JP2005526826A - キラル2−メチル−4−保護化ピペラジンの立体選択的アルキル化 - Google Patents

キラル2−メチル−4−保護化ピペラジンの立体選択的アルキル化 Download PDF

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Abstract

本発明は、無機塩基を使用して、2−メチル−4−保護化ピペラジンの新規な立体選択的アルキル化プロセスによる、高い立体化学的純度の以下の化合物の合成を説明する。
【化3】
Figure 2005526826

ここで、Xは芳香環上の置換基であり、nは1〜5の範囲の、同一または異なり得るX部分の個数を示す整数であり、各Xは、アルキル基、ハロゲン基、ハロゲン化されたアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基およびヘテロアリール基からなる群より独立して選択され、Zは、アルキル基、アルコキシアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロアリールアルキル基およびアリールアルキル基からなる群より選択される。

Description

(発明の分野)
本出願は、反応が無機塩基により触媒される、キラル2−アルキル−4−保護化ピペラジンの立体選択的アルキル化について開示する。本出願は、2002年3月29日に出願の米国仮出願第60/368,707号の優先権を主張するものである。
(発明の背景)
キラルアミンのアルキル化化合物との立体選択的アルキル化は、有機合成において重要な反応である。一般に、適切な離脱基がアルキル化化合物上に置かれ、そして、塩基存在下で、キラルアミンと反応する。塩基は、副産物である酸を吸収する。適切な離脱基としては、ハロゲン化物、メシラート、トシレートなどのような部分が挙げられる。一般に、用いられる塩基は、3級アミンのような有機塩基である。適切な有機塩基の例としては、ピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン(「TMP」)などが挙げられる。従って、例えば、J.TagatらのBioorg.Med.Chem.,(2001)11,2143〜2146には、スキーム1に示す合成が記載されており、TMPが、アルキル化反応において、有機塩基として用いられている。
Figure 2005526826
本明細書に参照として援用する、2000年5月1日に出願の米国特許出願第09/562,814号(現在、米国特許第6,391,865号)には、式VIの化合物を調製するため、以下の反応が開示されている。式VIの化合物は、式VIIの化合物の合成における中間体であり、それはまた、上記‘814特許出願に記載されている。‘814特許出願には、式VIIの化合物がCCR5受容体のアンタゴニストとして開示されている。CCR5受容体のアンタゴニストは、AIDSおよび関連するHIV感染症の処置に有効であることが知られている。また、CCR−5受容体は、関節炎、慢性関節リウマチ、アトピー性皮膚炎、乾癬、喘息およびアレルギーのような炎症性疾患において、細胞移動を媒介することが報告され、このような受容体の阻害剤は、このような疾患の処置や、炎症性腸疾患、多発性硬化症、固形臓器移植拒絶、および移植片対宿主病のような他の炎症性疾患または状態の処置に有効であることが予期される。CCR5受容体のアンタゴニストの重要性の立場から、このようなアンタゴニストおよび/またはそれらの中間体の改良された製造方法は、いつでも興味のあることである。
Figure 2005526826
アミンの立体選択的アルキル化において、2つの重要な基準がある。所望の生成物を高い収率で得ることが重要であり、そして、高いキラル純度で生成物を生成することが重要である。従って、例えば、スキーム1に示す反応において、出発物質はそれぞれR配置およびS配置を有する2つのキラル中心がある。式IIIの生成化合物を高い収率で理想的に得、しかも、生成物の(S,S)配置のもの(その特定の反応において)をできるだけ高い程度で得ることが好ましい。(1つのキラル中心は、示しているように反応の途中で、転移が起こる。)これはまた、反応における高い立体選択性または高い選択性比率として説明することができる。スキーム1において、有機塩基が以上に記載するもののような触媒として採用される場合、約50〜65%の生成物の収率が、所望の(S,S)異性体:所望しない(R,S)異性体の選択性比率3:1で得られる。これは、さらなる分離工程を必要とし、さらに費用がかかる。所望の異性体をより高い選択性で、好ましくは、またより高い収率で、必要な場合、最低限の追加プロセス工程で得ることが望まれる。
(発明の要旨)
1つの実施形態において、本発明は、式VIIIの化合物を調製するための立体選択的アルキル化のプロセスを教示する。
Figure 2005526826
ここで、Xは芳香環上の置換基であり、nは1〜5の範囲の、同一または異なり得るX部分の個数を示す整数であり、各Xは、アルキル、ハロゲン、ハロゲン化されたアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシおよびヘテロアリールからなる群より独立して選択され、Zは、アルキル、アルコキシアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキルおよびアリールアルキルからなる群より選択され、このプロセスは、(a)溶媒中、無機触媒の存在下で、式IXの化合物:
Figure 2005526826
(ここで、X、nおよびZは上に定義したものであり、Yは、アルキル、ハロゲン化されたアルキル、またはアルキル、ニトロまたはハロゲンで必要に応じて置換したアリールのアリールからなる群より選択される)
を式Xの化合物:
Figure 2005526826
(ここで、Gは、アルキル、ハロゲン化されたアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシおよびアリールアルコキシからなる群より選択される)
と反応させる工程、および(b)酸または塩基の処理により、−C(O)−G基を取除く工程を包含する。
本プロセスは、Z=CHOMeの場合、驚くことに、有機塩基の代わりに無機触媒を採用することにより、式VIIIの所望の化合物を、高い収率で生成する。(これは、高い好ましい立体化学的含有量で、式IXの化合物のモル基準で少なくとも50%の収率を意味する)(この例において、これは、R,S立体化学:S,S立体化学のモル比が少なくとも約2:1を意味する。)事実、ほとんどの例において、実施例の節に示すように、Z=CHOMeの場合、本発明のプロセスは、式VIIIの化合物のR,S:S,Sの立体化学比90:10以上を生成する。式VIIIのR,SおよびS,Sで記載された立体化学は、Zが命名法の慣習においてアリールより優先的であることを仮定する。Z=メチルの場合、所望であると同時に得られる主要な異性体は、S,Sである。Z=メチルの場合、式VIIIの化合物のS,SおよびR,S立体化学を以下に示し、ここで、文字SおよびRはそれぞれの不斉炭素原子の立体化学を示す。
Figure 2005526826
本発明のキラルアミン、特に、キラル2−アルキル−4−保護化ピペラジンの立体選択的アルキル化は、高い収率で、高い立体選択性があるという結果である。以上に述べたように、式VIIIに代表される化合物は、CCR5受容体アンタゴニスト調製のための所望する中間体である。したがって、本発明は、このようなCCR5アンタゴニストを調製するための効果的なプロセスを提供する。
他の1つの実施形態において、本発明は、対応する2−メチルピペラジンからモノ−4−保護化2−メチルピペラジンを高収率で選択的に調製するための新規なプロセスを開示し、このプロセスは、この2−メチルピペラジンを溶媒中の約1モル当量の保護剤と反応させ、この反応は酸触媒または塩基触媒により触媒される該反応させる工程を含む。このようなモノ−4−保護化2−メチルピペラジンの例は、式Xの化合物である。用語「選択的に調製する」は、1−位および4−位の双方に対する4−位の保護の優先的な位置特異性が少なくとも約80%であり、かつ、1−位に対する4−位の優先的な保護が少なくとも95%である4−保護化2−メチルピペラジンの調製をいう。
(発明の詳細な説明)
本発明は、1つの実施形態において、高い収率で、高い立体化学的純度を有する式VIIIの化合物の調製のための、新規な、容易に用いることのできるプロセスを開示する。他の1つの実施形態では、2−メチルピペラジンの4−位の窒素原子を選択的にモノ保護するための新規なプロセスを開示する。
式VIIIの化合物を調製するための本発明のプロセスを、式VIIIの化合物が、X=CF、n=1、YおよびGは以上に定義されたのもの、Z=−CH−OCHである定義を有する場合について、以下に示す。
Figure 2005526826
式XIの化合物は以下にように調製される。
Figure 2005526826
式Xの化合物は以下にように調製される。
Figure 2005526826
ここで、Gは以上に定義されたものであり、Mは−Cl、−OCOGまたはOCである。式Xの化合物の合成は、B.M.BaroudyらのWO0066558に報告されており、その開示は、本明細書にそれを引用して援用する。しかしながら、ここで採用する方法は、非常に冗長であり、さらに、モノ保護反応の間で所望の選択性に到達するため、Baroudyらは、厄介なプロセスを採用しなければならなかった。本出願人は、本明細書に後に示すように、ずっと簡単に所望の選択性を有するモノ保護反応に到達した。
