JP2006092854A - 光電変換素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明に係る光電変換素子の製造方法は、作用極14と、対極18と、これらの間に設けられた電解質層15と、作用極14及び/又は前記対極18の上に配された集電配線20を備えてなる光電変換素子(色素増感型太陽電池)10の製造方法であって、酸化銀微粒子とこれを還元する機能を有する還元剤とを含む導電性組成物を、前記作用極14及び/又は前記対極18の上にスクリーン印刷法を用いて設ける印刷工程、及び、前記印刷工程により前記作用極14及び/又は前記対極18の上に配された導電性組成物を焼成し、集電配線20を形成する焼結工程、を少なくとも具備する。
【選択図】 図1
Description
しかしながら、従来の色素増感型太陽電池では、これを構成する作用極及び対極のシート抵抗が高いため、素子の大型化に伴って、光電子量子変換効率の低下を避けることが難しいという問題があった。
この例では、作用極103をなす透明基材101の一方の面に設けられた透明導電膜102の表面には、バンイダ104に多数の銀粒子105を分散してなる導電性組成物106で構成される集電配線107が形成されている。
また、この集電配線は、ほぼ金属銀のみで形成された無孔性の導電性膜であるから、作用極をなす透明導電膜又は対極をなす導電膜との接触面積が大きくなるので、透明導電膜との密着性が向上し、集電配線と透明導電膜又は導電膜の接触抵抗が低くなる。その結果として、作用極又は対極のシート抵抗が低くなるため、色素増感型太陽電池の大面積化を実現することができる。
さらに、作用極上に塗布された導電性組成物を覆うように多孔質酸化物半導体層をなす材料を塗布した後、導電性組成物及び多孔質酸化物半導体層をなす材料を同時に焼結して、作用極上に集電配線及び多孔質酸化物半導体層を同時に形成することもできるから、製造工程の簡略化が図れるので、その結果として製造コストを低減することができる。
図1において、符号10は色素増感型太陽電池、11は透明基材、12は透明導電膜、13は多孔質酸化物半導体層、14は作用極、15は電解質層、16は他の基材、17は導電膜、18は対極、19は積層体、20は集電配線、21は被覆層をそれぞれ示している。
この工程において、透明導電膜12を形成する方法としては、スパッタリング法、スプレー熱分解法、CVD法などが挙げられる。
透明導電膜12として金属薄膜や炭素薄膜を形成する場合、透明基材11の透明性を著しく損なわない構造とする。透明導電膜12を形成する導電性金属酸化物としては、例えば、スズ添加酸化インジウム[Indium Tin Oxide(ITO)]、フッ素添加酸化スズ[Fluorine doped Tin Oxide(FTO)]、酸化スズ[SnO2 ]などが用いられる。これらの中でも、成膜が容易かつ製造コストが安価であるという観点から、ITO、FTOが好ましい。また、透明導電膜12は、ITOのみからなる単層の膜、又は、ITOからなる膜にFTOからなる膜が積層されてなる積層膜であることが好ましい。
このような酸化銀微粒子としては、硝酸銀水溶液に水酸化ナトリウムなどのアルカリ水溶液を撹拌下に滴下して反応させて得られた、平均粒子径が0.5μm以下の酸化銀が好ましい。本発明にあっては、酸化銀微粒子の平均粒子径が0.5μmであるが、加熱温度、還元剤の還元力などの還元反応条件に応じて、0.01μm〜0.5μmの範囲で、酸化銀微粒子の平均粒子径を適宜選択することができる。
したがって、このブロック化還元剤を用いた導電性組成物は、150℃程度に加熱すると、発現した官能基によって、酸化銀微粒子の還元反応が進行し、金属銀微粒子を生成する。さらに、酸化銀微粒子が還元されてなる金属銀微粒子は相互に融着して、連続した金属銀からなり、比抵抗の低い導電性膜を形成する。また、この導電性膜からなる集電配線は、ほぼ金属銀のみで形成された無孔性の薄膜をなす。よって、集電配線は、対象物(この実施形態では、作用極をなす透明導電膜又は対極をなす導電膜)との接触面積が大きくなるので、集電配線と対象物との密着性が向上し、両者の接触抵抗が低くなる。
