JP4260911B2 - ピロリジノン誘導体のラセミ化方法 - Google Patents

ピロリジノン誘導体のラセミ化方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特開平7−252218、特開平7−252219、特開平7−252220、特開平9−40667号の各公報および特願平9−292225号に記載の精神分裂病、痴呆症、そううつ病、不安症、薬物中毒、虚血性脳疾患などの中枢神経系疾患、免疫異常や内分泌異常に伴う疾患、消化器系潰瘍、糖尿病およびその合併症、緑内障などの疾患に対して有用な一般式(1)で表されるピロリジノン誘導体の製造法に関する。さらに詳しくは、ラセミ体のピロリジノン誘導体を光学分割した後の不要な光学活性ピロリジノン誘導体をラセミ化させて再利用する方法を提供するものである。
【0002】
【従来の技術】
上記のピロリジノン誘導体は精神分裂病、痴呆症、そううつ病、不安症、薬物中毒、虚血性脳疾患などの中枢神経系疾患、免疫異常や内分泌異常に伴う疾患、消化器系潰瘍、糖尿病およびその合併症、緑内障などの疾患に対して有用な作用を有することが知られている。光学活性ピロリジノン誘導体の製法として、特願平9−292225号に、光学分割剤を用いてジアステレオマー塩を形成させて分割する方法が記載されている。この方法では、もう一方の不要な光学活性体を何らかの手段で再利用しなければ、収率は50%にも満たない等の問題が生じ、工業的には必ずしも満足できる方法とはいえない。しかしながら不要な光学活性ピロリジノン誘導体の再利用方法に関する先行技術はない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、前記したようにピロリジノン誘導体を光学分割剤にて分割した後の不要な光学活性ピロリジノン誘導体を、簡便かつ安価な方法でラセミ化して再利用することを課題とするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、この課題達成のために光学活性なピロリジノン誘導体のラセミ化方法について鋭意検討した結果、光学活性なピロリジノン誘導体を溶媒中、塩基で処理することによりラセミ化したピロリジノン誘導体が得られることを見いだし、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は
[1] 一般式(1)[化9]
【0005】
【化9】
Figure 0004260911
[式中、*はRまたはSを示し、Rは炭素数1〜12のアルキル基または一般式(2)[化10]
【0006】
【化10】
Figure 0004260911
(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数1〜4のパーフルオロアルキル基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、カルバモイル基、チオール基、炭素数1〜4のアルキルチオ基またはカルボキシ基を表す。pは1〜5の整数を示す。ただし、pが2以上のときRは互いに同一であっても異なっていてもよい。jは0〜2の整数を表す。)で示される置換基を表し、Qは一般式(3a)〜(3d)[化11]
【0007】
【化11】
Figure 0004260911
【0008】
(式(3a)中、RおよびRはそれぞれ独立して水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表し、RとRが結合してモルホリン環を形成してもよい。
【0009】
式(3b)中、mおよびnはそれぞれ独立に1〜4の整数を表し、Xは水素原子、ヒドロキシ基、シアノ基、カルバモイル基、ハロゲン原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し、Yは水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のパーフルオロアルキル基、置換もしくは無置換フェニル基を表す。
【0010】
式(3c)中、Wは炭素数1〜4のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のフェニル基が置換した炭素数1〜2のアルキル基を表す。
式(3d)中、mおよびnはそれぞれ独立に1〜4の整数を表す。Zは水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のフェニル基が置換した炭素数1〜2のアルキル基、または一般式(4)[化12]
【0011】
【化12】
Figure 0004260911
(式中、kは2〜3の整数を表し、Rは水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数2〜3のアルケニル基または炭素数2〜3のアルキニル基を表す。))]で表される光学活性なピロリジノン誘導体を溶媒中、塩基で処理してラセミ化させる方法。