式XIVの化合物の調製と同様に、式XVの化合物を、式XVIおよびXVIIの化合物から調製し、その後、XVを、ZがメチルであるVIIIの化合物の類似物に変換した。
Figure 2005526826
また、式XIVの化合物の調製の場合のように、上記の反応に無機塩基を用いて、式XVの化合物を調製すると、収率および立体化学的含有量について、有機塩基の使用を越える有意な利点を提供することが見出された。式XVIおよび式XVIIの化合物を、B.M.BaroudyらのWO0066558に記載のように調製した。詳細は、以下の実施例の節に提供される。
本発明のプロセスにおける様々な工程の好ましい試薬および反応条件が、実施例の節に詳細に記載されるが、以下に詳細を要約する。
以上に用いられたように、本明細書を通じて、以下の用語は、特に断りのない限り、以下の意味を有すると理解される。
「アルキル」は直鎖または分岐鎖であり得、鎖に約1〜約20の炭素原子を含む脂肪族炭化水素基を意味する。好ましいアルキル基は、鎖に約1〜約12の炭素原子を含む。さらに好ましいアルキル基は、鎖に約1〜約6の炭素原子を含む。分岐鎖とは、1つ以上の、メチル、エチルまたはプロピルのような低級アルキル基が、直線状のアルキル鎖に結合していることを意味する。「低級アルキル基」は、直鎖または分岐鎖であり得、鎖に約1〜約6の炭素原子を有する基を意味する。「置換されたアルキル基」は、アルキル基が、同一または異なり得る1つ以上の置換基により置換され得ることを意味し、各置換基は、ハロ、アルキル、アリール、シクロアルキル、シアノ、ヒドロキシ、アルコキシ、アルキルチオ、アミノ、−NH(アルキル)、−NH(シクロアルキル)、−N(アルキル)、−N(シクロアルキル)、−NH(アリール)、−N(アリール)、カルボキシおよび−C(O)O−アルキルからなる群より独立して選択される。非限定的な適切なアルキル基の例としては、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、トリフルオロメチル、ベンジルおよびシクロプロピルメチルが挙げられる。
「アリール」は、約6〜約14の炭素原子、好ましくは約6〜約10の炭素原子を含む芳香族単環式または多環式環系を意味する。アリール基は、同一または異なり得る本明細書に定義されるような1つ以上の「環系置換基」で必要に応じて置換され得る。非限定的な適切なアリール基の例としては、フェニル、トリル、クロロフェニルおよびナフチルが挙げられる。
「アラルキル」または「アリールアルキル」はアリール−アルキル−基を意味し、ここで、アリールおよびアルキルは、以前に説明したものである。好ましいアラルキルは、低級アルキル基を含む。非限定的な適切なアラルキル基の例としては、ベンジル、フェネチルおよびナフチルエニルメチルが挙げられる。親部分への結合はアルキルを介する。
「ヘテロアリール基」は、約5〜約14の環系原子、好ましくは約5〜約10の環系原子を含む芳香族単環式または多環式環系を意味し、ここで、1つ以上の環系原子が、炭素以外の元素(例えば、窒素、酸素または硫黄)の単独または組合せである。好ましいヘテロアリールは、約5〜約6の環系原子を含む。「ヘテロアリール」は、同一または異なり得る本明細書に定義されるような1つ以上の「環系置換基」によって必要に応じて置換され得る。ヘテロアリールの根名の前にある接頭語、アザ、オキサまたはチアは、それぞれ少なくとも1つの窒素、酸素または硫黄原子が環原子として存在することを意味する。ヘテロアリールの窒素原子は必要に応じて酸化され、対応するN−オキシドになり得る。非限定的な適切なヘテロアリール基の例としては、ピリジル、ピラジニル、フラニル、キノリニル、ピラゾリル、イミダゾリル、チエニル、ピリミジニル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、チアゾリルなどが挙げられる。
「ハロ」は、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基またはヨード基を意味する。好ましいものは、フルオロ、クロロまたはブロモであり、さらに好ましいものは、ブロモおよびクロロである。
「ハロゲン」は、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素を意味する。好ましいものは、フッ素、塩素または臭素であり、さらに好ましいものは、臭素および塩素である。
「アシル」は、アルキル−C(O)−基またはアリール−C(O)−基を意味し、ここで、アルキルおよびアリールは、以前に説明したものである。親部分への結合は、カルボニルを介する。好ましいアシル基は、低級アルキルを含む。非限定的な適切なアシル基の例としては、アセチル、プロパノイル、ブタノイルおよびベンゾイルが挙げられる。
「アルコキシ」は、アルキル−O−基を意味し、ここで、アルキル基は、以前に説明したものである。非限定的な適切なアルコキシ基の例としては、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、ベンジルオキシおよびヘプトキシが挙げられる。親部分への結合は、エーテル酸素を介する。
「アリールオキシ」は、アリール−O−基を意味し、ここで、アリール基は、以前に説明したものである。非限定的な適切なアリールオキシ基の例としては、フェノキシおよびナフトキシが挙げられる。親部分への結合は、エーテル酸素を介する。
「アルコキシカルボニル」は、−C(O)O−アルキル基を意味し、ここで、アルキルは、以前に説明したものである。非限定的な例としては、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルなどが挙げられる。
用語「ハロカルボニルオキシアルキル」とは、例えば、クロロギ酸アルキル(例えば、クロロギ酸エチル、クロロギ酸ベンジルなど)のアルキル−O−C(O)−ハロのような基をいう。
「環系置換基」は、例えば、環系上の可能な水素を置換した、芳香族または非芳香族環系に結合した置換基を意味する。環系置換基は、同一または異なり得、各々は、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、アルキルアリール、ヘテロアラルキル、アルキルへテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アシル、アロイル、ハロ、ニトロ、シアノ、カルボキシ、アルコキシカルボニルおよびアリールオキシカルボニルからなる群より独立して選択される。
式XIの化合物を調製するため、式XIIの化合物を、適切な塩基の存在下で、式YSOClの塩化スルホニルと反応させる。溶媒は、反応において必要に応じて採用され得る。非限定的なYSOClの例としては、塩化メタンスルホニル、塩化トリフルオロメチルスルホニル、塩化ノナフルオロブチルスルホニル、塩化2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル、塩化ベンゼンスルホニル、塩化p−トルエンスルホニル、塩化4−ニトロフェニルスルホニル、塩化4−ブロモスルホニル、塩化4−クロロフェニルスルホニルなどが挙げられる。塩化メタンスルホニル、塩化p−トルエンスルホニルおよび塩化4−クロロフェニルスルホニルは最も好ましい。非限定的な適切な塩基の例としては、例えば、ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン(「DABCO」)、ピリジン、トリエチルアミン、同様な3級アミンなどが挙げられる。非限定的な適切な任意の溶媒の例としては、例えば、炭化水素、ピリジン、ニトリル、エーテル、ケトン、エステルなどが挙げられ、炭化水素が好ましく、トルエンおよびキシレンが最も好ましい。溶媒は、一般に、出発化合物のモル量の約1〜約50倍、好ましくは、約2〜約20倍、代表的には、約5〜約15倍で用いられ得る。塩化スルホニルは、一般に、出発化合物に対して約1〜約5モル当量、好ましくは、約1〜約2モル当量、代表的には、約1〜約1.5モル当量で用いられ得る。塩基は、一般に、出発化合物に対して約1〜約10モル当量、好ましくは、約1〜約5モル当量、代表的には、約1〜約2モル当量で用いられ得る。
式XIIの化合物は、溶媒および塩基を含む混合物(または、塩基自体が溶媒である場合、塩基のみ)に溶解され、分散され、懸濁され、そうでなければ適切に分配され、反応混合物は、撹拌され、そうでなければ適切に混合され、反応を促進し得る。反応は、一般に、約−10℃〜約50℃、好ましくは、約−10℃〜約40℃、最も好ましくは、約−5℃〜約20℃で、一般に、約0.5〜約10時間、好ましくは、約0.5〜約5時間、最も好ましくは、約1〜約3時間実施され得る。式XIの生成物は、スルホン酸塩を調製する当業者に周知の方法により、単離および精製され得る。十分に純粋である場合、この生成物は、個別に精製することなく、直接、反応手順の次の工程に供され得る。
