JP2006057008A - シール材およびその製造方法 - Google Patents
シール材およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006057008A JP2006057008A JP2004240941A JP2004240941A JP2006057008A JP 2006057008 A JP2006057008 A JP 2006057008A JP 2004240941 A JP2004240941 A JP 2004240941A JP 2004240941 A JP2004240941 A JP 2004240941A JP 2006057008 A JP2006057008 A JP 2006057008A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- diamond
- sealing material
- rubber
- carbon thin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Sealing Material Composition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Gasket Seals (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
【解決手段】 三次元プラズマイオン注入成膜法を用いて、ゴムにより形成されるパッキン本体1の表面をダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜で被覆する。ダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜は、フッ素含有水素化アモルファス炭素、水素化アモルファス炭素を含む。三次元プラズマイオン注入成膜法は、炭化水素ガスおよびフッ素ガスのプラズマ中でのイオン注入によりパッキン本体1の表面にイオン注入層を形成する工程と、炭化水素ガスおよびフッ素ガスのプラズマ中でのイオン成膜によりイオン注入層上にダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜を形成する工程とを含む。
【選択図】 図1
Description
図7はDMEガスの透過率を示す説明図である。なお、本実施例では、パッキン本体1として0.5mmの厚さを有するブチルゴムを用いた。図7では、縦軸は経過時間(Hr)を示し、横軸はガス透過率(g/m2 ・Hr)を示す。
図8はDMEガスの透過率を示す説明図である。なお、本実施例では、パッキン本体1として0.5mmの厚さを有するニトリルゴムを用いた。図8では、縦軸は経過時間(Hr)を示し、横軸はガス透過率(g/m2 ・Hr)を示す。
図9はDMEガスの透過率を示す説明図である。なお、本実施例では、パッキン本体1として0.5mmの厚さを有する熱可塑性ポリエステルエラストマーを用いた。本実施例では、熱可塑性ポリエステルエラストマーとしてハイトレル(HYTREL:登録商標)を用いた。また、本実施例のDLC薄膜の厚さは3000nmである。
図10はDMEガスの透過率を示す説明図である。なお、本実施例では、パッキン本体1として0.5mmの厚さを有するブチルゴムを用いた。図10では、縦軸は経過時間(Hr)を示し、横軸はガス透過率(g/m2 ・Hr)を示す。
本実施例では、フッ素の含有量を変化させた複数のDLC薄膜がそれぞれ有する硬度の値を測定した。
1a 傾斜組成層
1b DLC薄膜
2 チャンバ
3 真空排気系
4 ガス導入系
5 導体
6 高絶縁フィードスルー
7 重畳装置
8 RF高周波電源
9 高電圧パルス電源
10 金属プラズマ源
11 アーク電源
12 トリガー電極
13 固体電極
Claims (16)
- 気体の通過を阻止するために用いられるシール材であって、
ゴムにより形成されるシール材本体の表面が水素およびフッ素を含有する第1のダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜で被覆されたことを特徴とするシール材。 - 前記第1のダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜の水素の含有率は20原子%以上40原子%以下であることを特徴とする請求項1記載のシール材。
- 前記第1のダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜の厚さは50nm以上3000nm以下であることを特徴とする請求項1または2記載のシール材。
- 前記第1のダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜のフッ素の含有率は5原子%以上35原子%以下であるとともに前記第1のダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜は、2GPa以上16GPa以下の硬度を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のシール材。
- 前記シール材本体の表面にイオン注入によりイオン注入層が形成され、前記第1のダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜は前記イオン注入層上に形成されたことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のシール材。
- 前記第1のダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜は三次元プラズマイオン注入成膜方法により形成されたことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のシール材。
- 前記ゴムは、ニトリルゴム、ブチルゴム、ウレタンゴム、バイトンゴム、スチレン・ブタジエンゴムおよび熱可塑性エラストマーよりなる群から選択されたゴムであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のシール材。
- 前記気体はジメチルエーテルを含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のシール材。
- 前記第1のダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜上に水素を含有する第2のダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜が積層されたことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載のシール材。
- 前記第1のダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜のフッ素の含有率は5原子%以上35原子%以下であり、前記第2のダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜の水素の含有率は20原子%以上40原子%以下であることを特徴とする請求項9記載のシール材。