【0012】
[2] 一般式(1)において、Rが一般式(2)[化13]
【0013】
【化13】
Figure 0004260911
[式中、Rは水素原子、ハロゲン原子を表し、pは1〜5の整数を示す。ただし、pが2以上のときRは互いに同一であっても異なっていてもよい。jが0であり、Qが一般式(5)[化14]
【0014】
【化14】
Figure 0004260911
(式中、mおよびnはそれぞれ独立して2〜3の整数を表し、kは2〜3の整数を表し、Rは水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数2〜3のアルケニル基または炭素数2〜3のアルキニル基を表す。)]で表される光学活性なピロリジノン誘導体を溶媒中、塩基で処理してラセミ化させる[1]に記載の方法。
【0015】
[3] 一般式(1)において、Rが4−クロロフェニル基であり、Qが一般式(6)[化15]
【0016】
【化15】
Figure 0004260911
(式中、Rは炭素数1〜3のアルキル基を表す。)で表される光学活性なピロリジノン誘導体を溶媒中、塩基で処理してラセミ化させる[1]に記載の方法。
【0017】
[4] 一般式(1)において、Rが4−クロロフェニル基であり、Qが一般式(6)においてRがメチル基で表される光学活性なピロリジノン誘導体を溶媒中、塩基で処理してラセミ化させる[1]に記載の方法。
【0018】
[5] 溶媒として水、アルコール類、エーテル類またはエステル類を単独または混合して使用し、塩基として一般式(7)[化16]
【0019】
【化16】
Figure 0004260911
(式中、Mはアルカリ金属を示し、Rは水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示す。)で処理してラセミ化させる[1]に記載の方法。
【0020】
【発明の実施の形態】
次に本発明についてさらに詳細に説明する。
炭素数1〜3のアルキル基とは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基を示し、
炭素数1〜4のアルキル基とは、上記の他にn−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基等を示し、
炭素数1〜12のアルキル基とは、上記の他にアミル基、イソアミル基、tert−アミル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等を示し、
【0021】
炭素数1〜18のアルキル基とは、上記の他にトリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基等を示し、炭素数2〜3のアルケニル基とは、ビニル基、アリル基、1−プロペニル基、イソプロペニル基等を示し、
炭素数2〜3のアルキニル基とは、エチニル基、1−プロピニル基、2−プロピニル基等を示し、
【0022】
ハロゲン原子とは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を示し、
炭素数1〜4のアルコキシ基とは、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等を示し、
炭素数1〜4のパーフルオロアルキル基とは、トリフルオルメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等を示し、炭素数1〜4のアルキルチオ基とは、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基等を示し、
【0023】
置換フェニル基とは、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数1〜4のパーフルオロアルキル基等が置換したフェニル基を示し、
フェニル基が置換した炭素数1〜2のアルキル基とは、ベンジル基、フェネチル基等を示し、
アルカリ金属とはリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウムまたはセシウムを示す。
【0024】
反応に用いる塩基としては、リチウム、ナトリウムまたはカリウム等のアルカリ金属類、水素化ナトリウムまたは水素化カリウム等のアルカリ金属の水素化物類、ナトリウムアミドまたはカリウムアミド等のアルカリ金属アミド類、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキシドまたはカリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属のアルコキシド類、
【0025】