式Xの化合物は、市販の式XIIIの化合物およびその塩から調製される。式XIIIの化合物の調製はまた、上述のB.M.BaroudyらのWO0066558に報告されている。式XIIIの化合物は、塩基触媒または酸触媒下で、化合物GCOM(ここで、Gは以上に定義したものである)と反応することによりモノ−4−保護される。塩基触媒反応の場合、例えば、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムなどのような無機塩基、または、例えば、ピリジン、トリエチルアミン、DABCO、N,N−ジイソプロピルエチルアミンなどのような有機塩基、またはそれらの混合物が採用され得る。塩基は、一般に、式XIIIの化合物に対して約1〜10モル当量、好ましくは、約1〜5モル当量、代表的には、約1〜2モル当量で採用され得る。溶媒は、以上に示すとおり、塩基自体が溶媒として機能し得ない限り、用いられ得る。非限定的な適切な溶媒の例としては、例えば、炭化水素(例えば、トルエン、キシレン、ヘプタンなど)、エーテル(例えば、THF、1,4−ジオキサンなど)、アルコール(例えば、メタノール、エタノールなど)、ケトン(例えば、アセトン、メチルエチルケトンなど)、またはその混合物が挙げられる。約1モル当量の式GCOMの化合物が、反応において用いられる。例えば、トリフルオロ酢酸エチルなどのようなカルボン酸エステルは、反応において有用な適切なGCOMの例である。
式XIIIの化合物は、溶媒および塩基の混合物(または、塩基自体が溶媒の場合、塩基のみ)に溶解され、そうでなければ適切に分配され、GCOMが加えられ、適切に混合され、反応が所望の完了に進むようにし得る。反応は、一般に、約−10℃〜約50℃、好ましくは、約−10℃〜約40℃、最も好ましくは、約−5℃〜約30℃の温度範囲で、一般に、約0.5〜約60時間、好ましくは、約1〜約50時間、最も好ましくは、約1〜約40時間実施され得る。式Xの生成物は、当業者に周知の方法により単離および精製され得る。この生成物は当業者に周知のように、例えば、NMRおよびHPLCのような分析技術を用いて、位置特異性および化学選択性について分析され得る。GCOMがトリフルオロ酢酸エチルの場合の代表的な例において、収率85%の4−トリフルオロアセチル−2−メチルピペラジンおよび1,4−ビス(トリフルオロアセチル)−2−メチル−ピペラジンの混合物(88:12のモル比)が得られた。2−メチルピペラジンが関与する反応における、このようなモノ−N−保護(本質的にN,N−ジ保護のない)の好ましい化学選択性は、商業的に有利である。さらに、1−トリフルオロアセチル−2−メチルピペラジンの位置異性体は検出されなかった。したがって、反応は、実質的に、そしてほとんど完全に位置特異的(つまり、1−位に対する4−位)であった。
式XIIIの化合物のGCOMとの反応は、塩基の代わりに酸により触媒され得る。適切な酸は、好ましくは弱酸であり、例えば、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、シュウ酸、クエン酸など、およびその混合物が挙げられる。酸は、一般に、式XIIIの化合物に基づいて約1〜10モル当量、好ましくは、約1〜6モル当量、および代表的には、約2〜4モル当量で使用され得る。溶媒は、必要に応じて採用され得る。非限定的な適切な溶媒の例としては、例えば、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのような)、ジメチルスルホキシド、エーテル(例えば、THF、1,4−ジオキサンのような)、およびその混合物が挙げられる。好ましい溶媒は、水のみ、または水をアルコールおよび/もしくはエーテルとに混合したものである。反応において有用なGCOMの例は、カルボン酸エステル(例えば、酸塩化物(例えば、塩化アセチル、塩化ベンゾイルなど)のような)、酸無水物(例えば、無水酢酸、ジ−t−ブチルジカーボネートすなわち
Figure 2005526826
のような)、ハロカルボニルオキシアルキル化合物(例えば、クロロギ酸メチル、クロロギ酸エチル、クロロギ酸ベンジルのような)などが挙げられる。式XIIIの化合物は、溶媒と酸との混合物に溶解され、そうでなければ適切に分配され得、GCOMが加えられ、適切に混合され、反応が所望される完了まで進むようにし得る。反応は、一般に、約−10℃〜約50℃、好ましくは、約−10℃〜約40℃、最も好ましくは、約−5℃〜約30℃の温度範囲で、一般に、約0.5〜約15時間、好ましくは、約0.5〜約10時間、最も好ましくは、約0.5〜約5時間実施され得る。式Xの生成物は、当業者に周知の方法により単離および精製され得る。当業者に周知であるように、例えば、NMRおよびHPLCのような分析技術を用いて、位置特異性および化学選択性を分析し得る。GCOMがクロロギ酸ベンジルの場合の代表的な実施例において、98モル%を越える4−ベンジルオキシカルボニル2−メチルピペラジンを含む収率89%の生成物が得られた。さらに、ほんの0.5%の位置異性体、1−ベンジルオキシカルボニル−2−メチルピペラジンが検出された。また、2−メチルピペラジンが関与する反応における、このようなモノ−N−保護の高い位置特異性および化学選択性は、驚くべきである。
次いで、式XIおよびXの化合物は、無機塩基存在下で反応し、式XIVの化合物(ここで、X=CF、n=1およびZ=−CH−OCH)を高い収率および高い立体化学的純度で得る。(この反応はまた、偶然に、式XIのアルキル化剤を用いる式Xのアミンの立体選択的アルキル化である。)式XIおよびXの化合物は、無機塩基を含む溶媒に、好ましくは、細かく分割された形態で、溶解され、懸濁され、またはそうでなければ適切に分配される。混合物は撹拌され、反応が完了まで進むようにする。非限定的な適切な溶媒の例は、例えば、炭化水素(トルエン、キシレン、ヘプタンなどのような)、エーテル(例えば、THF、1,4−ジオキサンなどのような)、ケトン(例えば、アセトン、メチルエチルケトンなどのような)、エステル(例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピルなどのような)、ニトリル(例えば、アセトニトリルなどのような)、アミド(例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリジノンなどのような)、ジメチルスルホキシド、およびその混合物が挙げられる。非限定的な適切な無機触媒の例は、例えば、炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩、ホウ酸塩、亜硫酸塩およびその混合物が挙げられる。特異的な触媒は、例えば、KCO、NaHCO、NaPO、CaCO、NaBO、およびKSO、ならびにその混合物が挙げられる。反応において、約1:1〜約1:5(好ましくは、約1:2)モル当量の式XIおよびXの化合物が用いられる。反応は、一般に、約10℃〜約130℃、好ましくは、約50℃〜約110℃、最も好ましくは、約80℃〜約110℃の温度範囲で、一般に、約0.5〜約60時間、好ましくは、約5〜約50時間、最も好ましくは、約10〜約40時間実施され得る。式XIVの生成物は、当業者に周知の方法により単離および精製され得る。当業者に周知であるように、例えば、NMR、HPLCなどのような分析技術を用いて、立体選択性を分析し得る。
いくつかの例示的な調製が、以下の実施例の節に詳述されている。式XIの出発化合物が96.4:3.6(モル:モル)のS/R立体化学比を有する場合の代表的な反応例において、式XIVの生成物(ここで、X=CF、n=1およびZ=−CH−OCH)が、収率約85%、約95.9:4.1のRS/SS立体化学比で得られた。このような一般にアミン、特に2−メチルピペラジンのN−アルキル化の高い立体化学的純度は、商業的な利点を有する。比較のために、無機塩基の代わりに有機塩基、ジイソプロピルエチルアミンを用いて本質的に同一の反応を実施した。収率58.3%のアルキル化された化合物XIVが、82.7:17.3の立体化学比(RS/SS)で得られ、これは、無機塩基を用いた本発明より実質的に劣った。
次いで、式XIVの化合物は、−C(O)−G部分を取除くため、例えば、酸(例えば、HCl、HSOなどのような)または塩基(例えば、NaOH、KOHなどのような)を用いた処理のような適切な方法で反応させることにより、式VIIIの化合物に変換される。次いで、式VIIIの化合物は、必要に応じて、当業者に周知のように、適切な酸と反応させることにより、適切な塩に変換される。適切な塩は、例えば、酒石酸塩、シュウ酸塩、フマル酸塩、マレイン酸塩、塩酸塩などである。
本明細書に記載された反応スキームにおける様々な工程の生成物は、当業者に周知であるように、例えば、濾過、再結晶、溶媒抽出、蒸留、沈殿、昇華、クロマトグラフィーなどのような従来の技術により単離および精製され得る。生成物は、当業者に周知であるように、例えば、薄層クロマトグラフィー、NMR、HPLC、融点、質量スペクトル分析、元素分析などのような従来の方法により純度について分析および/または確認され得る。
以下の非限定的な実施例を、本発明をさらに例示するために提供する。実施例を式VIIIの化合物(ここで、X=CF、n=1およびZ=−CH−OCHまたはZ=CH)の調製物として本明細書に説明するが、当業者には、本発明の開示に対する材料、方法および反応条件に対する多くの改変、変形および入替えが実施され得ることは明らかである。これら全ての改変、変形および入替えは、本発明の精神および範囲内にあることを意図される。
他に示されない限り、以下の略語は、本実施例において、以下に述べる意味を有する。
HPLC=高速液体クロマトグラフィー
m.p.:融点
b.p.:沸点
mm:ミリメートル
NMR=核磁気共鳴分光学
DMSO=ジメチルスルホキシド
THF=テトラヒドロフラン
mL=ミリリットル
g=グラム
rtまたはr.t.=室温(周囲)
dr:ジアステレオマー比
以下の実施例において、様々な反応における収率はモル基準で引用され、RS/SSまたはSS/RS比はモル比により引用される。