- 前記第1のダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜の厚さは20nm以上1000nm以下であることを特徴とする請求項9または10記載のシール材。
- 気体の通過を阻止するために用いられるシール材の製造方法であって、
炭化水素およびフッ素を含むガスのプラズマ中で、三次元プラズマイオン注入成膜法によってゴムにより形成されるシール材本体の表面を第1のダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜で被覆することを特徴とするシール材の製造方法。 - 前記三次元プラズマイオン注入成膜法は、
炭化水素およびフッ素を含むガスのプラズマ中でのイオン注入により前記シール材本体の表面にイオン注入層を形成する工程と、
炭化水素およびフッ素を含むガスのプラズマ中でのイオン成膜により前記イオン注入層上に前記第1のダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜を形成する工程とを含むことを特徴とする請求項12記載のシール材の製造方法。 - 前記イオン注入層を形成する工程は、前記シール材本体に高周波電力を印加するとともに前記シール材本体に第1のレベルを有する負の電圧パルスを印加する工程を含み、
前記第1のダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜を形成する工程は、前記シール材本体に高周波電力を印加するとともに前記シール材本体に前記第1のレベルよりも低い第2のレベルを有する負の電圧パルスを印加する工程を含むことを特徴とする請求項13記載のシール材の製造方法。 - 前記イオン注入層を形成する工程は、前記シール材本体にパルス状の高周波電力を印加するとともに前記パルス状の高周波電力と交互に遅延するタイミングまたは前記パルス状の高周波電力と重複するタイミングで前記シール材本体に第1のレベルを有する負の電圧パルスを印加する工程を含み、
前記第1のダイヤモンド・ライク・カーボン薄膜を形成する工程は、前記シール材本体にパルス状の高周波電力を印加するとともに前記パルス状の高周波電力と交互に遅延するタイミングまたは前記パルス状の高周波電力と重複するタイミングで前記シール材本体に前記第1のレベルよりも低い第2のレベルを有する負の電圧パルスを印加する工程を含むことを特徴とする請求項13または14記載のシール材の製造方法。 - 前記ゴムは、ニトリルゴム、ブチルゴム、ウレタンゴム、バイトンゴム、スチレン・ブタジエンゴムおよび熱可塑性エラストマーよりなる群から選択されたゴムであることを特徴とする請求項12〜15のいずれかに記載のシール材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004240941A JP4733941B2 (ja) | 2004-08-20 | 2004-08-20 | シール材およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004240941A JP4733941B2 (ja) | 2004-08-20 | 2004-08-20 | シール材およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006057008A true JP2006057008A (ja) | 2006-03-02 |
JP4733941B2 JP4733941B2 (ja) | 2011-07-27 |
Family
ID=36104751
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004240941A Expired - Fee Related JP4733941B2 (ja) | 2004-08-20 | 2004-08-20 | シール材およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4733941B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008229968A (ja) * | 2007-03-19 | 2008-10-02 | Mitsubishi Plastics Ind Ltd | ダイヤモンドライクカーボン膜コーティングガスバリア性フィルム |
JP2009150658A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-09 | Tdk Corp | 電気化学センサ及び電気化学センサシステム |
KR101277529B1 (ko) * | 2011-09-20 | 2013-06-21 | 케이씨더블류 주식회사 | 차량용 고무의 표면처리방법 및 그에 의한 차량용 고무 |
KR101277528B1 (ko) * | 2011-09-20 | 2013-06-21 | 케이씨더블류 주식회사 | 차량용 고무의 표면처리방법 및 그에 의한 차량용 고무 |
CN103249766A (zh) * | 2010-03-29 | 2013-08-14 | 琳得科株式会社 | 成型体、其制造方法、电子设备用构件和电子设备 |
JP2013180501A (ja) * | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Hyomen Kino Design Kenkyusho Kk | 水素透過防止被膜 |
JP2015032742A (ja) * | 2013-08-05 | 2015-02-16 | 株式会社Sumco | 貼り合わせウェーハの製造方法および貼り合わせウェーハ |
JP2015105397A (ja) * | 2013-11-29 | 2015-06-08 | 三井造船株式会社 | 皮膜形成方法、皮膜形成装置、および皮膜 |
JP2018504291A (ja) * | 2014-11-25 | 2018-02-15 | ベイカー ヒューズ インコーポレイテッド | 傾斜機能物品及び製造方法 |
Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06344495A (ja) * | 1993-06-10 | 1994-12-20 | Sekisui Chem Co Ltd | ガスバリヤーフィルム |
JPH0995784A (ja) * | 1995-10-02 | 1997-04-08 | Nissin Electric Co Ltd | 炭素膜の形成方法 |
JPH09249873A (ja) * | 1996-03-15 | 1997-09-22 | Toyoda Gosei Co Ltd | 弾性製品 |
JPH09272567A (ja) * | 1996-02-09 | 1997-10-21 | Kirin Brewery Co Ltd | コーティングフィルムおよびその製造方法 |
