、前記照明光学系で形成される有効光源分布、前記レチクルのパターンによって発生する回折光分布及び前記投影光学系の瞳透過率分布の各々を測定する場合に応じて、前記複数の画素のうち使用される画素、前記画素の蓄積時間、出力ゲイン及び階調数が変更されることを特徴とする請求項2記載の露光装置。 - 光源からの光束を用いてレチクルを照明する照明光学系と、
前記レチクルのパターンを、ステージに支持された基板に投影する投影光学系と、
測定部とを有し、
前記測定部は、
前記ステージに配置されて前記投影光学系からの光束を透過する開口パターンを含む測定基板と、
前記ステージに配置されて前記開口パターンからの光束を受光する光電変換センサとを有し、
前記投影光学系の波面収差、前記照明光学系で形成される有効光源分布、前記レチクルのパターンによって発生する回折光分布及び前記投影光学系の瞳透過率分布の各々を測定する場合に応じて、前記光電変換センサからの出力を切り替えることを特徴とする露光装置。 - 前記開口パターンは、前記投影光学系の解像限界以下の径の第1のピンホールと、前記投影光学系の解像限界よりも大きい径の第2のピンホールとを含み、
前記測定部は、前記照明光学系で形成される有効光源分布、前記レチクルのパターンによって発生する回折光分布及び前記投影光学系の瞳透過率分布のうちいずれか1つを測定する際に、前記第1のピンホールに光束が入射することを防止する遮蔽板を有することを特徴とする請求項8記載の露光装置。 - 前記照明光学系及び前記投影光学系の少なくとも一方を調整する調整部と、
前記測定部の測定結果に基づいて、前記調整部を制御する制御部とを更に有することを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の露光装置。 - 請求項1乃至10のうちいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016513815A (ja) * | 2013-03-14 | 2016-05-16 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 投影露光装置上で光学的対称性を測定する装置及び方法 |
JP2018041115A (ja) * | 2017-12-15 | 2018-03-15 | 株式会社ニコン | 露光装置及び方法、算出装置及び方法、並びにそのプログラム |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013238670A (ja) * | 2012-05-11 | 2013-11-28 | Canon Inc | 露光装置、露光方法、デバイスの製造方法及び開口板 |
JP5900204B2 (ja) * | 2012-07-10 | 2016-04-06 | 富士ゼロックス株式会社 | 文書処理装置及びプログラム |
KR102120893B1 (ko) * | 2012-12-14 | 2020-06-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | 노광장치, 그 제어방법 및 노광을 위한 정렬방법 |
US10088412B2 (en) * | 2016-09-27 | 2018-10-02 | Electronics & Telecommunications Research Institute | Apparatus for analyzing bio-material |
JP6980562B2 (ja) * | 2018-02-28 | 2021-12-15 | キヤノン株式会社 | パターン形成装置、アライメントマークの検出方法及びパターン形成方法 |
JP7062716B2 (ja) * | 2020-03-27 | 2022-05-06 | キヤノン株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
CN113204176A (zh) * | 2021-04-27 | 2021-08-03 | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 | 用于检测和调试设备成像光路的工装、检测系统和方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005244126A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Canon Inc | 測定装置を搭載した露光装置 |
JP2006019691A (ja) * | 2004-05-31 | 2006-01-19 | Nikon Corp | 収差計測方法及び装置、露光方法及び装置、並びにマスク |
JP2006073697A (ja) * | 2004-09-01 | 2006-03-16 | Canon Inc | 干渉計を備えた露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
JP2006108597A (ja) * | 2004-10-08 | 2006-04-20 | Canon Inc | 干渉計を備えた露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
JP2006278960A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2006303196A (ja) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Canon Inc | 測定装置及びそれを有する露光装置 |
JP2006324311A (ja) * | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Canon Inc | 波面収差測定装置及びそれを有する露光装置 |
JP2007165845A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-28 | Nikon Corp | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2007192676A (ja) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Canon Inc | 投影露光装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100525067B1 (ko) * | 1997-01-20 | 2005-12-21 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치의 광학 특성 측정 방법, 노광 장치의 동작 방법 및 투영 노광 장치 |
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005244126A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-09-08 | Canon Inc | 測定装置を搭載した露光装置 |
JP2006019691A (ja) * | 2004-05-31 | 2006-01-19 | Nikon Corp | 収差計測方法及び装置、露光方法及び装置、並びにマスク |
JP2006073697A (ja) * | 2004-09-01 | 2006-03-16 | Canon Inc | 干渉計を備えた露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
JP2006108597A (ja) * | 2004-10-08 | 2006-04-20 | Canon Inc | 干渉計を備えた露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
JP2006278960A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2006303196A (ja) * | 2005-04-20 | 2006-11-02 | Canon Inc | 測定装置及びそれを有する露光装置 |
JP2006324311A (ja) * | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Canon Inc | 波面収差測定装置及びそれを有する露光装置 |
JP2007165845A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-28 | Nikon Corp | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2007192676A (ja) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Canon Inc | 投影露光装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016513815A (ja) * | 2013-03-14 | 2016-05-16 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 投影露光装置上で光学的対称性を測定する装置及び方法 |
KR101738288B1 (ko) | 2013-03-14 | 2017-05-19 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 투영 노광 장치의 광학 대칭 특성 측정 |
US9703205B2 (en) | 2013-03-14 | 2017-07-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Measuring an optical symmetry property on a projection exposure apparatus |
JP2018041115A (ja) * | 2017-12-15 | 2018-03-15 | 株式会社ニコン | 露光装置及び方法、算出装置及び方法、並びにそのプログラム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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