水酸化ナトリウム、水酸化カリウムまたは水酸化リチウム等のアルカリ金属の水酸化物類、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩類、水酸化カルシウムまたは水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物類、ピロリジン、ピペラジン、ピペリジンまたはモルホリン等の環状構造をもつ2級アミン類、
ジエチルアミン、ジプロピルアミンまたはジブチルアミン等のアルキル基が置換した2級アミン類、
トリエチルアミン、トリプロピルアミンまたはトリブチルアミン等のアルキル基が置換した3級アミン類、
【0026】
ピリジンまたはキノリン等の複素環状化合物類、
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセンまたは1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン等の橋かけ環状構造をもつアミン類、
ブチルリチウムもしくはフェニルリチウム等のアルキルまたはアリール金属化物等、アニリン、メチルアニリンもしくはジメチルアニリン等のアニリン誘導体類、またはアンモニア等が挙げられる。
【0027】
塩基の使用量はモル比で0.001〜100であり、好ましくは0.1〜10である。
反応に使用する溶媒としては水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
n−ヘキサン、石油エーテル、リグロイン等の脂肪族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等の含ハロゲン炭化水素類、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸メチル、蟻酸エチル等のエステル類またはアセトニトリル等が挙げられ、単独または混合して使用してもよい。
【0028】
反応温度は特に限定しないが−10℃〜用いた溶媒の沸点がよい。
反応時間は特に限定しないが、好ましくは0.1〜48時間である。
上記反応後の処理方法は例えば、カラムクロマトグラフィー、再結晶など通常の精製方法が利用できる。
ラセミ化した後、ピロリジノン誘導体を単離することなく反応液にそのまま、あるいは適当な後処理をした後に、分割剤を作用させて分割塩として取り出すこともできる。
【0029】
【実施例】
以下に、本発明の化合物の製造例を記載するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
参考例1 1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンの製造
(1) 1−(4−クロロフェニル)−2−ピロリジノンの合成
p−クロロアニリン372gとγ−ブチロラクトン251gを混合し、塩酸75mlを加えた。徐々に加温し、内温110〜115℃で9時間還流した。さらに還流液を除きながら内温を徐々に上げ、140℃で8時間反応し、還流液(約80ml)を留出させた。
【0030】
内温を70℃まで冷却後、酢酸エチル2000mlに溶かし、水、炭酸ナトリウム水溶液、水の順にて洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、約1000mlまで濃縮して析出晶を濾取した。濾液をさらに約200mlまで濃縮し、析出晶を先のものと合わせ酢酸エチルで洗浄した。これを減圧乾燥し、目的物347gを得た。
1H NMR(CDCl3,δppm):2.17(2H,quintet),2.61(2H,t),3.83(2H,t),7.32(2H,d),7.58(2H,d)
【0031】
(2) 1−(4−クロロフェニル)−3−ヒドロキシメチル−2−ピロリジノンの合成
水素化ナトリウム(60%油性)25.0gのテトラヒドロフラン(100ml)懸濁液に炭酸ジメチル28.2gを加え、還流下に1−(4−クロロフェニル)−2−ピロリジノン52.0gのテトラヒドロフラン(150ml)溶液を約1.5時間かけて滴下した。4.5時間還流した後、冷却し、氷水中に注意深くあけた。希塩酸で弱アルカリ性とし、酢酸エチル300mlで抽出した。有機層を水、重曹水、水の順にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮して油状物を得た。n−ヘキサン200mlを加えて析出した結晶を濾取した。
【0032】
次にn−ヘキサンで洗浄し、減圧乾燥して1−(4−クロロフェニル)−3−メトキシカルボニル−2−ピロリジノン56.9gを得た。次に1−(4−クロロフェニル)−3−メトキシカルボニル−2−ピロリジノン28.4gおよび無水塩化カルシウム15gのメタノール(150ml)溶液に、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム3.9gを室温で分割装入した。反応終了後、濃縮し、水と酢酸エチルを加え、希塩酸で酸性にした。分液して得た有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