JPH1053870A (ja) * | 1996-08-08 | 1998-02-24 | Nissin Electric Co Ltd | ゴム・樹脂にダイヤモンド状炭素膜を形成する方法 |
JPH10130428A (ja) * | 1996-10-25 | 1998-05-19 | Fukoku Co Ltd | ゴム組成物およびそのゴム成形品 |
JPH10139904A (ja) * | 1996-11-01 | 1998-05-26 | Fukoku Co Ltd | ゴム組成物およびそのゴム成形品 |
JP2000096233A (ja) * | 1998-06-20 | 2000-04-04 | Nissin Electric Co Ltd | 炭素膜及びその形成方法並びに炭素膜被覆物品及びその製造方法 |
JP2000128261A (ja) * | 1998-10-30 | 2000-05-09 | Osaka Ship Building Co Ltd | 弁機構、エアゾールバルブおよびそれらを用いたエアゾール製品 |
JP2001112600A (ja) * | 1999-10-14 | 2001-04-24 | Haruhiko Watanabe | 内面にバリヤ層を有する容器 |
JP2001310412A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-06 | Mitsui Chemicals Inc | ガスバリアーフィルム |
JP2002047479A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-12 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | シール材 |
JP2002048240A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-15 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | シール材 |
JP2003071955A (ja) * | 2002-06-06 | 2003-03-12 | Nissin Electric Co Ltd | パイプ及びその製造方法 |
JP2003165970A (ja) * | 2001-12-03 | 2003-06-10 | Koyo Seiko Co Ltd | 封止材 |
JP2004168359A (ja) * | 2002-11-20 | 2004-06-17 | Mitsubishi Shoji Plast Kk | Dlc膜コーティングプラスチック容器の製造方法 |
JP2004182995A (ja) * | 2003-12-09 | 2004-07-02 | Nissin Electric Co Ltd | 自動車用部品の製造方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2569872Y2 (ja) * | 1991-03-29 | 1998-04-28 | 株式会社資生堂 | エアゾール容器の密封構造 |
-
2004
- 2004-08-20 JP JP2004240941A patent/JP4733941B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06344495A (ja) * | 1993-06-10 | 1994-12-20 | Sekisui Chem Co Ltd | ガスバリヤーフィルム |
JPH0995784A (ja) * | 1995-10-02 | 1997-04-08 | Nissin Electric Co Ltd | 炭素膜の形成方法 |
JPH09272567A (ja) * | 1996-02-09 | 1997-10-21 | Kirin Brewery Co Ltd | コーティングフィルムおよびその製造方法 |
JPH09249873A (ja) * | 1996-03-15 | 1997-09-22 | Toyoda Gosei Co Ltd | 弾性製品 |
JPH1053870A (ja) * | 1996-08-08 | 1998-02-24 | Nissin Electric Co Ltd | ゴム・樹脂にダイヤモンド状炭素膜を形成する方法 |
JPH10130428A (ja) * | 1996-10-25 | 1998-05-19 | Fukoku Co Ltd | ゴム組成物およびそのゴム成形品 |
JPH10139904A (ja) * | 1996-11-01 | 1998-05-26 | Fukoku Co Ltd | ゴム組成物およびそのゴム成形品 |
JP2000096233A (ja) * | 1998-06-20 | 2000-04-04 | Nissin Electric Co Ltd | 炭素膜及びその形成方法並びに炭素膜被覆物品及びその製造方法 |
JP2000128261A (ja) * | 1998-10-30 | 2000-05-09 | Osaka Ship Building Co Ltd | 弁機構、エアゾールバルブおよびそれらを用いたエアゾール製品 |
JP2001112600A (ja) * | 1999-10-14 | 2001-04-24 | Haruhiko Watanabe | 内面にバリヤ層を有する容器 |
JP2001310412A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-06 | Mitsui Chemicals Inc | ガスバリアーフィルム |
JP2002047479A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-12 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | シール材 |
JP2002048240A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-15 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | シール材 |
JP2003165970A (ja) * | 2001-12-03 | 2003-06-10 | Koyo Seiko Co Ltd | 封止材 |
JP2003071955A (ja) * | 2002-06-06 | 2003-03-12 | Nissin Electric Co Ltd | パイプ及びその製造方法 |
JP2004168359A (ja) * | 2002-11-20 | 2004-06-17 | Mitsubishi Shoji Plast Kk | Dlc膜コーティングプラスチック容器の製造方法 |
