JP2006028589A - 直接通電焼入装置による焼入焼戻方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 高周波熱処理対象物(例えば、ラックシャフト1)を高周波直接通電焼入装置20に保持して所要の焼入範囲を焼入温度まで加熱し、次いでその直後又は所定の空冷時間の経過後に焼入範囲に焼入冷却液を噴射して焼入冷却を行うことにより焼入範囲に焼入硬化層を形成し、しかる後にこれに引き続いて、高周波熱処理対象物を高周波直接通電焼入装置20に保持した状態のままで、焼入硬化層が形成されている焼入範囲を所要の焼戻温度まで加熱し、次いで所要の空冷時間経過後に焼入冷却液を噴射して焼戻冷却を行う。
【選択図】 図2
Description
また、本発明では、前記高周波直接通電焼入装置を単一の電源部を有するものとし、焼入処理時及び焼戻処理時のそれぞれにおいて、前記単一の電源部を構成する高周波発振器の周波数を切り替えて焼入加熱及び焼戻加熱を行うようにしている。
また、本発明では、前記高周波熱処理対象物が細長い棒体である場合に、焼入加熱時における高周波発振器の周波数を31kHz〜400kHzに設定し、焼戻加熱時における前記高周波発振器の周波数を0.5kHz〜30kHzに設定するようにしている。
また、本発明では、前記高周波熱処理対象物である棒体を、歯部及びこの歯部の反対側の背面部が焼入処理及び焼戻処理されるラックシャフトとしている。
2 歯部
3 背面部
9 第一接触電極
10 第二接触電極
11 近接導体
12 冷却手段
20 高周波直接通電焼入装置
21 電源部
Claims (4)
- 高周波熱処理対象物を一対の接触電極により支持して、前記一対の接触電極を介して高周波電流を前記高周波熱処理対象物の熱処理対象部に直接流すと共に、前記高周波熱処理対象物に近接して配置される近接導体に流れる高周波電流の誘導作用により前記熱処理対象部に誘導電流を流して、前記熱処理対象部を加熱し、次いで所要の焼入温度に加熱された前記熱処理対象部を冷却することにより前記熱処理対象部に焼入硬化層を形成するように構成した高周波直接通電焼入装置を用いて、前記高周波熱処理対象物の焼入処理及び焼戻処理を順次に連続して行う連続焼入焼戻方法であって、前記高周波熱処理対象物を前記高周波直接通電焼入装置に保持して所要の焼入範囲を焼入温度まで加熱し、次いでその直後又は所定の空冷時間の経過後に前記焼入範囲に焼入冷却液を噴射して焼入冷却を行うことにより前記焼入範囲に焼入硬化層を形成し、しかる後にこれに引き続いて、前記高周波熱処理対象物を前記高周波直接通電焼入装置に保持した状態のままで、前記焼入硬化層が形成されている前記焼入範囲を所要の焼戻温度まで加熱し、次いで所要の空冷時間経過後に焼入冷却液を噴射して焼戻冷却を行うことを特徴とする高周波直接通電焼入装置による焼入焼戻方法。
- 前記高周波直接通電焼入装置は、単一の電源部を有するものからなり、焼入処理時及び焼戻処理時のそれぞれにおいて、前記単一の電源部を構成する高周波発振器の周波数を切り替えて焼入加熱及び焼戻加熱を行うことを特徴とする高周波直接通電焼入装置による焼入焼戻方法。
- 前記高周波熱処理対象物が細長い棒体である場合に、焼入加熱時における高周波発振器の周波数を31kHz〜400kHzに設定し、焼戻加熱時における前記高周波発振器の周波数を0.5kHz〜30kHzに設定することを特徴とする請求項1又は2に記載の高周波直接通電焼入装置による焼入焼戻方法。
- 前記棒体は、歯部及びこの歯部の反対側の背面部が焼入処理及び焼戻処理されるラックシャフトであることを特徴とする請求項3に記載の高周波直接通電焼入装置による焼入焼戻方法。
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- 2004-07-16 JP JP2004209687A patent/JP2006028589A/ja active Pending
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