【0033】
濃縮後、n−ヘキサン−ジエチルエーテルにて結晶化させた。結晶を濾取後、n−ヘキサンとジエチルエーテルの混合溶媒で洗浄し、減圧乾燥して目的物22gを得た。
1H NMR(CDCl3,δppm):1.94−2.09(1H,m),2.23−2.35(1H,m),2.83−2.94(1H,m),2.99(1H,bs),3.75−3.89(3H,m),3.94−4.00(1H,m),7.33(2H,dd),7.59(2H,dd)
【0034】
(3) 1−(4−クロロフェニル)−3−メシルオキシメチル−2−ピロリジノンの合成
1−(4−クロロフェニル)−3−ヒドロキシメチル−2−ピロリジノン23.2gおよびトリエチルアミン12.5gのジクロロメタン(200ml)溶液に、氷冷下、メタンスルホニルクロリド14.0gを滴下した。室温で2時間反応後、水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶液を濃縮して結晶化させ、ジエチルエーテルにてスラッジした。濾取後さらにジエチルエーテルで洗浄し、減圧乾燥して目的物29.8gを得た。
1H NMR(CDCl3,δppm):2.16−2.50(2H,m),2.87−3.18(4H,m),3.77−3.87(2H,m),4.43−4.67(2H,m),7.34(2H,d),7.58(2H,d)
【0035】
(4) 1−ホルミル−4−(2−メトキシエチル)ピペラジンの合成
N−ホルミルピペラジン37.1gおよび無水炭酸ナトリウム37.1gのメタノール(50ml)溶液に、メトキシエチルブロミド53.15gを滴下し、3.5時間還流した。室温まで冷却後、不溶物を濾去し、濾液を濃縮した。濾液に水、クロロホルムを加えて分液し有機層を得た。水層をクロロホルムで抽出し、先の有機層と合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮して目的物57.2gを得た。
1H NMR(CDCl3,δppm):2.45−2.54(4H,m),2.59−2.63(2H,m),3.35−3.43(2H,m),3.36(3H,s),3.50−3.61(4H,m),8.02(1H,s)
【0036】
(5) 1−(2−メトキシエチル)ピペラジン二塩酸塩の合成
1−ホルミル−4−メトキシエチルピペラジン57.2gのメタノール(100ml)溶液に、4N−塩酸/1,4−ジオキサン180mlを1.5時間かけて滴下した。室温で1時間攪拌後結晶を濾取し、イソプロピルエーテルで洗浄、減圧乾燥して、目的物68.8gを得た。
【0037】
(6) 1−(2−メトキシエチル)ピペラジンの合成
1−メトキシエチルピペラジン二塩酸塩68.8gの水溶液(50ml)に、水酸化ナトリウム33.0gの水溶液(100ml)を氷冷しつつ滴下した。30分間攪拌後、クロロホルムで抽出、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、溶媒を溜去して目的物41.3gを得た。
1H NMR(CDCl3,δppm):1.80(1H,s),2.47−2.60(6H,m),2.90−2.94(4H,m),3.36(3H,s),3.52(2H,t)
【0038】
(7) 1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンの合成
1−(4−クロロフェニル)−3−メシルオキシメチル−2−ピロリジノン18.5gおよび1−(2−メトキシエチル)ピペラジン17.6gのアセトニトリル(50ml)溶液にトリエチルアミン8.0gを加え、4時間加熱還流した。反応混合物を濃縮後、水を加えて析出した結晶を濾取し、減圧乾燥して目的物18.5gを得た。
融点:103〜105℃
1H NMR(CDCl3,δppm):2.01−2.12(1H,m),2.29−2.62(12H,m),2.78−2.94(2H,m),3.35(3H,s),3.51(2H,t),3.74−3.80(2H,m),7.32(2H,d),7.59(2H,d)
【0039】
参考例2 (R)−1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノン(R)−(−)−マンデル酸塩の製造
40℃前後に加温した1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノン66.6gの酢酸エチル(350ml)溶液に、約40℃に加温したした(R)−(−)−マンデル酸27.9gの酢酸エチル(120ml)溶液を加えた。室温に冷却後析出した結晶を濾取して酢酸エチルで洗浄し、減圧乾燥して目的物36.4gを得た。
融点:137〜138℃
鏡像異性体過剰率 99%ee(HPLC面積比より算出)
【0040】
なお鏡像異性体過剰率は、キラルカラムを用いた液体クロマトグラフィーによりピーク面積から算出した。以下も同様である。