JP2004182995A (ja) * | 2003-12-09 | 2004-07-02 | Nissin Electric Co Ltd | 自動車用部品の製造方法 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008229968A (ja) * | 2007-03-19 | 2008-10-02 | Mitsubishi Plastics Ind Ltd | ダイヤモンドライクカーボン膜コーティングガスバリア性フィルム |
JP2009150658A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-09 | Tdk Corp | 電気化学センサ及び電気化学センサシステム |
CN103249766A (zh) * | 2010-03-29 | 2013-08-14 | 琳得科株式会社 | 成型体、其制造方法、电子设备用构件和电子设备 |
KR101277529B1 (ko) * | 2011-09-20 | 2013-06-21 | 케이씨더블류 주식회사 | 차량용 고무의 표면처리방법 및 그에 의한 차량용 고무 |
KR101277528B1 (ko) * | 2011-09-20 | 2013-06-21 | 케이씨더블류 주식회사 | 차량용 고무의 표면처리방법 및 그에 의한 차량용 고무 |
JP2013180501A (ja) * | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Hyomen Kino Design Kenkyusho Kk | 水素透過防止被膜 |
JP2015032742A (ja) * | 2013-08-05 | 2015-02-16 | 株式会社Sumco | 貼り合わせウェーハの製造方法および貼り合わせウェーハ |
JP2015105397A (ja) * | 2013-11-29 | 2015-06-08 | 三井造船株式会社 | 皮膜形成方法、皮膜形成装置、および皮膜 |
JP2018504291A (ja) * | 2014-11-25 | 2018-02-15 | ベイカー ヒューズ インコーポレイテッド | 傾斜機能物品及び製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4733941B2 (ja) | 2011-07-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4733941B2 (ja) | シール材およびその製造方法 | |
JP2004010923A (ja) | 摺動部材及びその製造方法 | |
JP2010013676A (ja) | プラズマcvd装置、dlc膜及び薄膜の製造方法 | |
JPS58221271A (ja) | イオンプレ−テイング法による被膜形成方法 | |
UA59401C2 (uk) | Спосіб покриття кромок алмазоподібним вуглецем | |
JP5892387B2 (ja) | 被覆部材の製造方法 | |
CN108359942A (zh) | 一种抗磨类金刚石涂层的制备方法 | |
KR101828508B1 (ko) | Dlc 박막 제조 장치 | |
JP4365501B2 (ja) | 硬質炭素積層膜とその形成方法 | |
US8252388B2 (en) | Method and apparatus for high rate, uniform plasma processing of three-dimensional objects | |
CN114481071A (zh) | 一种镀膜装置及dlc镀膜工艺 | |
WO2014103318A1 (ja) | プラズマcvd法による保護膜の形成方法 | |
RU2656312C1 (ru) | Способ нанесения твердых износостойких наноструктурных покрытий из аморфного алмазоподобного углерода | |
Higuchi et al. | Characterization of surface modification mechanisms for boron nitride films under plasma exposure | |
US8940140B2 (en) | Thin film application device and method for coating small aperture vacuum vessels | |
CN106796863B (zh) | 通过离子照射进行的包覆件的除膜方法及除膜装置 | |
US8367207B2 (en) | Method of producing a hydrogenated amorphous carbon coating | |
JP4100686B2 (ja) | 保護膜、保護膜の製造方法、および磁気記録媒体 | |
Utsumi et al. | Effect of a hard supra-thick interlayer on adhesion of DLC film prepared with PBIID process | |
JP2017218624A (ja) | 硬質膜の成膜方法 | |
JPH0283816A (ja) | 磁気記録媒体 | |
CN113151797B (zh) | 一种基于硬质合金表面镀ta-C膜的离子清洗工艺 | |
ATE310106T1 (de) | Verbessertes verfahren zum beschichten eines trägers mit einem material | |
Mayama et al. | Effect of oxygen plasma treatment on film structure for different types of DLC film | |
Dongping et al. | Surface roughness of various diamond-like carbon films |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070817 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110114 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110118 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110314 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110412 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110425 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140428 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |