JP2005536052A - プログラム可能デバイスのためのコンタクト改善方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
一特徴において、プログラム可能なデバイスの状態を設定し、再プログラムする装置を提供する。一特徴において、開口が、基板(110)上に形成されたコンタクト(170)を晒す、誘電体(210)を貫いて形成される方法を提供する。コンタクトの比抵抗は、コンタクトにイオンを注入すること(175)、コンタクトに材料を堆積すること及びプラズマを用いてコンタクトを処理することの少なくとも1つにより改善される。一特徴において、スペーサ(102)は、開口及びプログラム可能な材料において形成され、好適には、カルコゲナイドが開口内および改善されたコンタクト上に形成される。導体(410)はプログラム可能な材料上に形成され、コンタクトは信号ラインに伝送する。
Description
相変化材料の状態を変化させることによりプログラムすることができる組成変化コンタクトを有する、相変化型メモリデバイスを含むプログラム可能デバイス。
代表的なコンピュータ又はコンピュータ関連装置は、通常、メインメモリ又はランダムアクセスメモリ(RAM)という、物理的メモリを有する。一般に、RAM派コンピュータプログラムに利用可能なメモリであり、読み出し専用メモリ(ROM)は、例えば、コンピュータを起動し、診断を実行するプログラムを記憶するために使用されるメモリである。代表的なメモリ技術は、DRAM(Dynamic Random Access Memory)、SRAM(Static Random Access Memory)、EPROM(Erasable Programmable Read−Only Memory)及びEEPROM(Electrically Erasable Programmable Read−Only Memory)を含む。
固体メモリデバイスは、典型的には、メモリアプリケーションにおける各々のメモリビットに対して微細な電子回路素子(例えば、ビット当たり1乃至4このトランジスタ)を有する。1つ又はそれ以上の電子回路素子が各々のメモリビットに対して必要とされるため、これらのデバイスは、メモリチップの密度を限定する情報のビットを記憶するために著しいチップの“不動産”を消費し得る。EEPROMのような、これらのデバイスの一次“不揮発性”メモリ素子は、典型的には、各々のメモリビットを記憶するために電界効果トランジスタのゲートに電荷を保持し、再プログラム可能性が制限されたフローティングゲート型電界効果トランジスタを用いる。これらのメモリデバイスの種類は又、プログラムするには比較的遅い。
相変化型メモリデバイスは、相変化材料、即ち、電子メモリアプリケーションに対して、一般的な非晶質状態と一般的な結晶質状態との間で電子的にスイッチングできる材料を用いる。Energy Conversion Devices社(米国、ミシガン州、トロイ市)により最初に開発されたメモリ素子の一種類は、一アプリケーションにおいて、一般的な非晶質状態の構造的状態と一般的な結晶質状態の局所秩序の間で、又は、完全な非晶質状態と完全な結晶質状態との間の全体的スペクトルに亘る局所秩序の異なる検出可能状態間で、電子的にスイッチングされることができる。これらの異なる構造状態は異なる抵抗値、それ故、異なる電気的読み出しを有する。そのようなアプリケーションのために適切な、典型的な材料は、種々のカルコゲナイド元素を用いる材料を含む。これらの電子メモリデバイスは、典型的には、メモリ記憶素子として電界効果トランジスタデバイスを用いないが、電子的関連で、薄膜のカルコゲナイド材料の一体構造から構成される。その結果、非常に小さいチップの“不動産”が情報のビットを記憶するために必要とされ、これにより、特有の高密度のメモリチップを提供する。結晶質状態、反結晶質状態、非晶質状態又は半非晶質状態に設定されたとき、値が材料の物理的状態(例えば、結晶質又は非晶質)を表すように再プログラムされるまでその値が保たれるという点で、状態変化材料は又、真に不揮発性である。それ故、相変化メモリ材料は、不揮発性メモリにおいて重要な改善を示す。
固体及び相変化メモリに共通の一の特性は、特に、メモリ素子の設定又は差異プログラミングにおいて、著しく電力を消費することである。電力消費は、電力電池(例えば、バッテリ)に依存する携帯装置において、特に重要である。メモリデバイスの電力消費を低減させることが望ましい。固体及び相変化メモリに共通の他の特性は、非晶質状態及び結晶質状態からの/への限定された再プログラム可能なサイクル寿命である。更に、長い間に、相変化材料は、非晶質状態及び結晶質状態から/に信頼性高く再プログラムすることに失敗するようになる。相変化メモリ材料のプログラム可能なサイクル寿命を増加させることが望ましい。
