JP2006013025A - 抵抗器およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 絶縁体基板11の表面に電極12を備え、該電極間に抵抗体13が配置され、該抵抗体が保護膜17により被覆されている抵抗器であって、前記抵抗体13にトリミング溝14が形成され、該トリミング溝に絶縁材16を充填した。前記樹脂16は、シリコン樹脂であることが好ましく、保護膜17は、エポキシ樹脂であることが好ましい。これにより、電圧を加える耐湿性試験においても、絶縁材16によりトリミング溝14の形成領域に水分(湿気)の浸入を防止することができ、信頼性を確保することができる。
【選択図】 図1
Description
また、抵抗器の耐サージ性を向上するために、トリミング溝を半導性材料の保護膜で被覆し、さらに外装保護膜で被覆することも提案されている(特許文献2参照)。
11 絶縁体基板
12 電極
13 抵抗体
14 トリミング溝
16 絶縁材
17 外装保護膜
18 マスキング材
Claims (6)
- 絶縁体基板の表面に電極を備え、該電極間に抵抗体が配置され、該抵抗体が保護膜により被覆されている抵抗器であって、
前記抵抗体にトリミング溝が形成され、該トリミング溝に絶縁材を充填したことを特徴とする抵抗器。 - 前記絶縁材は、シリコン樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の抵抗器。
- 前記抵抗体は、エポキシ樹脂からなる保護膜により被覆されていることを特徴とする請求項1または2に記載の抵抗器。
- 絶縁体基板の表面に一対の電極と、該電極間に接続する抵抗体とを配置し、
前記抵抗体を被覆するマスキング材を配置し、
前記マスキング材を貫通して前記抵抗体にトリミング溝を形成することで、抵抗値のトリミング調整を行い、
前記マスキング材の表面から前記抵抗体のトリミング溝に絶縁材を充填し、
前記マスキング材を除去すると共に、前記トリミング溝に充填された以外の余分な絶縁材を除去し、
前記絶縁材を充填したトリミング溝を含む前記抵抗体の全体を保護膜で被覆することを特徴とする抵抗器の製造方法。 - 前記絶縁材は、シリコン樹脂であることを特徴とする請求項4記載の抵抗器の製造方法。
- 前記マスキング材は、セルロース系の樹脂であることを特徴とする請求項4記載の抵抗器の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004185888A JP4417186B2 (ja) | 2004-06-24 | 2004-06-24 | 抵抗器およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2006013025A true JP2006013025A (ja) | 2006-01-12 |
JP4417186B2 JP4417186B2 (ja) | 2010-02-17 |
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JP (1) | JP4417186B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010268682A (ja) * | 2010-09-01 | 2010-11-25 | Mitsui High Tec Inc | 回転子積層鉄心の樹脂封止方法 |
JP2014220422A (ja) * | 2013-05-09 | 2014-11-20 | 東芝ライテック株式会社 | 照明装置 |
WO2014185254A1 (ja) * | 2013-05-16 | 2014-11-20 | コーア株式会社 | チップ抵抗器の製造方法 |
WO2016013646A1 (ja) * | 2014-07-25 | 2016-01-28 | 株式会社ミマキエンジニアリング | 染色方法、マスク形成装置、及び着色物の製造方法 |
JP2018088497A (ja) * | 2016-11-29 | 2018-06-07 | Koa株式会社 | チップ抵抗器およびチップ抵抗器の製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014208223A1 (ja) | 2013-06-25 | 2014-12-31 | 日本特殊陶業株式会社 | ノッキングセンサ |
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WO2014185254A1 (ja) * | 2013-05-16 | 2014-11-20 | コーア株式会社 | チップ抵抗器の製造方法 |
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JP2018088497A (ja) * | 2016-11-29 | 2018-06-07 | Koa株式会社 | チップ抵抗器およびチップ抵抗器の製造方法 |
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JP4417186B2 (ja) | 2010-02-17 |
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A977 | Report on retrieval |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121204 Year of fee payment: 3 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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