三級脂肪酸銀塩とは、総炭素数が5〜30の三級脂肪酸の銀塩のことであり、例えば、ピバリン酸、ネオヘプタン酸、ネオノナン酸、ネオデカン酸、エクアシッド(商品名:出光石油化学社製)などが挙げられる。
本発明では、三級脂肪酸銀塩の中でも、10個以上の炭素を有しているものが好ましい。三級脂肪酸銀塩が10個以上の炭素を有したものであると、より低温で分解するので、酸化銀から形成された銀粒子の融着がより促進される。10個以上の炭素を有する三級脂肪酸としては、例えば、ネオデカン酸、エクアシッド13などが挙げられる。
この潜在性還元剤の使用量は、酸化銀微粒子1モルに対して0〜20モル程度とすることが望ましい。反応効率や加熱による揮発を考慮すると、等モルより多めに添加することが好ましいが、最大20モルを越えて添加してもその分は無駄になる。
したがって、この保護コロイドを用いた導電性組成物は、140〜180℃に加熱すると、発現した還元作用によって、酸化銀微粒子の還元反応が進行し、金属銀微粒子を生成する。さらに、酸化銀微粒子が還元されてなる金属銀微粒子は相互に融着して、連続した金属銀からなり、比抵抗の低い導電性膜を形成する。また、この導電性膜からなる集電配線は、ほぼ金属銀のみで形成された無孔性の薄膜をなす。よって、集電配線は、対象物(この実施形態では、作用極をなす透明導電膜又は対極をなす導電膜)との接触面積が大きくなるので、集電配線と対象物との密着性が向上し、両者の接触抵抗が低くなる。
セルロース誘導体としては、セルロース(C6H10O5)n を変性したヒドロキシプロピルセルロース、セルロースを変性したエチルヒドロキシエチルセルロース、セルロースの水酸基の水素が部分的にエチル基によって置換された、一種のエーテルであるエチルセルロースなどが用いられる。このようなセルロース誘導体としては、具体的には、日本曹達社製のヒドロキシプロピルセルロース、アクゾノーベル社製のエチルヒドロキシエチルセルロース、ハーキュレス社製のエチルセルロースなどを用いることができる。
また、セルロース誘導体は、分散安定剤(分散媒)として機能し、導電性組成物内に酸化銀微粒子をほぼ均一に分散するため、生成した導電性膜の導電性にばらつきを生じないものである。
また、この導電性組成物では、酸化銀微粒子の平均粒子径が0.5μm以下であるので、この導電性組成物を対象物に塗布して形成した導電性膜からなる集電配線の線幅を10μm以下とすることができる。しかも、集電配線自体の導電性が極めて高いので、集電配線の厚みを厚くする必要もない。このため、集電配線の形成が容易となる。
この多孔質酸化物半導体層13の形成は、主に塗布工程と乾燥・焼成工程からなる。
塗布工程とは、例えばTiO2 粉末と界面活性剤を所定の比率で混ぜ合わせてなるTiO2 コロイドのペーストを、親水性化を図った透明導電膜12の表面に塗布するものである。その際、塗布法としては、加圧手段(例えば、ガラス棒)を用いて前記コロイドを透明導電膜12上に押し付けながら、塗布されたコロイドが均一な厚さを持つように、加圧手段を透明導電膜12の上空を移動させる方法が挙げられる。
乾燥・焼成工程とは、例えば大気雰囲気中におよそ30分間、室温にて放置し、塗布されたコロイドを乾燥させた後、電気炉を用いおよそ30分間、350度の温度にて焼成する方法が挙げられる。
色素担持用の色素溶液は、例えばアセトニトリルとt−ブタノールを容積比で1:1とした溶媒に対して極微量のN719色素粉末を加えて調整したものを予め準備した。