相変化材料の化学反応性及びデラミネーションは、固体及び相変化メモリデバイスに共通の関心事である。コンタクトへの相変化材料の付着力を増加すること及びコンタクトと相変化材料との化学反応性を著しく減少させることとが望ましい。
本発明の更なる優位性については、図面を参照して、以下の詳細説明を読むことにより明らかになるであろう。
代表的な実施形態について、特定の構成を参照して説明する。当業者は、同時提出の特許請求の範囲における範囲内で種々の変形及び修正が可能であることを理解するであろう。更に、周知の素子、デバイス、構成要素、回路、処理段階等については、本発明を不明瞭にすることを回避するために、詳細に説明しないこととする。
デバイスのメモリ素子の状態を決定するためにプログラム可能な材料(例えば、相変化)を利用するメモリデバイスについて説明する。プログラム可能な材料は、コンタクトの比抵抗を改善することにより部分的に達成される、前記デバイスに関連する改善された(一般的に小さい)電力消費を有する、非晶質状態及び結晶質状態に再プログラムする。一実施形態においては、コンタクトの比抵抗は増加し、コンタクトにおける電力損失は増加し、コンタクトからプログラム可能材料に移動する熱は増加し、それらにより、必要とされるプログラミング電流を減少し、再プログラミングの信頼性を改善する。一実施形態において、コンタクトへの付着力を改善されたプログラム可能材料について説明する。
他の実施形態において、コンタクトの比抵抗を改善する方法について説明する。コンタクトにイオンを注入すること、コンタクトに材料を堆積すること及びプラズマでコンタクトを処理することの少なくとも1つにより、コンタクトを改善することができる。イオン注入は、開口により開かれているコンタクトの表面への入射角を垂直にして、及び開口により開かれているコンタクトの表面に対して任意の角度で実施されることができる。
上記のメモリデバイス及び方法は、小さいプログラミング電流の要件と、改善されたデバイスの信頼性と、改善されたプログラム可能サイクル寿命と、上記のデバイスに関連するスケーラビリティ及び低コスト化を提供する。更に、一実施形態において、本発明の装置は、従来のプロセスのツール設定及び設備を用いて製造可能である。
図1は、ここで提供する説明に関連して形成され、提供される複数のメモリ素子から構成されたメモリアレイの実施形態の模式図である。この例において、メモリアレイ5の回路は、チップの一部において分離デバイス25と電気的に直列に相互接続されたメモリ素子30を有するxyグリッドを含む。アドレスライン10(例えば、列)及び20(例えば、行)は、一実施形態において、従来の方式で外部のアドレス回路構成に接続される。分離デバイスと組み合わされたメモリ素子のxyグリッドアレイの1つの目的は、アレイの隣接した又は遠いメモリアレイに格納された情報と干渉することなく、各々のディスクリーとメモリ素子が書き込まれ、読み出されることを可能にすることである。
図1のメモリデバイス5のようなメモリアレイを、基板の一部であって、基板の全体に亘って形成することができる。典型的な基板としてはシリコン基板のような半導体基板を含む。インフラ構造の一部として、セラミック材料、有機材料又はガラス材料を含む基板を含む他の基板は又適応可能であるが、それらに限定されない。シリコン半導体基板においては、ウェーハレベルにおいて、基板面に亘ってメモリアレイ5を製造することができ、次いで、ウェーハはシンギュレーション(singulation)によりダイ又はチップに小さくされ、一部の又は全てのダイ又はチップはウェーハにおいて形成されたメモリアレイを有する。更なるアドレシング回路構成(例えば、デコーダ等)を形成することができることは、当業者には周知である。
図2乃至14は、図1のそれぞれのメモリ素子の製造についての実施形態を示す。図2は、基板、即ち、例えば、半導体(例えば、シリコン)基板の一部を示す。この例において、ホウ素のようなP型ドーパントが部分110に導入される。一実施例においては、適切なP型ドーパントの濃度は、基板100の部分110において5x1019乃至1x1020atoms/cm3(1cm3当たりの原子数)のオーダーであり、典型的にはP++で表される。基板100の部分110の重ね合わせは、この例においては、P型のエピタキシャルシリコンの部分120である。一実施例においては、ドーパントの濃度は1016乃至1017atoms/cm3のオーダーである。
図2は又、基板100のエピタキシャル部分120に形成されたSTI(シャロートレンチアイソレーション)構造130を示している。以下の説明で明らかになるように、一実施例においては、STI構造130は、この時点では、規定されるメモリセルのz方向の膜厚のみを用いて、メモリセルのz方向の膜厚を規定する役割を果たす。一実施形態においては、メモリセルのz方向の領域135A及び135Bは、z方向の寸法より大きいx方向の寸法を有するストリップとしてパターニングされる。他の特徴においては、STI構造130は、互いから個々のメモリ素子を、及び基板内又はその上に形成された関連する回路素子(例えば、トランジスタデバイス)を分離する役割を果たす。STI構造をパターニングするために用いられる当該技術分野のフォトリソグラフィ技術の現状においては、メモリセルの領域135A及び135Bのz方向の膜厚は0.25μm程の小ささのフィーチャサイズを形成することができる。
図3は、メモリセル領域135A及び135Bにおける更なる製造操作の後の図2の構造について、示す。各々のメモリセル領域(ストリップ)において、基板100のエピタキシャル部分120の重ね合わせは、第1導体又は信号ライン材料140である。一実施例においては、第1導体又は信号ライン材料140は、例えば、約1018乃至1019atoms/cm3(例えば、N+シリコン)のオーダーの濃度に燐又は砒素をドーピングすることにより形成された、N型ドーピングされたシリコンである。この例においては、第1導体又は信号ライン材料140は、アドレスライン、即ち、行ライン(例えば、図1の行ライン20)として機能する。第1導体又は信号ライン材料140の重ね合わせは、分離デバイス(例えば、図1の分離デバイス25)である。一実施例においては、分離デバイスは、N型シリコン部分150(例えば、約1014乃至1018atoms/cm3のオーダーのドーパント濃度)とP型シリコン部分160(例えば、約1019乃至1020atoms/cm3のオーダーのドーパント濃度)とから形成されたPNダイオードである。PNダイオードを示しているが、類似する他の分離構造が適応可能であることは明らかである。そのようなデバイスとしては、金属酸化物半導体(MOS)デバイスがあるが、これに限定されない。
図4は、基板100のエピタキシャル部分120においてトレンチ190を形成した後
のxy断面図における図3の構造を示す。トレンチ190は、この実施例においては、STI構造130に垂直に形成されている。トレンチ190はメモリセルのx方向の膜厚を規定する。現在のフォトリソグラフィ技術に従って、z方向の膜厚に対する適切なフィーチャサイズは0.25μmである。図4は又、トレンチ190により規定されたx方向の膜厚とSTI構造130により規定されたz方向の膜厚を有する、トレンチ190により分離されたメモリセル145A及び145Bを示している。x方向の膜厚の規定は、一実施形態においては、メモリセル領域135Aのメモリセル145A及び145Bを規定するためにメモリラインスタックの各々の導体又は信号ライン140に対するエッチングを含む。エッチングの場合、エッチングは、この実施例においては、導体又は信号ライン140の一部に対してメモリラインスタックを通して進められる。この時点でエッチングを終了するために、時限エッチングを用いることができる。パターニングに続いて、N型ドーパントが、メモリセル145Aと145Bとの間に約1018乃至1020atoms/cm3(例えば、N+シリコン)のオーダーのドーパント濃度を有するパケット200を形成するために各々のトレンチ190の下部に導入される。
のxy断面図における図3の構造を示す。トレンチ190は、この実施例においては、STI構造130に垂直に形成されている。トレンチ190はメモリセルのx方向の膜厚を規定する。現在のフォトリソグラフィ技術に従って、z方向の膜厚に対する適切なフィーチャサイズは0.25μmである。図4は又、トレンチ190により規定されたx方向の膜厚とSTI構造130により規定されたz方向の膜厚を有する、トレンチ190により分離されたメモリセル145A及び145Bを示している。x方向の膜厚の規定は、一実施形態においては、メモリセル領域135Aのメモリセル145A及び145Bを規定するためにメモリラインスタックの各々の導体又は信号ライン140に対するエッチングを含む。エッチングの場合、エッチングは、この実施例においては、導体又は信号ライン140の一部に対してメモリラインスタックを通して進められる。この時点でエッチングを終了するために、時限エッチングを用いることができる。パターニングに続いて、N型ドーパントが、メモリセル145Aと145Bとの間に約1018乃至1020atoms/cm3(例えば、N+シリコン)のオーダーのドーパント濃度を有するパケット200を形成するために各々のトレンチ190の下部に導入される。
