JP2006100423A - 磁気記憶装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】小型且つ簡易な構造でありながら、同時に、書き込み電流を低減することができる磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】磁気抵抗効果素子20は、その一対の側面20A、20Bの少なくとも一部が、磁気ヨーク18の一対の開放端部14、16の各端面14A、16Bとそれぞれ対向するよう配設され、且つ、磁気抵抗効果素子20の一対の側面20A、20Bと、磁気ヨーク18の一対の開放端部14、16の各端面14A、16Bは、それぞれ所定の角度を有している。
【選択図】図3
【解決手段】磁気抵抗効果素子20は、その一対の側面20A、20Bの少なくとも一部が、磁気ヨーク18の一対の開放端部14、16の各端面14A、16Bとそれぞれ対向するよう配設され、且つ、磁気抵抗効果素子20の一対の側面20A、20Bと、磁気ヨーク18の一対の開放端部14、16の各端面14A、16Bは、それぞれ所定の角度を有している。
【選択図】図3
Description
本発明は、磁気抵抗効果を利用して情報を記憶可能な磁気記憶装置に関する。
従来、高速動作が可能な不揮発性の記憶装置として、磁気抵抗効果を利用して情報を記憶可能な磁気ランダムアクセスメモリ(MRAM:Magnetic Random Access Memory)と称される磁気記憶装置が広く知られている。
このような磁気記憶装置においては、動作速度の向上や書き込み電流の低減等のために磁気抵抗効果素子への書き込みを効率的に行うことが求められており、例えば、配線周りに生じる磁界の磁束を磁気抵抗効果素子に集中させるための略環状の磁気ヨークを備えた磁気記憶装置が提案されている(特許文献1及び2参照。)。
しかしながら、従来の磁気記憶装置において更に書き込み電流の低減を図るには、磁気ヨークの大型化等により磁気抵抗効果素子に集中させる磁束を増大する必要があり、小型化が要求される磁気記憶装置においては書き込み電流の低減に限界があった。
本発明は、このような問題点を解決するためになされたものであって、小型且つ簡易な構造でありながら、同時に、書き込み電流を低減することができる磁気記憶装置を提供することを目的とする。
本発明の発明者は、鋭意研究の結果、小型且つ簡易な構造でありながら、同時に、書き込み電流を低減することができる磁気記憶装置を見出した。
即ち、次のような本発明により、上記目的を達成することができる。
(1)複数の記憶領域を備え、前記複数の記憶領域のそれぞれには、外部磁界によって磁化方向が変化する感磁層を含む磁気抵抗効果素子と、書き込み電流によって前記感磁層に前記外部磁界を提供する配線と、空隙を介して対向する少なくとも一対の開放端部を有する略環状体からなり、前記配線の延在方向の一部において該配線の外周を囲むように配設された磁気ヨークと、を含んでなる磁気記憶装置であって、前記磁気抵抗効果素子は、その一対の側面の少なくとも一部が、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面とそれぞれ対向するよう配設され、且つ、前記磁気抵抗効果素子の一対の側面の少なくとも一部と、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面は、それぞれ所定の角度を有していることを特徴とする磁気記憶装置。
(2)前記磁気抵抗効果素子の一対の側面の少なくとも一部と、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面は、略同一角度で傾斜されていることを特徴とする前記(1)記載の磁気記憶装置。
(3)前記磁気抵抗効果素子の一対の側面の少なくとも一部と、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面の傾斜角は、20度以上90度未満に設定されていることを特徴とする前記(1)又は(2)記載の磁気記憶装置。
(4)複数の記憶領域を備え、前記複数の記憶領域のそれぞれには、外部磁界によって磁化方向が変化する感磁層を含む磁気抵抗効果素子と、書き込み電流によって前記感磁層に前記外部磁界を提供する配線と、空隙を介して対向する少なくとも一対の開放端部を有する略環状体からなり、前記配線の延在方向の一部において該配線の外周を囲むように配設された磁気ヨークと、を含んでなる磁気記憶装置であって、前記磁気抵抗効果素子は、その一対の側面の少なくとも一部が、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面とそれぞれ対向するよう配設され、且つ、前記磁気ヨークの径方向断面形状は、略円形又は略長円形とされていることを特徴とする磁気記憶装置。
