JP2006071481A5 - - Google Patents

Claims (11)

1. 被検光学系の光学特性を干渉を用いて測定する測定装置において、
   光源からの光により照明され、球面波を生成する球面波生成手段と、
   前記光源からの光を分割する光分割手段と、
   前記球面波生成手段と前記光分割手段とを通過し、２つの球面波となって前記被検光学系に入射し、前記被検光学系を透過した光のうち一方の光が集光する位置にスリットが設けられているマスクと、
   前記スリットを通過した光と、前記被検光学系を透過した光のうち他方の光であって前記スリットを通過しない光とで形成される干渉縞を検出する検出手段とを有することを特徴とする測定装置。
2. 前記球面波生成手段はピンホールパターンを有するマスクであり、前記ピンホールの直径Ｄは、前記被検光学系の物体側開口数をＮＡｏ、前記光源からの光の波長をλとすると、
   Ｄ≦０．６１／λ／ＮＡｏ
   であることを特徴とする請求項１記載の測定装置。
3. 前記スリットの短手方向の幅ｗは、前記被検光学系の物体側開口数をＮＡｏ、前記光源からの光の波長をλとすると、
   ｗ≦０．５／λ／ＮＡｏ
   であることを特徴とする請求項１又は２に記載の測定装置。
4. 前記マスクにおいて、前記被検光学系を透過した光のうち他方の光が集光する位置に窓が設けられていることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の測定装置。
5. 前記マスクは、長手方向が互いに直交する２つのスリットを有することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の測定装置。
6. 前記光分割手段は前記球面波生成手段と前記被検光学系との間に配置されていることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項記載の測定装置。
7. 原版のパターンを投影光学系を介して被露光体に投影露光する露光装置であって、請求項１から６のいずれか１項記載の測定装置を有し、前記測定装置により前記投影光学系の光学特性を測定可能であることを特徴とする投影露光装置。
8. 請求項７記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
   露光された前記基板を現像するステップとを
   有することを特徴とするデバイス製造方法。
9. 被検光学系の光学特性を干渉を用いて測定する測定方法において、
   ２つの球面波を前記被検光学系に入射させる工程と、
   ２つの球面波として前記被検光学系に入射し、前記被検光学系を透過した光のうち、一方の光をスリットに通す工程と、
   前記スリットを通過した光と、前記被検光学系を透過した光のうち他方の光であって前記スリットを通過しない光とを干渉させる工程とを有することを特徴とする測定方法。
10. 被検光学系の光学特性を測定する測定装置において、
    スリットが設けられている第１マスクと、
    光源からの光束を２つの光束に分割する光分割手段と、
    前記第１マスクのスリット、前記光分割手段および前記被検光学系を透過し、前記光分割手段によって分割された一方の光束が入射するスリットと前記光分割手段によって分割された他方の光束が入射する窓とが設けられている第２マスクと、
    前記第２マスクの前記スリットを透過した光束と前記第２マスクの前記窓を透過した光束との干渉縞を検出する検出手段とを備え、
    前記第１マスクのスリットおよび前記第２マスクのスリットは、各スリットの長手方向が対応するように配置されていることを特徴とする測定装置。
11. 被検光学系の光学特性を干渉を用いて測定する測定方法において、
    ２つの円筒波を前記被検光学系に入射させる工程と、
    ２つの円筒波として前記被検光学系に入射し、前記被検光学系を透過した光のうち、一方の光をスリットに通し、他方の光を窓に通す工程と、
    前記スリットを通過した光と前記窓を通過した光とを干渉させる工程とを有することを特徴とする測定方法。