(実施例1:S−2−メチルピペラジン(塩基触媒された)からの式Xの化合物(G=CF)の調製(高い位置選択的モノ−N−保護))
Figure 2005526826
(S)−2−メチルピペラジン(20g、Deepwater Chemicals製(Woodward,Oklahoma))および炭酸カリウム(極微粉、55.2g)の200mLのTHF中の混合物に、トリフルオロ酢酸エチル(119mL)を0℃で1時間かけて加えた。混合物を0℃で18時間、次にr.t.で一晩撹拌した。固体を濾過によって取除き、濾液を濃縮した。HPLCは、濾液中に33.5gの生成物を含むことを示した(収率85%)。ジ−保護生成物に対するモノ−保護生成物の比は、約88:12であった。
生成物をカラムクロマトグラフィーにより精製し得た(勾配溶出、開始溶媒組成:40%ヘプタン、40%酢酸エチル、および20%イソプロパノール;終了溶媒組成:60%酢酸エチル、40%イソプロパノール)。黄色の油。H NMR(DO):4.41(m,1H),3.85(m,1H),3.23(m,0.5H,1つの回転異性体),3.09(m,1H),2.86(m,3H),2.51(t,J=11.8Hz,0.5H,他の回転異性体),1.99(brS,1H),1.14(split d,J=6.3Hz,3H)。
粗生成物を1−t−ブトキシカルボニル−4−トリフルオロアセチル−2−メチルピペラジンに変換して位置化学を確認した。その位置異性体である、4−t−ブトキシカルボニル−1−トリフルオロアセチル−2−メチルピペラジンは、19F NMR(CDCl,1−t−ブトキシカルボニル−4−トリフルオロアセチル−2−メチルピペラジン:−68.63,−69.29;4−t−ブトキシカルボニル−1−トリフルオロアセチル−2−メチルピペラジン:−69.42,−69.44)では検出されなかった。
(実施例2:S−2−メチルピペラジン(酸触媒)からの式Xの化合物(G=OBn)の調製(高い位置選択的モノ−N−保護))
Figure 2005526826
S−2−メチルピペラジン(100g)のメタノール(1200mL)および水(400mL)中の溶液に、180mLの酢酸を加えた。クロロギ酸ベンジルを約0〜10℃で90分かけて加えた。反応混合物を約0〜10℃で1時間撹拌した後、これを水で希釈し、混合物を濃縮し、メタノールを取除いた。HPLCは、モノ−アシル化成生物対ジ−アシル化生成物の比が約98/2であることを示した。得られた水性混合物をトルエン(300mL)で洗浄した。水層を25%のNaOH(690mL)で塩基性化し、トルエン(700mL)で抽出した。トルエン層を濃縮し、残渣の固体酢酸ナトリウムを濾過して取除いた。HPLCは、濃縮物中に208gの生成物を含むことを示した(収率89%)。従って、調製された生成物は非常に純粋であり、さらに精製することなく次の工程に用いられ得る。HPLCは、サンプルが約0.5%の位置異性体(1−ベンジルオキシカルボニル−2−メチルピペラジン)を含むことを示した。
減圧蒸留により、純粋なS−4−ベンジルオキシカルボニル−2−メチルピペラジンを得ることができた(透明な油、b.p.136℃/1mm)。H NMR(CDCl):7.31(m,5H),5.09(m,2H),3.98(m,2H),2.84(m,4H),2.47(m,1H),1.78(brs,1H),1.00(d,J=5.5Hz,3H)。
(実施例3〜6:S−2−メチルピペラジンからの式Xの化合物の調製)
実施例2と同様の手順を用いて、式Xの化合物を調製した。
Figure 2005526826
式Xの化合物の物理的および分光学的データ:
G=Me(実施例3):非常に吸湿性の固体、b.p.:〜100℃/10mmHg、H NMR(DO):4.21(m,1H),3.84(m,1H),2.55〜3.40(m,5H),2.02(split s,3H),1.11(split d,J=6.4Hz,3H)。
G=Ph(実施例4):透明の油、H NMR(DO):7.38(m,3H),7.27(d,J=7.1Hz,2H),4.29(m,1H),3.54(m,1H),3.07(m,1H),2.60〜3.0(m,4H),1.05,0.84(split d,J=6.3Hz,5.5Hz,3H)。
G=OEt(実施例5):透明の油、b.p.:130℃/15mmHg、H NMR(CDCl):4.00(q,J=7.0Hz,2H),3.89(brs,2H),2.84(brd,J=9.4Hz,1H),2.64(m,3H),2.32(brs,1H),1.64(s,1H),1.13(t,J=7.1Hz,3H),0.93(t,J=6.3Hz,3H)。
G=O−t−Bu(実施例6):淡黄色の固体、m.p.:39℃;b.p.:95℃/0.5mmHg、H NMR(CDCl):3.95(brs,2H),2.98(brd,J=9.6Hz,1H),2.75(m,3H),2.42(brs,1H),2.38(brs,1H),1.47(s,9H),1.08(d,J=6.3Hz,3H)。
(実施例7:S−2−メチルピペラジンからの式Xの化合物(G=O−t−Bu)の調製(従来の方法))
酢酸をトリエチルアミンに替え、反応を−10℃で実施したことを除き、実施例2と本質的に同一の手順を用いた。HPLCは、モノ−アシル化/ジ−アシル化比は、82/18であることを示した。
(実施例8:4−トリフルオロメチルメトキシアセトフェノンからの式XIIの化合物の調製)
Figure 2005526826
上述のB.M.Baroudyらと類似の手順に従って、式XIIの化合物を調製した。出発ケトンである4−トリフルオロメチルメトキシアセトフェノンを、文献の手順(Camuzat−Dedenis,B.ら、Synthesis,1999,1558)によって調製した。[4−トリフルオロメチルメトキシアセトフェノン(すなわち、2−メトキシ−1−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エタノン)はまた、以下の実施例8Aに記載のプロセスにより調製され得る。]ボラン−THF複合体(36.6mL、1.0MTHF溶液)の50mLのトルエン中の溶液に、メタンスルホン酸(0.15mL)をr.t.でゆっくりと加えた。混合物をr.t.で10分間撹拌した後、(S)−2−メチル−CBS−オキサアザボロリジン(Callery Chemical Company製(Evans City,Pennsylvania)、1.34mL、1.0Mトルエン溶液)を加えた。混合物をr.t.で30分間撹拌した後、4−トリフルオロメチルメトキシアセトフェノン(10.0g)の30mLのトルエン中の溶液に、20〜30℃で1時間かけて加えた。混合物をr.t.で1時間撹拌した後、これをメタノール(10mL)で10〜20℃でクエンチした。この混合物をr.t.で1時間撹拌し、真空下で約20mLに濃縮し、80mLのトルエンで希釈した。この混合物を0.5Mの硫酸(30mL、セライトを通した濾過により相分離を促進した)で洗浄した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム(30mL)で、その後水(30mL)で洗浄した。次いで、有機層を濃縮し、次の工程で直接使用し得た。HPLCは、濃縮物が、10.1gの式XIIの化合物を含むことを示した(収率99.6%の両方の光学異性体)。光学異性体比(S/R)は、98.2/1.8であった。分析学的に純粋なサンプルをカラムクロマトグラフィー(20%酢酸エチル/ヘプタン)により得ることができる。H NMR(CDCl):7.63(d,J=8.2Hz,2H),7.53(d,J=8.5Hz,2H),4.97(dd,J=6.6Hz,J=1.2Hz,1H),3.59(dd,J=9.7Hz,J=3.3Hz,1H),3.46(s,3H),3.43(dd,J=9.7Hz,J=8.7Hz,1H)。
(実施例8A:4−トリフルオロメチルメトキシアセトフェノン(すなわち、2−メトキシ−1−[4−(トリフルオロメチル)フェニル]エタノン)の調製)
Figure 2005526826
ナトリウム・メトキシド(34.8g)および4−(トリフルオロメチル)安息香酸メチル(51.6g)の254mLのDMF中の混合物に、メトキシ酢酸メチル(52.5g)を−10℃で5時間かけて加えた。反応混合物を−10℃で21時間撹拌し、2.3Mの硫酸(410mL)およびMTBE(185mL)の混合物に入れてクエンチし、−8.5℃に冷却した。混合物をr.t.に温め、層を分離し、水層をMTBE(185mL)で抽出し、合わせた有機層を水(100mL)で逆洗した。HPLCは、粗クライゼン生成物が、ケト、ZおよびEエノール互変異性体、4−(トリフルオロメチル)安息香酸メチルおよび4−(トリフルオロメチル)安息香酸の混合物を含むことを示した。溶媒を蒸留によりメタノール(350mL)と交換し、6Mの硫酸(180mL)を加え、混合物を5時間還流した。HPLCは、混合物が、44.4gの生成物(全収率82%)、4−(トリフルオロメチル)安息香酸メチルおよび4−(トリフルオロメチル)安息香酸を含むことを示した。水(180mL)を加え、混合物を蒸留しておよそ450mLにし、10℃に冷却して生成物を結晶化させた。固体を濾過し、水(100mL)で洗浄し、吸引乾燥して粗生成物を得た。粗生成物をMTBE(300mL)中に取り、5%の炭酸水素ナトリウム(100mL)および0.01%の硫酸(100mL)で洗浄した。溶媒を蒸留によりヘプタン(200mL)と交換し、−10℃に冷却して純粋な生成物を結晶化させた。純粋な生成物を淡黄色の結晶として単離した(33.8g、収率61%、m.p.52℃)。H NMR(CDCl):8.07(d,J=8.2Hz,2H),7.76(d,J=8.3Hz,2H),4.72(s,2H),3.53(s,3H)。
(実施例9:式XIIの化合物(Y=4−クロロフェニル基)からの式XIの化合物の調製)
Figure 2005526826
式XIIの化合物(300g)および1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン(214g)の1500mLのトルエン中の溶液に、塩化4−クロロベンゼンスルホニル(345g)の1500mLのトルエン中の溶液を、−5〜−15℃の間の温度で1時間かけて加えた。反応混合物を−5〜−15℃で1時間撹拌し、水(1500mL)でクエンチした。二相混合物をr.t.で2時間撹拌し、静置し、水層を分離した。有機層を0.5Mの硫酸(1500mL)で、その後飽和炭酸水素ナトリウム(1500mL)で洗浄した。粗生成物を減圧濃縮により単離した。粗材料は、以下の工程に直接用いられ得る。あるいは、それはトルエン/ヘプタンから再結晶され得る。純粋な生成物を淡黄色の結晶(508.5g、収率94%、m.p.:88.9℃)として単離した。H NMR(CDCl):7.73(m,2H),7.56(d,J=8.3Hz,2H),7.39(m,4H),5.64(dd,J=7.3Hz,J=4.2Hz,1H),3.73(dd,J=11.1Hz,J=7.4Hz,1H),3.60(dd,J=11.1Hz,J=4.3Hz,1H),3.31(s,3H)。
(実施例10:式XIIの化合物からの式XIの化合物(Y=4−メチルフェニル基)の調製)
この化合物を実施例9と類似の手順に従って調製した。再結晶(淡黄色の固体)後の収率:92%。H NMR(CDCl):7.64(d,J=8.3Hz,2H),7.50(d,J=8.2Hz,2H),7.33(d,J=8.1Hz,2H),7.19(d,J=8.2Hz,2H),5.60(dd,J=6.9Hz,J=4.6Hz,1H),3.73(dd,J=11.0Hz,J=7.0Hz,1H),3.60(dd,J=11.0Hz,J=4.6Hz,1H),3.32(s,3H),2.39(s,3H)。
(実施例11:式XIIの化合物からの式XIの化合物(Y=Me)の調製)
この化合物を上述のB.M.Baroudyらと類似の手順に従って調製した。H NMR(CDCl):7.69(d,J=8.2Hz,2H),7.55(d,J=8.1Hz,2H),5.76(dd,J=8.2Hz,J=3.5Hz,1H),3.77(dd,J=11.1Hz,J=8.2Hz,1H),3.64(dd,J=11.1Hz,J=3.5Hz,1H),3.45(s,3H),3.04(s,3H)。
(実施例12:式XIの化合物(Y=4−クロロフェニル基)からの式XIVの化合物(G=OBn)の調製(立体選択的アルキル化))
Figure 2005526826
式XIの化合物(Y=4−クロロフェニル基、20.0g、S/R比:96.4/3.6)および式Xの化合物(G=OBn、16.6g)を、極微粉炭酸カリウム(14.0g)を含むトルエン(40mL)とアセトニトリル(40mL)との混合物に混合した。このスラリーを80〜85℃で30時間温め、冷却した。固体を濾過し、濾液を濃縮した。濃縮物のHPLCは、18.7gの生成物の存在を示した(収率85%、RS/SS比:95.9/4.1)。生成物をHCl塩として単離し得る。H NMR(DMSO−d):11.90,11.51(split brs,1H),8.07(brs,1H),8.01(brd,J=6.6Hz,1H),7.86(brd,J=7.4Hz,2H),7.37(brm,5H),5.29,4.69(split brs,1H),5.11(split brm,2H),3.00〜4.30(brm,7H),3.30(s,3H),1.44、1.36(split brs,3H)。
(実施例13:有機塩基を用いた式XIの化合物(Y=4−クロロフェニル基)からの式XIVの化合物(G=OBn)の調製(比較例))
有機塩基、ジイソプロピルエチルアミンを用いたことを除き、手順は実施例12と本質的に同じものである。収率:58.3%で、ジアステレオマー比(RS/SS)は82.7/17.3であり、実施例12のプロセス(無機塩基)と比べて本プロセス(有機塩基)が劣っていることを証明した。
(実施例14〜22:式XIの化合物(Y=4−クロロフェニル基)からの式XIVの化合物(G=OBn)の調製)
実施例12と本質的に同じ手順を用いて、式XIの化合物(Y=4−クロロフェニル基、S/R比:96.4/3.6)から式XIVの化合物(G=OBn)を、異なる温度および異なる溶媒で調製した。ACN:アセトニトリル、NMP:N−メチルピロリジノン。
Figure 2005526826
(実施例23:式XIの化合物(Y=4−クロロフェニル)からの式XIVの化合物(G=OBn)の調製)
リン酸三ナトリウムを塩基として用いたことを除き、実施例12と本質的に同じ手順を用いて、式XIの化合物(Y=4−クロロフェニル、S/R比:95.8/4.2)から式XIVの化合物(G=OBn)を調製した。収率83%。ジアステレオマー比(RS/SS):95.2/4.8。
(実施例24:式XIの化合物(Y=4−クロロフェニル)からの式XIVの化合物(G=OBn)の調製)
炭酸カルシウムを塩基として用いたことを除き、実施例12と本質的に同じ手順を用いて、式XIの化合物(Y=4−クロロフェニル、S/R比:95.8/4.2)から式XIVの化合物(G=OBn)を調製した。収率48%。ジアステレオマー比(RS/SS):88.7/11.3。
(実施例25〜31:式XIの化合物からの式XIVの化合物の調製)
実施例12と同様の手順を用いて、式XIVの化合物を調製した。
Figure 2005526826
式XIVの化合物の物理的および分光データ:
G=Me(実施例25):淡褐色の油、H NMR(CDCl):7.48(m,4H),3.97(m,1H),2.95〜3.80(m,7H),3.27,3.25(split S,3H),2.42(m,1H),2.24(m,1H),2.02,1.99(split s,3H),1.08(split d,J=6.3Hz,3H)。
G=CF(実施例26):白色の固体、H NMR(CDCl):7.61(dd,J=8.3Hz,J=2.4Hz,2H),7.54(d,J=8.1Hz,2H),4.08(m,1H),3.72(m,3H),3.45(m,3H),3.36,3.35(split s,3H),3.27(m,1H),2.58(m,1H),2.42(m,1H),1.20(d,J=6.3Hz,3H)。
G=Ph(実施例27):灰味の白色の固体、H NMR(CDCl):7.55(brm,4H),7.40(brs,5H),3.62〜4.20(brm,4H),3.00〜3.62(brm,4H),3.35(brs,3H),2.45(brm,2H),1.26,1.09(split brs,3H)。
G=OEt(実施例28):淡黄色の油、H NMR(CDCl):7.52(m,4H),4.09(q,J=7.0Hz,2H),4.01(brs,1H),3.68(m,2H),3.59(brs,1H),3.38(m,1H),3.29(s,3H),3.15(m,2H),3.06(m,1H),2.42(m,1H),2.23(m,1H),1.21(t,J=6.9Hz,3H),1.11(d,J=6.1Hz,3H)。
G=Ot−Bu(実施例29):白色の固体、H NMR(CDCl):7.50(m,4H),3.95(brs,1H),3.64(m,2H),3.48(brs,1H),3.28(brs,1H),3.26(s,3H),3.10(brs,2H),3.01(m,1H),2.37(m,1H),2.18(m,1H),1.38(s,9H),1.06(d,J=6.2Hz,3H)。
(実施例32:式XIVの化合物(G=OBn)の、式VIIIの化合物へ、次いで、その酒石酸塩への変換)
Figure 2005526826
式XIVの化合物(G=OBn)(18.7g)を、6NのHCl(60mL)中、95〜100℃で1時間加熱し、冷却した。得られた混合物をトルエンで2回洗浄し、水酸化ナトリウムでpH>13に塩基性化した。この塩基性混合物をトルエンで2回抽出し、水で1回逆洗した。有機層を濃縮し、油を得た。HPLCは、12.8gの式VIIIの化合物の遊離塩基(収率99%)の存在を示した。フラッシュカラムクロマトグラフィーの後、純粋な遊離塩基(透明な油)を得た。H NMR(CDCl):7.58(s,4H),4.16(t,J=5.7Hz,1H),3.80(m,2H),3.38(s,3H),3.00(m,2H),2.78(m,1H),2.64(m,2H),2.46(m,1H),2.31(m,1H),1.73(brs,1H),1.18(d,J=6.3Hz,3H)。
D−酒石酸(7.6g)の135mLのメタノール中の溶液に、35mLのトルエン中の上記遊離塩基を55〜65℃で1時間かけて加えた。得られたスラリーを55〜65℃で1時間加熱し、ゆっくりと0℃に冷却した。固体を濾過し、イソプロパノール(70ML)で洗浄し、50〜55℃で減圧乾燥し、式VIIIの化合物の酒石酸塩を得た。白色の固体(m.p.209.7℃、17.7g、収率92%)。H NMR(DO):7.60(d,J=8.2Hz,2H),7.49(d,J=8.2Hz,2H),4.32(s,2H),4.27(t,J=5.8Hz,1H),3.84(m,2H),3.38(m,1H),3.25(dd,J=13Hz,J=3.0Hz,1H),3.20(s,3H),3.09(m,1H),2.86(m,3H),2.68(m,1H),1.21(d,J=6.5Hz,3H)。