シャーレ状の容器内に入れた色素溶媒に、別途電気炉にて120〜150℃程度に加熱処理した多孔質酸化物半導体層13を浸した状態とし、暗所にて一昼夜(およそ20時間)浸漬した。その後、色素溶液から取り出した多孔質酸化物半導体層13は、アセトニトリルとt−ブタノールからなる混合溶液を用い洗浄した。
上述した工程により、色素担持したTiO2 薄膜からなる多孔質酸化物半導体層13を透明導電性基板10上に設けてなる作用極(窓極とも呼ぶ)14を得た。
常温溶融性塩のカチオンとしては、四級化イミダゾリウム誘導体、四級化ピリジニウム誘導体、四級化アンモニウム誘導体などが挙げられる。
常温溶融性塩のアニオンとしては、BF4 −、PF6 −、F(HF)n −、ビストリフルオロメチルスルホニルイミド[N(CF3SO2)2 −]、ヨウ化物イオンなどが挙げられる。
透明基材として、厚み1.1mm、縦140mm、横140mmのホウケイ酸ガラス基板を用い、この透明基材の一方の面にFTO膜を設けて、導電性ガラス基板を作製した。
次いで、透明導電膜の上に、スクリーン印刷法により、導電性組成物として、高導電銀ペースト(型番:XA9053、藤倉化成社製)を格子状に塗布した。この際、格子の開口率が85%、厚みが約8μmとなるように、高導電銀ペーストを塗布した。
次いで、スクリーン印刷法により、透明導電膜における集電配線が設けられていない領域を覆うように、酸化チタンペースト(商品名:Ti-nanoxide/SP、Solaronix 社製)を塗布した。
この後、高導電銀ペースト及び酸化チタンペーストを塗布した導電性ガラス基板を450℃で1時間加熱し、集電配線及び多孔質酸化物半導体層を形成した。
次いで、集電配線を覆うように、紫外線硬化型樹脂を塗布した後、紫外光を照射して、この紫外線硬化型樹脂を硬化させて、被覆層を形成した。
次いで、多孔質酸化物半導体層にN3色素を担持させて、作用極を得た。
また、チタンからなる他の基材における一方の面に、スパッタリング法により、白金からなる薄膜を成膜して、対極を得た。
次いで、接着剤(図示略)を介して、作用極と対極を、両者の間に所定の大きさの空間ができるように接着して、積層体を形成した。
次いで、対極に設けた貫通孔から作用極と対極との間に電解液を充填し、この電解液からなる電解質層を形成することにより、色素増感型太陽電池を得た。
導電性組成物として、焼結型銀ペースト(型番:GL-6000x14、福田金属社製)を用いた以外は実施例と同様にして、色素増感型太陽電池を得た。
Claims (7)
- 作用極と、対極と、これらの間に設けられた電解質層と、前記作用極及び/又は前記対極の上に配された集電配線を備えてなる光電変換素子の製造方法であって、
酸化銀微粒子とこれを還元する機能を有する還元剤とを含む導電性組成物を、前記作用極及び/又は前記対極の上にスクリーン印刷法を用いて設ける印刷工程、及び、
前記印刷工程により前記作用極及び/又は前記対極の上に配された導電性組成物を焼成し、集電配線を形成する焼結工程、
を少なくとも具備することを特徴とする光電変換素子の製造方法。 - 前記酸化銀微粒子は、その平均粒子径が0.5μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の光電変換素子の製造方法。
- 前記還元剤は、ブロック化還元剤であることを特徴とする請求項1に記載の光電変換素子の製造方法。
- 前記還元剤は、潜在性還元剤であることを特徴とする請求項1に記載の光電変換素子の製造方法。
- 前記還元剤は、保護コロイドであることを特徴とする請求項1に記載の光電変換素子の製造方法。
- 前記潜在性還元剤は、炭素数が3〜8のグリコールであることを特徴とする請求項4に記載の光電変換素子の製造方法。
- 前記保護コロイドは、セルロース誘導体であることを特徴とする請求項5に記載の光電変換素子の製造方法。
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