パケット200の形成に続いて、二酸化珪素のような誘電体材料が、STI構造132を形成するためいとレンチ190内に形成される。より良好な表面(図示のような)は、次いで、例えば、化学的機械研磨法を用いる平坦化により得ることが可能である。図5は、STI構造130及び132により分離されたメモリセル(例えば、メモリセル145A及び145B)を有する、図4の構造のxz断面図である。
図6は、この実施例においては、コンタクト170を規定するためにP型シリコン部分160の一部にコバルトシリサイド(CoSi2)のような耐熱性金属シリサイドの材料の形成の後についての図4の構造(即ち、xy断面図)を示している。コンタクトは、一特徴において、チップにおける回路構造の周辺の回路構成の製造における低抵抗材料として機能する。
図7は、マスキング材料180の導入後の図6の構造を示している。下で更に明らかになるように、マスキング材料180は、一面、続くエッチング操作のためのエッチングストップとして機能する。一実施形態においては、マスキング材料180のための適切な材料は、窒化珪素(Si3N4)のような誘電体材料である。
図7は又、メモリセル145Aおよび45Bを覆うに十分な100Å乃至50,000Åのオーダーの膜厚になるようにその構造を覆って導入された誘電体材料210を示している。一実施形態においては、誘電体材料210はSiO2である。他の実施形態においては、誘電体材料210は、小さい熱伝導率κであって、好ましくは、κSiO2より小さく、更に好ましくは、κSiO2より3乃至10倍小さい熱伝導率に対して選択された材料である。一般に、SiO2及びSi3N4は1.0のオーダーの熱伝導率κの値を有する。それ故、SiO2に加えて、誘電体材料210のための適切な材料は、1.0より小さい熱伝導率κの値を有する材料を含む。1.0より小さい熱伝導率κの値を有する特定の高温高分子としては、カーバイド材料、エアロゲル、キセロゲル(κは0.1のオーダー)及びそれらの材料の誘導材料が挙げられる。
図8は、誘電体材料210及びマスキング材料180を通して開口220を形成した後、即ちコンタクト170を露出した後の図7の構造を、同様の断面図で示している。一実実施形態においては、従来のフォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を用いて、誘電体材料210及びマスキング材料180を通してエッチングされる円形孔のパターニングにより、開口220が形成される。当該技術分野のフォトリソグラフィ技術の状況の観点から、直径が0.25μm程度の小ささに円形開口をパターニングすることができる。円形開口に加えて、矩形状開口のような他の開口を、代替として用いることが可能であることは明らかである。
図9は、コンタクト170の角度付け改善を示す、同じ断面図による図8の構造を示している。又、コンタクト170の改善を非角度付け方式で達成することができることは明らかである。角度付けによると、例えば、イオン注入の方向は、図9に示すy軸に平行ではないことを意味する。更に、図9により示すその改善はイオン注入を示している一方、他の改善方法は、コンタクト170に材料を堆積すること及びプラズマを用いて
コンタクト170を処理すること、それ故、 コンタクト170の比抵抗を増加させること、を含んで用いることができる。
コンタクト170を処理すること、それ故、 コンタクト170の比抵抗を増加させること、を含んで用いることができる。
一実施形態においては、コンタクト170は、コンタクト170へのイオン注入175により改善することができる。イオン注入は高精度の位置制御を提供し、サイド拡散の問題を回避する。イオン注入によるコンタクトへの衝突ダメージは、一部の又は全部の非晶質化をもたらし、コンタクト170の比抵抗を増加させ、イオン注入又は他の方法により導入された原子との化合物をコンタクト170が生成する能力を増大させる。CoSi2との化合物を生成することができ、それ故、コンタクト170の比抵抗を増加させるイオンであって、酸素イオン、窒素イオン及び炭素イオンを含むイオンを利用することができる。例えば、コンタクト170がCoSi2から構成される場合、CoSi2に注入される酸素イオンは、コンタクト170内にSiO2の絶縁体領域を形成するようにし、それ故、コンタクト170の比抵抗を増加させる。代替として、窒素イオンがコンタクト170(CoSi2から構成される)に注入されるとき、Si3N4の絶縁体領域はコンタクト170内に形成される。イオン注入は、特定のイオン数を対応させて注入することができる点で、高精度を提供する。更に、従来から周知の好評されている表を用いて、並びに、イオン質量、イオンエネルギー及びコンタクト170の組成、膜厚を含むファクタを考慮して、イオン注入の深さを選択することができる。