(実施例33:塩基性条件下での式XIVの化合物(G=OEt)からの式VIIIの化合物の調製)
Figure 2005526826
式XIVの化合物(G=OEt)(16.5g)を、エタノール(50mL)中のNaOH(17g、50%溶液)と共に、還流しながら24時間加熱し、この間、さらに、NaOH(17g、50%溶液)およびエタノール(50mL)を加えた。冷却の際、水を加え、混合物を減圧下で濃縮した。得られた水性混合物をトルエンで2回抽出し、水で1回逆洗した。有機層を濃縮し、油を得た。HPLCは、12.4gの式VIIIの化合物(収率93%)の存在を示した。
(実施例34:式XVIの化合物の調製)
これは、BaroudyらのWO00/66558(2000年11月9日公開)に記載の手順に従って、以下の2工程の反応により実施した。
工程1:4−トリフルオロメチルアセトフェノン(1.88g、10mmol、Aldrich Chemical Company製(Milwaukee,Wisconsin))の乾燥THF(10mL)中の溶液を氷浴中で冷却し、固体(S)−2−メチルオキサボロリジン(0.54g、2mmol、Callery Chemical Company製(Evans City,Pennsylvania)で処理した。10分後、2Mのボラン−硫化メチル複合体(3ml、6mmol)のTHF溶液を5分間かけて滴下して加えた。30分後、薄層クロマトグラフィー(「TLC」)により、出発物質がより極性のある生成物に変換されたことが分かった。反応を約5mlのCHOHで、発泡が収まるまで注意深くクエンチし、減圧下で揮発性物質を除いた。残渣をCHClに溶かし、1NのHCl、水、10%のNaHCO溶液およびブラインで洗浄した。減圧下の濃縮により2gの黄色の粘性物質を得た。ヘキサン中の10〜20%のEtOAcを用いたフラッシュシリカゲルクロマトグラフィー(FSGC)により、所望のキラルアルコール(1.6g、84%)を無色の油として得た。TLC:R=0.6(25%EtOAc:ヘキサン中)。
工程2:工程1の生成物(1.55g、8.16mmol)の氷浴中で冷却した10mlのCHCl中の溶液に、EtN(2.3ml、16.32mmol)およびCHSOCl(0.87ml、10.6mmol)を加え、白濁の溶液を生成した。反応を水でクエンチし、有機生成物をCHClにより抽出し、水、1NのHCl、10%のNaHCO溶液およびブラインで洗浄した。減圧下の濃縮により、キラルメシラート(2.1g、96%)を淡黄色の油として得た。TLC:R=0.6(25%EtOAc:ヘキサン中)。
(実施例35:式XVIIの化合物の調製)
これも、BaroudyらのWO00/66558(2000年11月9日公開)に記載の手順に従って、調製した。市販の2(S)−メチルピペラジン(Deepwater Chemicals製)の、N−(tert−ブトキシ−カルボニルオキシ)フタルイミド(Aldrich Chemical Company製)との反応により調製されるN−BOC保護2(S)−メチルピペラジン(式XVI)(1.56g、7.8mmol)および2,2,6,6−テトラメチルピペリジン(1.34ml、8mmol)。
(実施例36:式XVの化合物の調製(KCOを塩基として用いた))
13.2kg(0.52×)の破砕した炭酸カリウムと、アセトニトリル中の19.18kg(0.76×)の式XVIIの活性化合物を含む、52.55kgの式XVIIの化合物の溶液と、アセトニトリル中の25.4kg(1.0×)の式XVIの化合物を含む、75.45kgの式XVIの化合物の溶液とを、熱電対、N吸気口および供給タンクを備えた100ガロンのガラスライニング反応器に入れた。80リットル(3.15×)の乾燥アセトニトリルを入れて、全体のバッチ容積が約200リットル(8.0×)になるよう調整した。撹拌しながら、このスラリーを80〜90℃の間の温度に約30分間加熱した。バッチをこの温度範囲で、約16時間撹拌した。温度を約20〜30℃に調整した。バッチを分析のためサンプル採取した。HPLCにより、式XVIの化合物が最高で5.0%残った場合、バッチは完全であると考えた。51L(2.0×)の水を徐々に加えて、反応をクエンチした。混合物を約15分間撹拌し、バッチを静置させた。下側の水層を分離した。上側の有機層を減圧下で濃縮し、70℃より低い温度で51リットル(2.0×)のバッチ容積を提供した。温度を約20〜30℃に調整した。168リットル(6.6×)のトルエンおよび99リットル(3.9×)の水をバッチに入れた。混合物を約15分間撹拌し、バッチを静置した。上側の有機層を80℃より低い温度で減圧下で濃縮し、約51リットル(2.0×)の容積を提供した。温度を約20〜30℃に調整し、式XVIの化合物から、式XVの化合物を全収率81%で、トルエン中の溶液として、ジアステレオマー比(dr)S,S/R,Sを95.6/4.4で提供した。
(実施例37:式XVの化合物の調製(NaHCOを塩基として用いた))
3.13g(0.63×)の炭酸水素ナトリウムと、3.73g(0.75×)の式XVIIの活性化合物を含む4.67gの油と、5.0g(1.0×)の式XVIの化合物を含む5.21gの油と、30mL(6.0×)の乾燥アセトニトリルとを、温度計および還流凝縮器を備えた125mLの3首丸底フラスコに入れた。撹拌しながら、このスラリーを90〜95℃の間の温度に30分間加熱した。バッチをこの温度範囲で、約19時間撹拌した。温度を約20〜30℃に調整した。バッチを分析のためサンプル採取した。HPLCにより、式XVIの化合物が最高で5.0%残った場合、バッチは完全であると考えた。スラリーを濾過し、式XVIの化合物から、式XVの化合物を全収率83%で、アセトニトリル中の溶液として、dr S,S/R,Sを94.8/5.2で提供した。
(実施例38:式XVの化合物の調製(NaCOを塩基として用いた))
1.54g(0.51×)の炭酸水素ナトリウムと、2.24g(0.75×)の式XVIIの化合物を含む2.87gの油と、3.0g(1.0×)の式XVIの化合物を含む3.07gの油と、15mL(5.0×)の乾燥アセトニトリルとを、温度計および還流凝縮器を備えた125mLの3首丸底フラスコに入れた。撹拌しながら、このスラリーを95〜100℃の間の温度に20分間加熱した。バッチをこの温度範囲で、約24時間撹拌した。温度を約20〜30℃に調整した。バッチを分析のためサンプル採取した。HPLCにより、式XVIの化合物が最高で5.0%残った場合、バッチは完全であると考えた。スラリーを濾過し、式XVIIの化合物から、式XVの化合物を全収率83%で、アセトニトリル中の溶液として、dr S,S/R,Sを95.5/4.5で提供した。
(実施例39:式XVの化合物の調製(NaHCOを塩基として用いた))
3.1g(0.64×)の炭酸水素ナトリウムと、4.11g(0.84×)の式XVIIの活性化合物を含む5.13gの油と、4.88g(1.0×)の式XVIの化合物を含む5.0gの油と、30mL(6.2×)の乾燥アセトニトリルとを、温度計および還流凝縮器を備えた125mLの3首丸底フラスコに入れた。撹拌しながら、このスラリーを90〜95℃の間の温度に20分間加熱した。バッチをこの温度範囲で、約8時間撹拌した。温度を約20〜30℃に調整した。バッチを分析のためサンプル採取した。HPLCにより、式XVIの化合物が最高で5.0%残った場合、バッチは完全であると考えた。スラリーを濾過し、式XVIの化合物から、式XVの化合物を全収率86%で、アセトニトリル中の溶液として、dr S,S/R,Sを94.0/6.0で提供した。
(実施例40:式XVの化合物の調製(KCOを塩基として用いた))
10.31g(0.52×)の粉末炭酸カリウムと、14.93g(0.75×)の式XVIIの活性化合物を含む18.69gの油と、70ml(3.5×)の乾燥アセトニトリルとを、温度計および還流凝縮器を備えた500mLの3首丸底フラスコに入れた。撹拌しながら、このスラリーを90〜95℃の間の温度に20分間加熱した。バッチ温度を90〜95℃の範囲に保ちながら、乾燥アセトニトリルに全体の容積が50mL(2.5×)になるよう溶かした20.0g(1.0×)の式XVIの活性化合物を含む20.49gの油の溶液を、ゆっくりと、5時間かけて入れた。添加完了後、バッチをこの温度範囲で、さらに14時間撹拌した。温度を約20〜30℃に調整した。バッチを分析のためサンプル採取した。HPLCにより、式XVIの化合物が最高で5.0%残った場合、バッチは完全であると考えた。スラリーを濾過し、式XVIの化合物から、式XVの化合物を全収率82%で、アセトニトリル中の溶液として、dr S,S/R,Sを94.7/5.3で提供した。
(実施例41:式XVの化合物の調製(有機塩基を用いた))
1.00g(0.75×)の式XVIIの活性化合物を含む1.13gの油と、1.34g(1.0×)の式XVIの活性化合物を含む1.38gのXIV油と、0.88ml(0.66×、1.3モル当量)の2,6ジメチルピペリジンと、5mL(3.7×)の乾燥アセトニトリルとを、温度計および還流凝縮器を備えた50mLの3首丸底フラスコに入れた。撹拌しながら、このスラリーを90〜95℃の間の温度に20分間加熱した。バッチをこの温度範囲で、約8時間撹拌した。温度を約20〜30℃に調整した。バッチを分析のためサンプル採取した。HPLCにより、式XVIの化合物が最高で5.0%残った場合、バッチは完全であると考えた。このプロセスでは、式XVIの化合物から、式XVの化合物を全収率76.5%で、アセトニトリル中の溶液として、dr S,S/R,Sを82.6/17.4で提供した。
(実施例42:式XVの化合物の調製(有機塩基を用いた))
1.00g(0.75×)の式XVIIの活性化合物を含む1.13gの油と、1.34g(1.0×)の式XVIの活性化合物を含む1.38gの油と、1.13ml(0.84×、1.3モル当量)のN,N−ジイソプロピルエチルアミンと、5mL(3.7×)の乾燥アセトニトリルとを、温度計および還流凝縮器を備えた50mLの3首丸底フラスコに入れた。撹拌しながら、このスラリーを90〜95℃の間の温度に20分間加熱した。バッチをこの温度範囲で、約8時間撹拌した。温度を約20〜30℃に調整した。バッチを分析のためサンプル採取した。HPLCにより、式XVIの化合物が最高で5.0%残った場合、バッチは完全であると考えた。このプロセスでは、式XVIの化合物から、式XVの化合物を全収率60.5%で、アセトニトリル中の溶液として、dr S,S/R,Sを78.5/21.5で提供した。
(実施例43:式XVの化合物の調製(有機塩基を用いた))
1.00g(0.75×)の式XVIIの活性化合物を含む1.13gの油と、1.34g(1.0×)の式XVIの活性化合物を含む1.38gの油と、1.13ml(0.84×、1.6モル当量)のトリエチルアミンと、5mL(3.7×)の乾燥アセトニトリルとを、温度計および還流凝縮器を備えた50mLの3首丸底フラスコに入れた。撹拌しながら、このスラリーを90〜95℃の間の温度に20分間加熱した。バッチをこの温度範囲で、約8時間撹拌した。温度を約20〜30℃に調整した。バッチを分析のためサンプル採取した。HPLCにより、式XVIの化合物が最高で5.0%残った場合、バッチは完全であると考えた。このプロセスでは、式XVIの化合物から、式XVの化合物を全集率60.5%で、アセトニトリル中の溶液として、dr S,S/R,Sを78.8/21.2で提供した。
(実施例44:式XVの化合物の、式VIIIの化合物(X=CFおよびZ=Me)への変換(有機塩基を用いた))
トルエン中の前工程からの式XVの化合物(114.52g、0.308モル)の溶液(全容積760ml、6.6×)を、機械的撹拌器を備えた2リットルの3首丸底フラスコに入れた。撹拌しながら、溶液を0〜10℃の間の内部温度に冷却した。内部温度を15℃より低く保ちながら、濃塩酸(230ml、2.74モル、8.9当量)の溶液を、ゆっくりと、約30分かけて入れた。添加完了後、バッチを20〜25℃の間の温度に上げ、HPLCにより出発物質が残らなくなるまで、約1.5時間撹拌した。2相溶液を約10分間静置し、相を分離した。下側の水層を含むバッチを反応器に戻し、撹拌しながら、0〜5℃の間の温度に冷却した。290ml(2.5×)の25%w/vNaOH水溶液を、ゆっくりと、約1時間かけて加えて、溶液のpHを>12.0に調整した。水性のスラリーを250ml(2.2×)のトルエンで2回抽出した。有機層を合わせて、減圧下で蒸留して、低容積にした。さらに300ml(2.6×)のトルエンを加え、溶液を再び減圧下で濃縮して、低容積にした。式VIIIの化合物(ここで、X=CFおよびZ=メチル)を得た(85.2g、内部基準により101.6%)。これは、例えば、上記の実施例32に例示するように、酒石酸塩のような所望の塩に変換され得る。
以上に述べたように、当業者には、材料、方法および反応条件の両方についての、本開示に対する多数の改変、変形および入替えが実施され得ることは明らかである。さらに、本発明のプロセスにおける様々な工程は、本明細書において、ある立体化学について説明したが、当業者には、ピペラジンおよびアルキル化剤の配置を入替えた場合にもそのプロセスがなお機能することは明らかである。このような全ての改変、変形および入替えは、本発明の精神および範囲内にあることが意図される。

Claims (42)

  1. 以下の式VIIIの化合物を調製するためのプロセスであって、
    Figure 2005526826
    ここで、Xは芳香環上の置換基であり、nは1〜5の範囲の、同一または異なり得るX部分の個数を示す整数であり、各Xは、アルキル基、ハロゲン基、ハロゲン化されたアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基およびヘテロアリール基からなる群より独立して選択され、Zは、アルキル基、アルコキシアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロアリールアルキル基およびアリールアルキル基からなる群より選択される;
    このプロセスは、以下:
    (a)溶媒中、無機塩基の存在下で、式IXの化合物:
    Figure 2005526826
    ここで、X、nおよびZは上に定義したものであり、Yは、アルキル基、ハロゲン化されたアルキル基、およびアルキル基、ニトロ基またはハロゲン基で必要に応じて置換したアリール基であるアリール基からなる群より選択される;
    を式Xの化合物:
    Figure 2005526826
    ここで、Gは、アルキル基、ハロゲン化されたアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基およびアリールアルコキシ基からなる群より選択される;
    と反応させ、以下の式の化合物:
    Figure 2005526826
    を得る工程、および
    (b)酸または塩基の処理により、−CO−G基を取除き、該式VIIIの化合物を得る工程、
    を包含し、
    さらに該プロセスが、該式VIIIの化合物を少なくとも収率50%で、R,S立体化学:S,S立体化学の比がそれぞれ少なくとも約2:1である、プロセス。
  2. 請求項1のプロセスであって、前記立体化学の比が少なくとも約3:1である、プロセス。
  3. 請求項2のプロセスであって、前記nが1である、プロセス。
  4. 請求項2のプロセスであって、前記Xがアルキル基またはハロゲン化されたアルキル基である、プロセス。
  5. 請求項4のプロセスであって、前記Xが−CFである、プロセス。
  6. 請求項2のプロセスであって、前記Zが、アルキル基、アルコキシアルキル基およびアリールオキシアルキル基からなる群より選択される、プロセス。
  7. 請求項6のプロセスであって、前記Zがアルキル基である、プロセス。
  8. 請求項7のプロセスであって、前記Zがメチル基である、プロセス。
  9. 請求項6のプロセスであって、前記Zがアルコキシアルキル基である、プロセス。
  10. 請求項9のプロセスであって、前記Zが−CHO−メチルである、プロセス。
  11. 請求項1のプロセスであって、前記Yが、メチル基、トリフルオロメチル基、ノナフルオロブチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、フェニル基、トリル基、4−ニトロフェニル基、4−ブロモフェニル基および4−クロロフェニル基からなる群より選択される、プロセス。
  12. 請求項11のプロセスであって、前記Yがメチル基または4−クロロフェニル基である、プロセス。
  13. 請求項1のプロセスであって、前記Gが、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基、エトキシ基、t−ブトキシ基およびベンジルオキシ基からなる群より選択される、プロセス。
  14. 請求項13のプロセスであって、前記Gが、エトキシ基、t−ブトキシ基またはベンジルオキシ基である、プロセス。
  15. 請求項1のプロセスであって、前記溶媒が、炭化水素、ニトリル、アミド、スルホキシド、ケトン、エステル、エーテルおよびそれらの混合物からなる群より選択される、プロセス。
  16. 請求項15のプロセスであって、前記溶媒が、炭化水素、アミド、ニトリルまたはそれらの混合物である、プロセス。
  17. 請求項16のプロセスであって、前記溶媒がアセトニトリルである、プロセス。
  18. 請求項16のプロセスであって、前記炭化水素がトルエンまたはキシレンである、プロセス。
  19. 請求項16のプロセスであって、前記溶媒が、トルエンおよび/またはN−メチルピロリジノンの混合物である、プロセス。
  20. 請求項16のプロセスであって、前記溶媒が、トルエンおよびアセトニトリルの混合物である、プロセス。
  21. 請求項1のプロセスであって、前記無機触媒が、炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩、ホウ酸塩、亜硫酸塩およびそれらの混合物からなる群より選択される、プロセス。
  22. 請求項21のプロセスであって、前記触媒が、KCO、NaHCO、NaPO、CaCOおよびKSOからなる群より選択される、プロセス。
  23. 請求項1のプロセスであって、前記反応が、約室温〜約130℃の温度範囲で実施される、プロセス。
  24. 請求項1のプロセスであって、前記反応が、約30分〜約50時間で実施される、プロセス。
  25. 以下の式XIVの化合物を調製するためのプロセスであって、
    Figure 2005526826
    ここで、Gは、アルキル基、ハロゲン化されたアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基およびアリールアルコキシ基からなる群より選択される;
    このプロセスは、式XIの化合物:
    Figure 2005526826
    ここで、Yは、アルキル基、ハロゲン化されたアルキル基、またはアルキル基、ニトロ基またはハロゲン基で必要に応じて置換したアリール基であるアリール基からなる群より選択される;
    を式Xの化合物:
    Figure 2005526826
    と、溶媒中、無機触媒の存在下で反応させる工程により、
    該式XIVの化合物が少なくとも収率50%で、R,S立体化学:S,S立体化学の比がそれぞれ少なくとも約2:1である、プロセス。
  26. 請求項25のプロセスであって、前記Yが、メチル基、トリル基または4−クロロフェニル基であり、前記Gが、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基、エトキシ基、t−ブトキシ基およびベンジルオキシ基からなる群より選択される、プロセス。
  27. 請求項25のプロセスであって、前記溶媒が、炭化水素、ニトリルまたはそれらの混合物であり、前記触媒が、炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸塩、亜硫酸塩およびそれらの混合物からなる群より選択され、前記立体化学の比が少なくとも約3:1である、プロセス。
  28. 請求項27のプロセスであって、前記溶媒が、トルエンおよびアセトニトリルの混合物であり、前記触媒が、KCO、NaHCO、NaPO、CaCOおよびKSOからなる群より選択される、プロセス。
  29. 請求項25のプロセスであって、前記式XIVの化合物が、さらに酸と反応して、以下の式の化合物を生成する、プロセス。
    Figure 2005526826
  30. モノ−4−保護化2−メチルピペラジンをそれに対応する2−メチルピペラジンから選択的に調製するためのプロセスであって、該プロセスが、該2−メチルピペラジンを約1モルの保護剤と、溶媒中、酸触媒または塩基触媒の存在下で反応させる工程を包含する、プロセス。
  31. 請求項30のプロセスであって、前記モノ−4−保護化2−メチルピペラジンが、少なくとも約80モルパーセント形成する、プロセス。
  32. 請求項31のプロセスであって、前記触媒が塩基であり、前記溶媒が有機溶媒であり、前記保護剤がエステルである、プロセス。
  33. 請求項32のプロセスであって、前記塩基触媒が、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンおよびDABCOからなる群より選択される、プロセス。
  34. 請求項32のプロセスであって、前記触媒が酸触媒であり、前記溶媒が、水、アルコール、エーテルおよびそれらの混合物からなる群より選択され、前記保護剤が酸ハロゲン化物、ハロカルボニルオキシアルキルまたは酸無水物である、プロセス。
  35. 請求項34のプロセスであって、前記酸触媒が、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、シュウ酸およびクエン酸からなる群より選択される、プロセス。
  36. 請求項35のプロセスであって、前記溶媒が、水、アルコール、エーテルおよびそれらの混合物からなる群より選択される、プロセス。
  37. 請求項34のプロセスであって、前記保護剤が、無水酢酸、塩化ベンゾイル、クロロギ酸ベンジル、ジ−t−ブチルジカーボナート、無水安息香酸およびクロロギ酸エチルからなる群より選択される、プロセス。
  38. 以下の式の化合物。
    Figure 2005526826
  39. 請求項29のプロセスにより調製される以下の式の化合物。
    Figure 2005526826
  40. 請求項39の化合物の酒石酸塩。
  41. 以下の式の化合物。
    Figure 2005526826
  42. 4−トリフルオロメチルメトキシアセトフェノンを調製するためのプロセスであって、該プロセスは、以下:
    (a)式XIIIの化合物を式XIXの化合物と反応させ、式XXの生成物を形成する工程、および
    Figure 2005526826
    (b)該式XXの化合物を4−トリフルオロメチルメトキシアセトフェノンに加水分解する工程、
    Figure 2005526826
    を包含する、プロセス。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007099659A (ja) * 2005-10-03 2007-04-19 Toray Fine Chemicals Co Ltd ピペラジンカルボン酸エステルの製造法

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2003264365A1 (en) * 2002-09-05 2004-03-29 Toray Fine Chemicals Co, . Ltd. Process for producing oxycarbonyl-substituted piperazine derivative
JP2004143087A (ja) * 2002-10-24 2004-05-20 Central Glass Co Ltd 光学活性2−アルコキシ−1−(トリフルオロメチル置換フェニル)エタノール誘導体の製造方法
EP1868616A2 (en) * 2005-03-29 2007-12-26 The University of Maryland, Baltimore Inhibitors for extracellular signal-regulated kinase docking domains and uses therefor
CA2772080C (en) 2009-08-24 2017-05-30 Neuralstem, Inc. Synthesis of a neurostimulative piperazine
CN102241611B (zh) * 2011-05-18 2014-02-26 江阴市雪豹精细化工研究所 S(一)对甲基苯磺酰基丙酸乙酯的制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000066558A1 (en) * 1999-05-04 2000-11-09 Schering Corporation Piperazine derivatives useful as ccr5 antagonists
WO2000076984A2 (en) * 1999-05-21 2000-12-21 Biovitrum Ab Novel compounds, their use and preparation
WO2001090090A1 (en) * 2000-05-22 2001-11-29 Biovitrum Ab Inhibitors of 11-beta-hydroxy steroid dehydrogenase type 1
JP2002255943A (ja) * 2001-02-26 2002-09-11 Toray Ind Inc 高純度ピペラジン誘導体塩酸塩およびその製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5889006A (en) * 1995-02-23 1999-03-30 Schering Corporation Muscarinic antagonists
WO1999004794A1 (en) * 1997-07-25 1999-02-04 Merck & Co., Inc. Cyclic amine modulators of chemokine receptor activity
US6391865B1 (en) 1999-05-04 2002-05-21 Schering Corporation Piperazine derivatives useful as CCR5 antagonists

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000066558A1 (en) * 1999-05-04 2000-11-09 Schering Corporation Piperazine derivatives useful as ccr5 antagonists
WO2000076984A2 (en) * 1999-05-21 2000-12-21 Biovitrum Ab Novel compounds, their use and preparation
WO2001090090A1 (en) * 2000-05-22 2001-11-29 Biovitrum Ab Inhibitors of 11-beta-hydroxy steroid dehydrogenase type 1
JP2002255943A (ja) * 2001-02-26 2002-09-11 Toray Ind Inc 高純度ピペラジン誘導体塩酸塩およびその製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007099659A (ja) * 2005-10-03 2007-04-19 Toray Fine Chemicals Co Ltd ピペラジンカルボン酸エステルの製造法

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