JP2006068834A - 円筒研削盤装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】砥石カバーの内面への研削屑の蓄積を確実に防止することによって、OAゴムローラの表面粗さを小さい値で維持しながら研削できる円筒研削盤装置を提供する。
【解決手段】砥石カバーに集塵ダクトが配置された円筒研削盤装置において、該集塵ダクトが複数個配置されていることを特徴とする円筒研削盤装置。
【選択図】図3

Description

本発明は、円筒研削盤装置に関する。詳しくは、複写機、レーザービームプリンタ、ファクシミリ、等の電子写真装置に用いられる帯電ローラ、現像ローラ、その他各種オフィスオートメーションゴムローラ(OAゴムローラーと表すことがある)の研削に用いられる円筒研削盤装置に関する。
電子写真装置のカラー化・高精細化・高速化に伴い、近年、帯電ローラや転写ローラは均一帯電や均一転写が求められ、帯電電位や転写電位が大きく変動しないローラが求められている。このためローラは抵抗ムラを減少させるために、ローラ寸法精度が高いことや表面粗さが均一であることが求められる。従来振れが0.2mm程度であったものが、0.01mmレベルまで外径精度を向上させ、また表面粗さ(Ra)は1.0μm以下で部分的にムラがないことが要求されている。
一般的にOAゴムローラを製造する場合以下の方法が採用されている。(導電性)弾性体層を形成するためのゴム材料としてはエピクロロヒドリンゴムやアクリロニトリル−ブタジエンゴム(NBRと表すことがある)やウレタンゴムなどを使用し、未加硫ゴムを押出し機で芯金の外周面上にチューブ状に成形し蒸気缶または熱風炉等で加硫を行い、(導電性)弾性体層を持ったローラを作製する。
更に、外径形状の精度を求めるために、円筒研削盤装置で(導電性)弾性体層を研削することにより目的の精度を出す方法が知られている。更に、表面性向上や電気特性改善のため、(導電性)弾性体層の外周面上に少なくとも1層の表層が設けられた構成が採用されていることが多い。
OAゴムローラの精度や表面性を左右する一番重要な工程は円筒研削盤装置での研削工程である。従来はまず、OAゴムローラdの芯金の両方の端部を、保持するとともにOAゴムローラを回転させ、この状態で回転させた砥石cによりOAゴムローラの(導電性)弾性体層の外周面を研削する。砥石dには研削屑を飛び散らせないように砥石カバーaが砥石の周りを覆っている。またOAゴムローラは次工程での洗浄を省くため通常乾式で研削される。研削装置には集塵機(不図示)が備えられており、OAゴムローラの研削により発生した研削屑は、集塵ダクトbを通って、集塵機で吸引される(図1)。
精度、平滑性を向上させる重要な条件として、砥石の回転速度や被研削物への切り込み量、送り量等の適正な選択が必要なのは勿論のこと、砥石のツルーイングやドレッシングを確実に行って砥石表面を高精度に整え、その状態を研削加工中に渡って安定に維持することが肝要とされている。そうした細心の注意を払って加工を行ったとしても、実際には、被研削物の研削屑が、砥石面に戻ってきて砥石と被研削物の間に入ってしまい、表面性の仕上がりを悪化させたりまた砥石面に付着して砥石を目詰まりさせて、砥石そのものの研削性を落としてしまっていた。その結果、得られたOAゴムローラは目的の精度を満足できないことになってしまう。
そのため研削精度を向上させようとして、一般的な研削加工では、砥石表面に圧縮空気を吹き付け研削液と一緒に研削屑を吹き飛ばす方法がとられている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながらこの方法をOAゴムローラの円筒研削盤装置で行おうとすると、砥石表面に圧縮空気を吹き付けたとしても、集塵機ですべてを吸引しきれずに研削屑eがある程度まで砥石カバー内面に蓄積してしまう。そしてまとまって研削屑eが剥がれOAゴムローラdに降りかかってしまう(図2)。
集塵機の吸引力を上げれば向上はするが、一本の集塵ダクトの吸引力を上げても取りきれないものが多く実際上OAゴムローラの円筒研削盤装置では、研削屑が被研削物に降りかかることが多い。