一実施形態においては、図9に示すように、誘電体210は、イオンがコンタクト170の一部に又はコンタクト170に注入されることを可能にするイオン注入マスクとして機能する。SiO2、窒化珪素、アルミニウム及び他の薄膜材料を含む、半導体プロセスにおいて用いられる殆どの薄膜を、イオンビームをブロックするために用いることができる。
一実施形態においては、コンタクト170は、コンタクト170に抵抗材料を堆積することにより改善される。一実施形態においては、抵抗材料は、0.001Ωcm乃至0.5Ωcmの範囲内の比抵抗を有する。比抵抗は、抵抗材料の膜厚を指定すること、目的のプログラミング電流を指定すること、メモリデバイスのための電圧バジェットを指定すること及び従来の計算を利用することにより選択される。一実施形態においては、コンタクト170は200Ω乃至2000Ωの範囲内の直列抵抗を有する。一実施形態においては、抵抗材料は、コンタクト170の一部において又はコンタクト170において形成される。抵抗材料は又、開口220の壁において形成されるが、重要な電流は、十分大きい抵抗材料の比抵抗を与えるプログラム可能材料404により短絡されない。
一実施形態においては、コンタクト170は、活性化された窒素、活性化された酸素及びアンモニアの少なくとも1つに開口220内のコンタクトがさらされることにより処理されるプラズマにより改善される。プラズマは、コンタクト170と化学反応し、コンタクト170の比抵抗を増加させる。更に、上記の方法の全て、いずれの組み合わせ、又はいずれ1つを用いて、コンタクト170の比抵抗を改善することができる。
図10は、y軸に対してある角度でイオンを注入することによる、コンタクト170対する改善領域を示す図9の構造についての他の断面図を示している。改善されるコンタクト170の領域は、開口220内のコンタクト170の周囲に示されている改善領域172として示されている。一実施形態においては、改善された領域172は、コンタクト170の残りの部分より比抵抗が大きい。一実施形態においては、相変化を受けるプログラム可能材料404は、コンタクト170において位置付けられるが、改善される領域172には位置付けられない。それ故、相変化を受ける、プログラム可能性の小さい材料が用いられ、その結果、小さい電力消費及びプログラミングの信頼性の改善がもたらされる。コンタクト170の非角度付け改善が用いられる、他の実施形態においては、改善された領域172は、開口220内のコンタクト170の全体の露出された表面領域を含み、相変化を受けるプログラム可能材料404は、改善された領域172の全てにおいて形成される。コンタクト170の比抵抗を増加させることにより、プログラミングの信頼性を改善し、必要なプログラミング電流を減少させることができる、電力損失及びコンタクト170からプログラム可能材料404に移動する熱は増加する。更に、コンタクト170の比抵抗を増加させることにより、コンタクト170のプログラム可能材料404との化学反応性は低下し、コンタクト170へのプログラム可能材料404の付着力は増大する。
図11は、誘電体210と開口220におけるスペーサ材料402を形成した後の同じ断面による図8の構造を示している。一実施形態においては、例えば、基板上にTEOS(tetra−ethyl−ortho−silicate)の化学的気相成長法(CVD)によりスペーサ材料402をコンフォーマルに形成する。この製造の時点で、スペーサ材料は開口220内のコンタクト170を覆う。
図12は、開口220の内側に誘電体スペーサ(スペーサ材料部分402A)を形成するためにエッチングされた後の図11の構造を示している。一実施形態においては、スペーサ材料402は、時限エッチングを用いて異方的にエッチングされる。下で更に明らかになる一特徴においては、スペーサ材料402は、コンタクト170においてプログラム可能材料404(図16)の品質を低下させるように作用する。