(5)複数の記憶領域を備え、前記複数の記憶領域のそれぞれには、外部磁界によって磁化方向が変化する感磁層を含む磁気抵抗効果素子と、書き込み電流によって前記感磁層に前記外部磁界を提供する配線と、空隙を介して対向する少なくとも一対の開放端部を有する略環状体からなり、前記配線の延在方向の一部において該配線の外周を囲むように配設された磁気ヨークと、を含んでなる磁気記憶装置であって、前記磁気抵抗効果素子は、その一対の側面の少なくとも一部が、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面とそれぞれ対向するよう配設され、且つ、前記磁気ヨークの一対の開放端部近傍における磁気ヨーク内の磁力線の向きが、前記磁気抵抗効果素子の磁化容易軸の向きと略一致していることを特徴とする磁気記憶装置。
(6)前記磁気ヨークは一体的に連続して形成されていることを特徴とする前記(1)乃至(5)のいずれかに記載の磁気記憶装置。
(7)前記配線は、前記磁気ヨークの軸心近傍を通過するように配設されていることを特徴とする前記(1)乃至(6)のいずれかに記載の磁気記憶装置。
(8)前記磁気抵抗効果素子の一対の側面と、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面との間には、非電導性材料からなる略同一厚さの絶縁層が介在されていることを特徴とする前記(1)乃至(7)のいずれかに記載の磁気記憶装置。
(9)前記磁気抵抗効果素子は、少なくとも反強磁性層と、第1磁性層と、非磁性層と、第2磁性層と、を順次積層してなることを特徴とする記(1)乃至(8)のいずれかに記載の磁気記憶装置。
(10)前記第1磁性層は、磁性層と、非磁性導電層と、磁性層と、を順次積層した3層構造からなることを特徴とする前記(9)記載の磁気記憶装置。
本発明に係る磁気記憶装置によれば、小型且つ簡易な構造でありながら、同時に、書き込み電流を低減することができるという優れた効果を有する。
本発明に係る磁気記憶装置は、複数の記憶領域を備え、前記複数の記憶領域のそれぞれには、外部磁界によって磁化方向が変化する感磁層を含む磁気抵抗効果素子と、書き込み電流によって前記感磁層に前記外部磁界を提供する配線と、空隙を介して対向する少なくとも一対の開放端部を有する略環状体からなり、前記配線の延在方向の一部において該配線の外周を囲むように配設された磁気ヨークと、を含んでなる磁気記憶装置であって、前記磁気抵抗効果素子は、その一対の側面の少なくとも一部が、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面とそれぞれ対向するよう配設され、且つ、前記磁気抵抗効果素子の一対の側面の少なくとも一部と、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面は、それぞれ所定の角度を有していることによって、書き込み電流を低減したものである。
又、本発明に係る磁気記憶装置は、複数の記憶領域を備え、前記複数の記憶領域のそれぞれには、外部磁界によって磁化方向が変化する感磁層を含む磁気抵抗効果素子と、書き込み電流によって前記感磁層に前記外部磁界を提供する配線と、空隙を介して対向する少なくとも一対の開放端部を有する略環状体からなり、前記配線の延在方向の一部において該配線の外周を囲むように配設された磁気ヨークと、を含んでなる磁気記憶装置であって、前記磁気抵抗効果素子は、その一対の側面の少なくとも一部が、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面とそれぞれ対向するよう配設され、且つ、前記磁気ヨークの径方向断面形状は、略円形又は略長円形とされていることによって、上記同様の課題を解決したものである。
更に、本発明に係る磁気記憶装置は、複数の記憶領域を備え、前記複数の記憶領域のそれぞれには、外部磁界によって磁化方向が変化する感磁層を含む磁気抵抗効果素子と、書き込み電流によって前記感磁層に前記外部磁界を提供する配線と、空隙を介して対向する少なくとも一対の開放端部を有する略環状体からなり、前記配線の延在方向の一部において該配線の外周を囲むように配設された磁気ヨークと、を含んでなる磁気記憶装置であって、前記磁気抵抗効果素子は、その一対の側面の少なくとも一部が、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面とそれぞれ対向するよう配設され、且つ、前記磁気ヨークの一対の開放端部近傍における磁気ヨーク内の磁力線の向きが、前記磁気抵抗効果素子の磁化容易軸の向きと略一致していることによって、上記同様の課題を解決したものである。
以下、図面を用いて、本発明の実施例1に係る磁気記憶装置について詳細に説明する。
本発明の実施例1に係る磁気記憶装置10は、複数の記憶領域を備え、その複数の記憶領域のそれぞれには、図1及び図2に示されるように、書き込み電流によって外部磁界を提供する配線12と、空隙を介して対向する一対の開放端部14、16を有する略環状体の磁気ヨーク18と、外部磁界によって磁化方向が変化する第2磁性層(感磁層)28を含む磁気抵抗効果素子20と、を含んで構成されている。
磁気ヨーク18は、配線12の延在方向一部において配線12の外周を囲むように配設されている。なお、配線12は、磁気抵抗効果素子20に対して磁化情報の書き込みを行うためのもので、本実施例1では、磁気ヨーク18の軸心O1近傍を通過するように配設されている。
又、磁気ヨーク18は、本実施例1ではパーマロイ(NiFe)で構成されており、磁気的、機械的に一体的に連続して形成されている。なお、磁気ヨーク18の構造や材料はこれに限定されるものではなく、例えば、材料として、コバルト鉄(CoFe)などを適用することもできる。
磁気抵抗効果素子20は、図3に拡大して示されるように、反強磁性層22と、第1磁性層24と、非磁性層26と、第2磁性層28と、を順次積層して構成されている。なお、この磁気抵抗効果素子20は、図示しない基板上に、反強磁性層22、第1磁性層24、非磁性層26、第2磁性層28、をこの順に或いは逆の順にスパッタリング等で成膜することにより容易に生成することができる。
反強磁性層22は、本実施例1では90nm厚の不規則合金IrMnによって形成されている。なお、反強磁性層22には、他にも、不規則合金RuRhMnや規則合金PtMnなどが適用可能である。
第1磁性層24は、磁化の向きが固定された、いわゆる固定層(ピンド層)であり、反強磁性層22と接して積層されている。これにより、反強磁性層22と第1磁性層24との界面には交換結合磁界が発生し、第1磁性層24の磁化の向きが固定される。
又、この第1磁性層24は、反強磁性層22による第1磁性層24の磁化方向の固定力を増大させるために、磁性層30Aと、非磁性導電層32と、磁性層30Bと、を順次積層した3層構造からなる。本実施例1では、磁性層30Aは16nm厚のコバルト鉄合金(CoFe)、非磁性導電層32は8.5nm厚のルテニウム(Ru)、磁性層30Bは12nm厚のコバルト鉄合金(CoFe)によってそれぞれ形成されている。なお、磁性層30A、30Bには、他にも、単体のコバルト(Co)、コバルト白金合金(CoPt)、ニッケル鉄コバルト合金(NiFeCo)等が適用可能である。
第1磁性層24上には、非磁性層26が積層されている。本実施例1では、非磁性層26は9nm厚の酸化アルミニウム(Al2O3)によって形成されている。
第2磁性層28は、磁化の向きが可変とされた、いわゆる感磁層(フリー層)であり、本実施例1では、15nm厚のコバルト鉄合金(CoFe)上に、30nm厚のニッケル鉄合金(NiFe)を積層して形成されている。磁気ヨーク18の各開放端部14、16は、この第2磁性層28と略同一階層となるように配置されている。
又、第1磁性層24及び第2磁性層28の磁化容易軸は、これらの層の安定な磁化状態が磁化容易軸方向と平行又は反平行になるように設定され、磁気ヨーク18の一対の開放端部14、16近傍における磁気ヨーク18内の磁力線の向きと略一致するように構成されている。このように構成すると、磁気ヨーク18内の磁力線の向きは、第2磁性層28の磁化方向と平行又は反平行となるため、第2磁性層28の磁化反転に必要な磁界の発生量が最小となる。なお、第1磁性層24及び第2磁性層28の各磁化容易軸は、磁化方向を平行又は反平行な状態で安定させるために互いに平行であることが好ましい。
図2に戻って、磁気抵抗効果素子20は、その一対の側面(磁気ヨーク18側の各面)20A、20Bの少なくとも一部が、磁気ヨーク18の一対の開放端部14、16の各端面14A、16Aとそれぞれ対向するよう配設されていると共に、磁気ヨーク18の開放端部14、16の各端面14A、16Aの幅W1は、磁気抵抗効果素子20の一対の側面20A、20Bの幅W2と略同一とされている。
又、図3に示されるように、磁気ヨーク18の開放端部14、16の各端面14A、16Aと、磁気抵抗効果素子20の一対の側面20A、20Bは、それぞれ所定の角度θA、θB、θC、θDで傾斜され、上方から下方に向けて拡開されている。なお、本実施例1では、磁気ヨーク18の開放端部14、16の各端面14A、16Aの傾斜角θA、θBと磁気抵抗効果素子20の一対の側面20A、20Bの傾斜角θC、θDは全て略同一に設定されており、その傾斜角θA、θB、θC、θDは20度以上90度未満に設定される。
磁気抵抗効果素子20の一対の側面20A、20Bは、イオンミリングや反応性イオンエッチング(RIE:Reactive Ion Etching)等による加工によって傾斜させることができる。例えば、イオンミリング加工では、所定圧力下でアルゴンガスに電圧を印可することで放電を発生させてプラズマを発生させる。そして、プラズマ中のイオンに対して加速電圧として100〜500V程度の電圧を印加してこれらを所定方向に加速させ、図4(A)に示されるように、加速されたイオンIONを磁気抵抗効果素子20の表面に向けて照射し、磁気抵抗効果素子20に衝突させる。その結果、衝突で生じるスパッタリング現象によって、図4(B)に示されるように、レジストパターン34でマスクされた領域外の磁気抵抗効果素子20が除去されると共に、イオンIONの照射角度及び照射時間を制御することにより磁気抵抗効果素子20の一対の側面20A、20Bを約20度〜90度の角度で傾斜させることができる。
又、反応性イオンエッチングでは、イオンによるスパッタリングと、プラズマ化されたエッチングガスの化学変化により、高精度な異方性エッチングを行うことができる。この反応性イオンエッチングによれば、磁気抵抗効果素子20の一対の側面20A、20Bを約20度〜80度の角度で傾斜させることができる。なお、傾斜角度を小さくすれば、磁気ヨーク18の開放端部14、16先端の断面積が小さくなるため、磁気ヨーク18の先端における磁気飽和が速やかに行われ、磁気ヨーク18から磁束がより発生しやすくなるが、各端面14A、16Aの領域が広がり現実的ではなくデバイスの高密度化という点では不向きとなる。したがって、傾斜角度は20度〜90度の範囲で必要に応じて最適設計することが好ましい。
そして、磁気抵抗効果素子20の成形後、例えばスパッタリングにより、磁気抵抗効果素子20上に、酸化アルミニウム(Al2O3)等の非電導性材料からなる略同一厚さの絶縁層36を形成した後、磁気ヨーク18の各開放端部14、16を形成する。
次に、本実施例1に係る磁気記憶装置10の作用について説明する。
配線12に電流が流れると、配線12の周囲に電流磁界が発生する。この電流磁界の磁力線は磁気ヨーク18内を通過し、磁気ヨーク18の開放端部14、16の各端面14A、16Aから磁気抵抗効果素子20の第2磁性層28に導かれる。この結果、磁気ヨーク18の磁化方向反転に伴って第2磁性層28の磁化方向が反転し、第2磁性層28が磁化情報を記憶する記録層として機能することになる。
本実施例1に係る磁気記憶装置10によれば、磁気抵抗効果素子20は、その一対の側面20A、20Bの少なくとも一部が、磁気ヨーク18の一対の開放端部14、16の各端面14A、16Aとそれぞれ対向するよう配設され、且つ、磁気抵抗効果素子20の一対の側面20A、20Bと、磁気ヨーク18の一対の開放端部14、16の各端面14A、16Aは、それぞれ所定の角度θA、θB、θC、θDを有しているため、磁気ヨーク18における開放端部14、16の各端面14A、16A、及び磁気抵抗効果素子20の一対の側面20A、20Bの表面積をそれぞれ広げることができる。そのため、小型且つ簡易な構造でありながら、同時に、磁気抵抗効果素子20の磁化反転を効率的に行うことができ、従来の磁気記憶装置に比べ、書き込み電流を低減することができる。又、磁気ヨーク18の開放端部14、16先端の断面積を小さくすることができるため、磁気ヨーク18の先端における磁気飽和が速やかに行われ、磁気ヨーク18から磁束がより発生しやすくなり、磁気抵抗効果素子20に導かれる電流磁界の磁束を増加させることができる。
しかも、磁気抵抗効果素子20の一対の側面20A、20Bと、磁気ヨーク18の一対の開放端部14、16の各端面14A、16Bは、略同一角度で傾斜されているため、加工が容易である上に、磁気ヨーク18から発生する電流磁界の磁束を磁気抵抗効果素子20に均等に導くことができ、より一層、書き込み電流を低減することができる。又、磁気抵抗効果素子20に導かれる磁束の大きさや磁束が印加されるタイミングを複数の記憶領域(セル)間で略同一にすることができ、書き込み特性のばらつきを抑えることができる。
又、磁気抵抗効果素子20は、その一対の側面20A、20Bの少なくとも一部が、磁気ヨーク18の一対の開放端部14、16の各端面14A、16Aとそれぞれ対向するよう配設され、且つ、磁気ヨーク18の一対の開放端部14、16近傍における磁気ヨーク18内の磁力線の向きが、磁気抵抗効果素子20の磁化容易軸の向きと略一致しているため、小型且つ簡易な構造でありながら、同時に、磁気抵抗効果素子20の磁化反転を効率的に行うことができ、従来の磁気記憶装置に比べ、書き込み電流を低減することができる。又、例えば、磁気ヨーク18の残留磁化の影響により感磁層の磁化が傾いて誤動作するようなことがなく、より一層安定した書き込みを行うことができる。
又、磁気ヨーク18が一体的に連続して形成されているため、磁気ヨーク18の磁気抵抗を軽減可能で、磁気ヨーク18内部を通過する磁力線を均等化し、磁気抵抗による乱流を抑止することができる。
更に、配線12は、磁気ヨーク18の軸心O1近傍を通過するように配設されているため、配線12から発生する電流磁界の磁束を、磁気ヨーク18内に効率良く導くことができ、小さな書き込み電流であっても効率よく、且つ、安定した書き込みを行うことができる。
更に又、磁気抵抗効果素子20の一対の側面20A、20Bと、磁気ヨーク18の一対の開放端部14、16の各端面14A、16Bとの間には、非電導性材料からなる略同一厚さの絶縁層36が介在されているため、磁気抵抗効果素子20と磁気ヨーク18との距離を一定に保持することができる。そのため、磁気ヨーク18から発生する磁束の強さを均一化することができると共に、磁気ヨーク18から発生する磁束を磁気抵抗効果素子20に対して有効に作用させることができる。
又、磁気抵抗効果素子20は、少なくとも反強磁性層22と、第1磁性層24と、非磁性層26と、第2磁性層28と、を順次積層してなるため、低い磁場で磁気抵抗効果を発現可能であると共に、感磁層の磁化方向の判別を容易に行うことができる。
更に又、第1磁性層24は、磁性層30Aと、非磁性導電層32と、磁性層30Bと、を順次積層した3層構造からなるため、磁気ヨーク18の空隙部から発生する磁界により固定層である第1磁性層24の磁化方向が不安定になることがなく、固定層の磁化の向きを反転しにくくすることができる。
なお、本発明に係る磁気記憶装置は、上記実施例1に係る磁気記憶装置10の構造や形状等に限定されるものではない。
従って、例えば、上記実施例1に係る磁気ヨーク18に代えて、図5に示される磁気ヨーク38のように、径方向断面形状を略円形としてもよく、又、図6に示される磁気ヨーク40のように、径方向断面形状を略長円形としてもよい。この場合、磁気ヨーク38(40)内部を流れる磁力線を更に均一化することができ、書き込み電流磁界を安定化することができる。従って、小型且つ簡易な構造でありながら、同時に、磁気抵抗効果素子20の磁化反転を効率的に行うことができ、従来の磁気記憶装置に比べ、書き込み電流を低減することができる。
又、磁気抵抗効果素子20の一対の側面20A、20Bを全面にわたって傾斜させるようにしたが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、図7に示される磁気抵抗効果素子42のように、感磁層44の磁気ヨーク18側の各面44A、44B(磁気抵抗効果素子42の一対の側面の少なくとも一部)のみを傾斜させてもよい。
更に、磁気ヨーク18の各開放端部14、16の端面14A、16Aの傾斜角θA、θBと磁気抵抗効果素子20の一対の側面20A、20Bの傾斜角θC、θDを全て略同一に設定したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各傾斜角θA、θB、θC、θDを異なる角度に設定してもよい。
10…磁気記憶装置
12…配線
14、16…開放端部
18、38、40…磁気ヨーク
20、42…磁気抵抗効果素子
22…反強磁性層
24…第1磁性層
26…非磁性層
28…第2磁性層
30A、30B…磁性層
32…非磁性導電層
34…レジストパターン
36…絶縁層
44…感磁層
12…配線
14、16…開放端部
18、38、40…磁気ヨーク
20、42…磁気抵抗効果素子
22…反強磁性層
24…第1磁性層
26…非磁性層
28…第2磁性層
30A、30B…磁性層
32…非磁性導電層
34…レジストパターン
36…絶縁層
44…感磁層
Claims (10)
- 複数の記憶領域を備え、前記複数の記憶領域のそれぞれには、
外部磁界によって磁化方向が変化する感磁層を含む磁気抵抗効果素子と、
書き込み電流によって前記感磁層に前記外部磁界を提供する配線と、
空隙を介して対向する少なくとも一対の開放端部を有する略環状体からなり、前記配線の延在方向の一部において該配線の外周を囲むように配設された磁気ヨークと、を含んでなる磁気記憶装置であって、
前記磁気抵抗効果素子は、その一対の側面の少なくとも一部が、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面とそれぞれ対向するよう配設され、且つ、
前記磁気抵抗効果素子の一対の側面の少なくとも一部と、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面は、それぞれ所定の角度を有していることを特徴とする磁気記憶装置。 - 請求項1において、
前記磁気抵抗効果素子の一対の側面の少なくとも一部と、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面は、略同一角度で傾斜されていることを特徴とする磁気記憶装置。 - 請求項1又は2において、
前記磁気抵抗効果素子の一対の側面の少なくとも一部と、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面の傾斜角は、20度以上90度未満に設定されていることを特徴とする磁気記憶装置。 - 複数の記憶領域を備え、前記複数の記憶領域のそれぞれには、
外部磁界によって磁化方向が変化する感磁層を含む磁気抵抗効果素子と、
書き込み電流によって前記感磁層に前記外部磁界を提供する配線と、
空隙を介して対向する少なくとも一対の開放端部を有する略環状体からなり、前記配線の延在方向の一部において該配線の外周を囲むように配設された磁気ヨークと、を含んでなる磁気記憶装置であって、
前記磁気抵抗効果素子は、その一対の側面の少なくとも一部が、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面とそれぞれ対向するよう配設され、且つ、
前記磁気ヨークの径方向断面形状は、略円形又は略長円形とされていることを特徴とする磁気記憶装置。 - 複数の記憶領域を備え、前記複数の記憶領域のそれぞれには、
外部磁界によって磁化方向が変化する感磁層を含む磁気抵抗効果素子と、
書き込み電流によって前記感磁層に前記外部磁界を提供する配線と、
空隙を介して対向する少なくとも一対の開放端部を有する略環状体からなり、前記配線の延在方向の一部において該配線の外周を囲むように配設された磁気ヨークと、を含んでなる磁気記憶装置であって、
前記磁気抵抗効果素子は、その一対の側面の少なくとも一部が、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面とそれぞれ対向するよう配設され、且つ、
前記磁気ヨークの一対の開放端部近傍における磁気ヨーク内の磁力線の向きが、前記磁気抵抗効果素子の磁化容易軸の向きと略一致していることを特徴とする磁気記憶装置。 - 請求項1乃至5のいずれかにおいて、
前記磁気ヨークは一体的に連続して形成されていることを特徴とする磁気記憶装置。 - 請求項1乃至6のいずれかにおいて、
前記配線は、前記磁気ヨークの軸心近傍を通過するように配設されていることを特徴とする磁気記憶装置。 - 請求項1乃至7のいずれかにおいて、
前記磁気抵抗効果素子の一対の側面と、前記磁気ヨークの一対の開放端部の各端面との間には、非電導性材料からなる略同一厚さの絶縁層が介在されていることを特徴とする磁気記憶装置。 - 請求項1乃至8のいずれかにおいて、
前記磁気抵抗効果素子は、少なくとも反強磁性層と、第1磁性層と、非磁性層と、第2磁性層と、を順次積層してなることを特徴とする磁気記憶装置。 - 請求項9において、
前記第1磁性層は、磁性層と、非磁性導電層と、磁性層と、を順次積層した3層構造からなることを特徴とする磁気記憶装置。
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