近年の高精細でかつ高度な画像の均一性が求められている電子写真装置に用いるOAゴムローラを研削する場合や、ソリッドタイプのOAゴムローラ、あるいはフォームタイプのOAゴムローラを研削する場合などにおいて大量の研削屑が発生してしまう場合に、ゴムローラの表面粗さを小さい値で安定させるためには、研削屑の砥石カバー内面への蓄積を確実に防止する必要がある。
特開2001−191251公報(請求項1)
そこで本発明は、研削屑の砥石カバー内面への蓄積を確実に防止することによって、OAゴムローラの表面粗さを小さい値で維持しながら研削できる円筒研削盤装置を提供することを目的とする。
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、OAゴムローラの表面性を研削屑により悪化させることがない、円筒研削盤装置を発明した。
即ち、上記本発明の目的は、砥石カバーに集塵ダクトが配置された円筒研削盤装置において、該集塵ダクトが複数個配置されていること特徴とする円筒研削盤装置により達成される。
また前記砥石カバーは、その内周面に被研削物の研削屑の付着しにくい樹脂被覆層を有することが好ましい。
また、前記樹脂被覆層は、フッソ樹脂を含む樹脂被覆層であることが好ましい。
以上説明したように、本発明によれば、OAゴムローラの研削を行う円筒研削盤装置において、集塵ダクトを複数個設けたことにより砥石カバー内面に研削屑が蓄積することを防止することができ、被研削物の表面粗さを低下させることがなく、平滑な表面仕上げができる。また砥石カバーを、研削屑の付着しにくい樹脂被覆層を砥石カバー内周面に有するものとすることにより、砥石カバー内面に研削屑が蓄積したものが、まとまって剥がれ被研削物表面にかかり被研削物の表面粗さを低下させることがなく、平滑な表面仕上げができる。また砥石カバー内周面に有する樹脂被覆層を、フッ素樹脂を含む樹脂被覆層とすることにより、砥石カバーの内周面に樹脂被覆層を設ける方法が簡易となりまたOAゴムローラを研削する時に発生する研削屑が砥石カバーの内面に付着しにくい最良の樹脂被覆層となり効果を最大限に発揮できる。
本発明は、砥石カバーに集塵ダクトが配置された円筒研削盤装置において、該集塵ダクトが複数個配置されていることを特徴とする円筒研削盤装置である。
以下に、本発明の実施形態の一例について図面を参照して説明する。
図3は、本発明の一実施形態の円筒研削盤装置の断面の概要を示す図である。図3に示す通り、砥石cは回転しながら被研削物であるOAゴムローラdにあたり、OAゴムローラdを研削する。被研削物がOAゴムローラdである場合、研削後に洗浄などを行わないかあるいはこれを簡易にするため、通常、研削液を使用しないで研削を行う。いわゆる乾式で円筒研削盤装置を使用する。
またOAゴムローラdを研削すると、大量の研削屑が発生する。このため、例えば、図1に示す集塵ダクトが1個配置された従来の円筒研削盤装置を用いてOAゴムローラを研削し、発生した研削屑を集塵ダクトbで吸い込む場合には、例えば、図2に示すように、研削屑が取りきれず砥石カバーaの内面に蓄積してしまう。集塵ダクトの吸引力を上げるだけでは、砥石表面に付着した研削屑が回転しながら全体に飛び散る分までをとりきれない。
そこで本発明の一実施形態においては、図3に示したように、集塵効果を高めるため、砥石カバーaに集塵ダクト2bを追加して集塵ダクトを二本配置して集塵力を高めている。砥石カバーaに配置する集塵ダクトの本数は、多ければ効果が増すが、集塵機の能力や円筒研削盤装置の構造などから図3に示すような配置とするのが好ましい。すなわち、集塵ダクトの本数を2本とし、水平方向に一本の集塵ダクトbを設け、その後に砥石表面に付着している研削屑を吹き飛ばすためのエアーノズルfを設け、これで砥石表面に付着した研削屑を吹き飛ばし、その後に、垂直方向の集塵ダクト2bを設けこれにより研削屑を吸引する構成とするのが好ましい。このような構成とすると砥石カバー内に研削屑が蓄積することが減少し研削されたゴムローラの表面性が向上する。
集塵力を高くしても取りきれない研削屑は、砥石カバーaの内面に付着しようとする。そのため、本発明においては、砥石カバー内周面に、被研削物であるOAゴムローラdの研削屑の付着しにくい樹脂被覆層を設け、砥石カバーが内周面に樹脂被覆層を有する構成とするのが好ましい。砥石カバーaの内周面に樹脂被覆層を設ける方法としては、樹脂をシート状にし、このシートを砥石カバーの内面に接着剤で貼り付けまたはボルト類などで固定させる方法がある。他には、樹脂被覆層を構成する成分を含む塗料を砥石カバーaの内周面にコーティングし、乾燥し、所望の場合にはこれに焼き付けなどの処理を行う方法等がある。