図13は、コンタクト170のセルフアライメントによる改善を示す、同じ断面による図12の構造を示している。その改善は、イオン注入マスクとして機能するスペーサ402Aによりセルフアライメントによりなされる。スペーサ402Aが形成される前又は後のどちらかにおいて、コンタクト170の改善を実行することができる。更に、図13は、イオン注入175によるコンタクト170の改善を示しているが、コンタクト170上への材料の堆積及びプラズマにコンタクト170を晒すことを含む、改善の付加的方法を利用することが可能である。
代替として、一実施形態においては、イオンは、開口220の壁にある角度で注入される。図14は、イオン注入175によるコンタクト170の角度付き改善を示す、同じ断面による図12の構造を示している。又、コンタクト170上への材料の堆積及びプラズマにコンタクト170を晒すことを含む、改善の付加的方法を利用することが可能であることは明らかである。
図15は、コンタクト170に対する改善領域、即ち、改善領域173を示す、図14の構造の他の断面図である。一実施形態においては、相変化を受けるプログラム可能材料404は、修正された領域172ではなく、コンタクト170上に位置付けられる。相変化を受けるプログラム可能性の小さい材料が、それ故、利用され、その結果、小さい電力消費及びプログラミングの信頼性の改善がもたらされる。
図16は、コンタクト170及び誘電体210において開口220内にプログラム可能材料404を導入した後の図13の構造を示している。一実施形態においては、プログラム可能材料404、即ち、相変化材料は、物理的状態(例えば、結晶質、非晶質)がエネルギー(例えば、電気エネルギー、熱エネルギー)量の適用により改善されることができる。一般式を有するカルコゲナイド材料は、従来の堆積技術によりコンタクト170上に及び基板上にカルコゲナイド材料を導入することができる、この目的に対して適切であるとして知られている。
図16に更に示すように、プログラム可能材料404の導入に続いて、一実施形態に従って、バリア材料408をプログラム可能材料の上に形成し、導体410をバリア材料408の上に形成する。バリア材料408は、一特徴において、プログラム可能材料404と導体410との間のいずれの化学反応を回避するために機能する。一実施形態においては、プログラム可能材料404、スペーサ402、バリア材料408及び導体410派従来のパターニング技術を用いて形成される。一実施形態においては、バリア材料408は、チタン及び窒化チタンの少なくとも1つを含む。チタン及び/又は窒化チタンコーティングを基板上に均一に堆積することができ、それらのコーティングは良好な付着力を示し、フレーキング、ブリスタリング、チッピング及び剥離を抑制する。一実施形態においては、プログラム可能材料404は、カルコゲナイド合金から成る相変化材料を含み、コンタクト170はCoSi2を含む。一実施形態においては、プログラム可能材料404として適切なカルコゲナイド合金は、元素の周期律表のVI族の少なくとも1つの元素を含む。一実施形態においては、Ge2Sb2Te5がプログラム可能材料404として用いられる。プログラム可能材料404として用いられる他のカルコゲナイド合金は、GaSb、InSb、InSe、Sb2Te3、GeTe、GeSb2Te5、InSbTe、GaSeTe、SnSb2Te4、InSbGe、AgInSbTe、(GeSn)SbTe、GeSb(SeTe)及びTe81Ge15Sb2S2を含む。
図16に示す構造において、プログラム可能材料404のコンタクト領域とコンタクト170は、スペーサ材料部分の存在により最小化される。一特徴において、開口220の寸法は、コンタクト170の第1コンタクト領域を晒す。一特徴において、第1コンタクト領域より小さい第2コンタクト領域は、スペーサ材料402及び/又はスペーサ材料部分402Aにより晒される。プログラム可能材料404の量を最小化することにより、例えば、コンタクト170において非晶質及び結晶質からの/への相変化を受けるプログラム可能材料404の量を局在化することができる。スペーサ材料部分402A間に示す領域406は、プログラム可能材料404の非晶質及び結晶質状態からの及びそれらへのプログラム可能な信頼性に加えられる、プログラム可能材料404の限定された及び局在化したプログラミング領域を規定する。一般に、相変化領域を局在化することにより、プログラミング及び読み出しの間にプログラム可能材料404を流れる、必要な電流は少なくなり、結果的に、電力消費は少なくなる。