樹脂被覆層に含まれる樹脂の種類は、特に限定されないが、例えば、フッ素樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂、PP(ポリプロピレン)、PE(ポリエチレン)などの、研削屑を付着しにくい樹脂被覆層を形成することのできるものを挙げることができる。
フッ素樹脂は、一般的に耐熱・耐寒性、耐薬品性、非粘着性、低摩擦特性、電気絶縁性、耐燃焼性などの優れた特性を兼ね備えていることが知られており、本発明において特に必要な非粘着性および低磨耗特性等においても優れ、また樹脂被覆層をコーティング法で簡単に設けることができ、人体に安全であり、長寿命の性能維持特性を持っており、メンテナンスの低減とコストダウンが図れるところから、本発明において好ましく用いることができる。フッ素樹脂の種類としては、特に限定されないが、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEPと表すことがある)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFEと表すことがある)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFAと表すことがある)、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体(ETFEと表すことがある)などの一般的なテフロン樹脂を用いることができる。その他のものとしてフルオロエチレン−ビニルエーテル共重合体(FEVEと表すことがある)、ポリビニリデンフロライド(PVDFと表すことがある)などにも効果があり好適に使用することができる。
また、上記樹脂被覆層は、通常、0.01〜0.5mmの厚さとするのが好ましく、0.05〜0.2mmの厚さとするのがより好ましい。上記樹脂被覆層の厚さを0.01mm以上とすると均一にコーティングでき、また、上記樹脂被覆層の厚さを0.5mm以下とすると材料費が抑えられ好ましい。
次に、本発明を実施例に基づいて詳しく説明するが、本発明は、これらによってなんら限定されるものではない。
〔OAゴムローラの作製〕
ゴム配合物
エピクロロヒドリンゴム 100質量部
カーボンブラック 5質量部
可塑剤 10質量部
充填材 30質量部
加硫剤 3質量部
以上の配合物を密閉型混練機およびロール機を用いて混練し未加硫のゴム組成物を得た。この未加硫のゴム組成物を、押出機を用いて押出すと同時に、連続的に芯金を押出機のクロスヘッドダイを通過させて、芯金の外周上に未加硫のゴム組成物を配置せしめてローラ形状にした後、200℃で20分間熱風炉に投入して加硫を行い芯金上に弾性体層を形成しOAゴムローラを作製した。OAゴムローラの外径はφ13.5mmとした。
〔OAゴムローラの研削条件〕
実施例および比較例の研削は、以下の条件で行った。
砥石:テイケン GC120HH
砥石周速:30m/s
研削:外径φ13.5mmのOAゴムローラの弾性体層をφ12.0mmまで研削し仕上げる
研削時間:30s
研削方法:プランジカット方式
〔研削OAゴムローラの表面性評価〕
(1)表面粗さRa(10点平均粗さ)
実施例および比較例の研削OAゴムローラの表面粗さRa(10点平均粗さ)については、株式会社小坂研究所製の表面粗さ測定機(サーフコーダSE3500;商品名)を用い、カットオフ0.8mm、送り速度0.1mm/s、測定長2.5mmの条件で測定した。Raの計算は、JIS B 0601−2001に準じて行った。
(2)目視検査
実施例および比較例の研削OAゴムローラの表面状態の評価の一つとして目視検査を行い、次の基準で評価した。
もや大:全体に発生している
もや中:部分的にであるが明らかにもやが確認できる
もや小:わずかに見える
なし:目視上見えない
〔研削屑の蓄積量の評価〕
実施例および比較例において、ゴムローラの研削終了時に砥石カバー内に蓄積した研削屑の量を目視で確認し、次の基準で評価した。
多い:カバー内に全体的に濃く蓄積
やや少ない:カバー内に薄く蓄積
少し:カバー内に一部蓄積がない
ほとんどなし:カバー内の角に一部蓄積が認められるが、平面分には蓄積が見られない
(実施例1)
図3に示す円筒研削盤装置であって、内周面に研削屑の付着しにくい樹脂被覆層を有していない砥石カバーを備えた円筒研削盤装置を用い、上記方法で作製したOAゴムローラを、上記OAゴムローラの研削条件にて研削し、研削OAゴムローラを得た。得られた研削OAゴムローラの表面性および研磨屑の蓄積量を前記方法で評価した。結果を表1に示した。
(実施例2)
内周面に研削屑の付着しにくい樹脂被覆層として厚さ0.1mmのPP層を設けた砥石カバーを備えた円筒研削盤装置を用いた以外は実施例1と同様にして研削OAローラを得、実施例1と同様にして得られた研削OAゴムローラの表面性および研磨屑の蓄積量を評価した。結果を表1に示した。
(実施例3)
内周面に研削屑の付着しにくい樹脂被覆層として厚さ0.1mmのPTFE層を設けた砥石カバーを備えた円筒研削盤装置を用いた以外は実施例1と同様にして研削OAローラを得、実施例1と同様にして得られた研削OAゴムローラの表面性および研磨屑の蓄積量を評価した。結果を表1に示した。
(比較例1)
図1に示す円筒研削盤装置であって、内周面に研削屑の付着しにくい樹脂被覆層を有していない砥石カバーを備えた円筒研削盤装置を用いた以外は実施例1と同様にして研削OAローラを得、実施例1と同様にして得られた研削OAゴムローラの表面性および研磨屑の蓄積量を評価した。結果を表1に示した。
Figure 2006068834
表1に示したように、集塵ダクトを二本配置した砥石カバーを備えた円筒研削盤装置を用いることにより、得られた研削ゴムローラの表面粗さが低下し、表面性が向上する。内周面にPPまたはPTFEからなる樹脂被覆層を有する砥石カバーを備えた円筒研削盤装置を用いると、得られた研削ゴムロールの表面粗さがさらに低下し、表面性が向上した。特にフッ素樹脂からなる樹脂被覆層を有するものについては良好な結果を得た。
砥石カバー内の研削屑の蓄積量は、OAゴムローラの研削を行う円筒研削盤装置において、集塵ダクトを二本配置した砥石カバーを備えた、または、さらに内周面に被研削物の研削屑の付着しにくい樹脂被覆層を有する砥石カバーを備えた円筒研削盤装置は、砥石カバー内面に研削屑が蓄積しにくくなり、まとまって剥がれ、被研削物表面にかかり研削ゴムローラの表面粗さを低下させることがなく、平滑な表面仕上げができる。また砥石カバーを、内周面にフッ素樹脂を含む樹脂被覆層を有する砥石カバーとすると、樹脂被覆層を砥石カバーの内周面に設ける方法が簡易となりまたOAゴムローラを研削する時に発生する研削屑が付着しにくく効果を最大限に発揮できる。
本発明の円筒研削盤装置は、複写機、レーザービームプリンタ、ファクシミリ、等の電子写真装置に用いられる帯電ローラ、現像ローラ、その他各種OAゴムローラの研削に用いられる。
従来の円筒研削盤装置の構成を説明するための図である。 図1に示す円筒研削盤装置における研削屑の蓄積について説明するための図である。 本発明の一実施形態の円筒研削盤装置の構成を説明するための図である。
符号の説明
a 砥石カバー
b 集塵ダクト
2b 集塵ダクト
c 砥石
d OAゴムローラ
e 研削屑
f エアーノズル

Claims (3)

  1. 砥石カバーに集塵ダクトが配置された円筒研削盤装置において、該集塵ダクトが複数個配置されていることを特徴とする円筒研削盤装置。
  2. 前記砥石カバーが、その内周面に被研削物の研削屑の付着しにくい樹脂被覆層を有する請求項1記載の円筒研削盤装置。
  3. 前記樹脂被覆層が、フッ素樹脂を含む樹脂被覆層である請求項2記載の円筒研削盤装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009171576A (ja) * 2008-01-11 2009-07-30 Ntt Docomo Inc 双方向中継ネットワークにおける無線チャネル推定方法及び装置並びに無線通信システム

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