図17は、開口412を形成した後の図16の構造のxy断面図を示している。一特徴において、開口412は、プログラム可能材料404、バリア材料408及び導体410のx方向の膜厚を規定するように機能する。開口412は、他の特徴において、基板上に形成された関連回路素子(例えば、トランジスタデバイス)及び互いから個々のメモリ素子を分離するために機能する。他の実施形態において、開口412は、導体410、バリア材料408及びプログラム可能材料404を通る開口のパターニングにより形成される。そのパターニングは、従来のフォトリソグラフィ及びエッチング技術を用いて達成される。この実施例においては、エッチングは、導体410、バリア材料408及びプログラム可能材料404を貫いて、誘電体210を除去するまで進む。現在のフォトリソグラフィ技術に従って、開口412のz方向の膜厚のための適切なフィーチャサイズとしては0.25μm程度の小ささを有する。図18は、yz断面である、図17の構造の他の断面図を示している。
図19は、導体410上に誘電体材料412を形成した後の図18の構造を示している。誘電体412は、例えば、導体410を電気的に分離するために導体410上に形成されるSiO2又は他の適切な材料である。その形成に続いて、誘電体材料412は平坦化され、誘電体材料412、誘電体材料210及び誘電体材料180を貫いてコンタクト170までビア(via)が形成される。ビアは、タングステン(W)のような導電性材料及びチタン(Ti)及び窒化チタン(TiN)の組み合わせのようなバリア材料で満たされる。誘電体材料412を導入し、ビアを形成してそれを導電性で満たし、及び平坦化する技術は、当業者に周知である。図19に示す構造は又、基板110の上に形成された導体又は信号ライン材料140(例えば、行ライン)の構造をミラーリングするように、形成され、パターニングされた付加導体又は信号ライン材料414を示している。ミラー導体ライン材料414は導体又は信号ライン材料140をミラーリングし、導電性ビアにより導体又は信号ライン材料140に結合されている。N型シリコンのようなドーピングされた半導体をミラーリングすることにより、ミラー導体ライン材料414は、一特徴において、図1に示すメモリアレイ5のようなメモリアレイにおいて導体又は信号ライン材料140の抵抗を低減するように機能する。ミラー導体ライン材料414のために適切な材料は、アルミニウム合金のようなアルミニウム材料を含む。
図20は、一実施形態に従って、プログラム可能なメモリデバイスを形成する方法について示している。
更に、図21にメモリデバイス5(図1)のようなメモリアレイを示し、ここで、個々のメモリセルは図19を参照して説明したメモリセルと同様の構造を有し、添付のテキストが適切なシステムに添えられている。一実施形態においては、システム700は、マイクロプロセッサ704、入力/出力(I/O)ポート706及びメモリ702を含む。マイクロプロセッサ704、I/Oポート706及びメモリ702は、データバス712、アドレスバス716及び制御バス714により接続されている。マイクロプロセッサ704は、制御バス714におけるメモリ読出し信号とアドレスバス716におけるアドレスとを送信することにより、メモリ702からデータを読出し、又は命令をフェッチする。メモリ702は、データバス712においてマイクロプロセッサ704にデータ語又はアドレスされた命令を出力する。マイクロプロセッサ704は、アドレスバス716におけるアドレスを送信すること、データバス712におけるデータ語を送信すること、及び制御バス714におけるメモリ702にメモリ書き込み信号を送信することにより、メモリ702にデータ語を書き込む。I/Oポート706は、入力デバイス708及び出力デバイス710の少なくとも1つに結合するようにして、用いられる。
代表的な実施形態について開示したが、種々の変形及び修正を、開示した実施形態に対してなすことが可能である一方、同時提出の特許請求の範囲により規定される本発明の権利範囲及び主旨の範囲内で更に種々の変形及び修正をなすことが可能である。
Claims (19)
- コンタクト上に誘電体を形成する段階であって、前記コンタクトは基板上に形成されている、段階;
前記コンタクトを晒す、前記誘電体を通る開口を、形成する段階;
前記コンタクトの比抵抗を改善する段階;
前記開口内にプログラム可能材料を形成する段階であって、前記プログラム可能材料は前記コンタクト上にある、段階;及び
前記プログラム可能材料に導体を形成する段階;
から構成されることを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法であって:
前記コンタクトを晒す、前記誘電体を通る開口を、形成した後であって、前記コンタクトの比抵抗を改善する前に、前記開口内に少なくとも1つのスペーサを形成する段階;
から更に構成される、ことを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法であって、前記コンタクトの前記比抵抗を改善する段階は、前記コンタクトにイオンを注入する手順と、前記コンタクト上に材料を堆積する手順と、プラズマを用いて前記コンタクトを処理する手順と、の少なくとも1つから構成される、ことを特徴とする方法。
- 請求項3に記載の方法であって、イオンを注入する手順は、前記開口にさらされた前記コンタクトの表面に垂直に入射するようにイオンを注入する段と、前記開口にされられた前記コンタクトの前記表面にある角度でイオンを注入する段と、の1つから構成される、ことを特徴とする方法。
- 請求項3に記載の方法であって、イオンを注入する手順は、酸素イオンと、窒素イオンと、炭素イオンの少なくとも一種類を用いて所定の深さにイオンを前記コンタクトに埋め込む段から構成される、ことを特徴とする方法。
- 請求項3に記載の方法であって、前記コンタクト上に材料を堆積する手順は、前記コンタクトを流れる所定電流に基づいて、前記コンタクトが直列抵抗の200Ω乃至2000Ωの範囲内の一を有するように材料の所定量を堆積する段から構成される、ことを特徴とする方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記開口内にプログラム可能な材料を形成する段階は、前記開口内にカルコゲナイドのメモリ素子を形成する手順から構成される、ことを特徴とする方法。
- 基板上のコンタクトであって、比抵抗の改善を有する、コンタクト;
前記コンタクト上の誘電体であって、前記コンタクトを晒す開口を有する、誘電体;
前記開口内に形成されたプログラム可能な材料であって、前記コンタクト上にある、プログラム可能な材料;及び
前記プログラム可能な材料と接触した状態にある導体;
から構成されることを特徴とする装置。 - 請求項8に記載の装置であって、前記コンタクトは、一様に改善されたコンタクト及びリング形状に改善されたコンタクトの1つから構成される、ことを特徴とする装置。
- 請求項8に記載の装置であって、前記コンタクトは、注入されたイオン、堆積された材料及びプラズマ処理の少なくとも1つを有する、ことを特徴とする装置。
- 請求項10に記載の装置であって、前記の注入されたイオンは、所定の深さに埋め込まれた、酸素イオン、窒素イオン及び炭素イオンの少なくとも一種類から構成される、ことを特徴とする装置。
- 請求項10に記載の装置であって、前記の堆積された材料を有する前記コンタクトは200Ω乃至2000Ωの範囲内の一の直列抵抗を有するコンタクトから構成される、ことを特徴とする装置。
- 請求項8に記載の装置であって、前記のプログラム可能な材料はカルコゲナイドのメモリ素子から構成される、ことを特徴とする装置。
- マイクロプロセッサ;
入力/出力(I/O)ポート;及び
基板上のコンタクトであって、比抵抗の改善を有するコンタクトと、前記コンタクトを晒す開口を有する前記コンタクト上の誘電体と、前記コンタクト上と前記開口内に形成されたプログラム可能な材料と、前記プログラム可能な材料と接触している導体と、を有するメモリ;
から構成されるシステムであって、
前記マイクロプロセッサ、前記I/Oポート及び前記メモリは、データバスと、アドレスバスと、制御バスとに接続されている;
ことを特徴とするシステム。 - 請求項14に記載のシステムであって、前記コンタクトは、一様に改善されたコンタクト及びリング形状に改善されたコンタクトの1つから構成される、ことを特徴とするシステム。
- 請求項14に記載のシステムであって、前記コンタクトは、注入されたイオン、堆積された材料及びプラズマ処理の少なくとも1つを有する、ことを特徴とするシステム。
- 請求項16に記載のシステムであって、前記の注入されたイオンは、所定の深さに埋め込まれた、酸素イオン、窒素イオン及び炭素イオンの少なくとも一種類から構成される、ことを特徴とするシステム。
- 請求項16に記載のシステムであって、前記の堆積された材料を有する前記コンタクトは200Ω乃至2000Ωの範囲内の一の直列抵抗を有するコンタクトから構成される、ことを特徴とするシステム。
- 請求項14に記載のシステムであって、前記のプログラム可能な材料はカルコゲナイドのメモリ素子から構成される、ことを特徴とするシステム。
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