1H NMR(DMSO,δppm):1.83−1.97(1H,m),2.19−2.97(14H,m),3.23(3H,s),3.41−3.48(2H,m),3.70−3.81(2H,m),4.94(1H,s),7.21−7.38(5H,m),7.41(2H,d),7.69(2H,d)
【0041】
参考例3 1−(4−クロロフェニル)−3−[4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル]メチル−2−ピロリジノンの製造
(1) 1−(4−クロロフェニル)−3−カルボキシ−2−ピロリジノンの製造
58.6gの1−(4−クロロフェニル)−3−メトキシカルボニル−2−ピロリジノンを45gのエタノールと混合した。次いで46.1gの水酸化ナトリウムを100mlの水に溶かした溶液を加え、混合した。一度完全に溶解後、多量の結晶が析出した。これに水を加え、結晶を濾別、ジエチルエーテルで洗浄した。濾液にジエチルエーテルを加えて攪拌後、水層を分液して取った。先の結晶と水層を合わせ、よく攪拌しつつ塩酸で酸性とした。結晶を濾取、水洗して1−(4−クロロフェニル)−3−カルボキシ−2−ピロリジノン51.3gを得た。
融点 170℃(分解)
1H−NMR (DMSO,δppm) 2.2−2.4(2H,m),3.61(1H,t),3.8−3.95(2H,m),7.4−7.5(2H,m),7.65−7.75(2H,m)
【0042】
(2) 1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンの製造
3.0gの1−(4−クロロフェニル)−3−カルボキシ−2−ピロリジノンと2.32gの4−(2−メトキシエチル)ピペラジンを6mlのメタノールと混合し、0.465gの80%パラホルムアルデヒドを加えた。還流下に10.5時間反応した後、室温まで冷却し、10mlのメタノールを加え、不溶物を濾別した。減圧下に濃縮、残留物に15mlの水を加えた後、析出した結晶を濾取、95%含水メタノール3mlで2回洗浄して1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノン3.42gを得た。
【0043】
融点 103−105℃
1H−NMR (CDCl3,δppm) 2.01−2.12(1H,m),2.29−2.62(12H,m),2.78−2.94(2H,m),3.35(3H,s),3.51(2H,t),3.74−3.80(2H,m),7.32(2H,d),7.59(2H,d)
【0044】
製造例1 1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンの製造
3.0gの(S)−1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンを50mlのメタノールに溶かし、1.0gの水酸化カリウムを50mlの水に溶解させた水溶液と室温で混合した。1.5時間攪拌後、還流下にさらに1.5時間攪拌した。
【0045】
減圧下にメタノールを溜去し、残留物を酢酸エチル25mlで2回抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、減圧下に濃縮した。残留物に少量のジエチルエーテルを加えて結晶化させ、スラッジング後に結晶を濾取して2.2gの1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンを得た。
融点:103〜105℃
1H NMR(CDCl3,δppm):2.01−2.12(1H,m),2.29−2.62(12H,m),2.78−2.94(2H,m),3.35(3H,s),3.51(2H,t),3.74−3.80(2H,m),7.32(2H,d),7.59(2H,d)
【0046】
製造例2 1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンの製造
1.7gの(S)−1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンを50mlのメタノールに溶かし、1.0gの水酸化ナトリウムを50mlの水に溶解させた水溶液と室温で混合した。1.5時間攪拌後、還流下にさらに1.5時間攪拌した。
減圧下にメタノールを溜去し、残留物を酢酸エチル25mlで2回抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
【0047】
乾燥剤を濾別後、減圧下に濃縮した。残留物に少量のジエチルエーテルを加えて結晶化させ、スラッジング後に結晶を濾取して1.2gの1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンを得た。
融点:103〜105℃
1H NMR(CDCl3,δppm):2.01−2.12(1H,m),2.29−2.62(12H,m),2.78−2.94(2H,m),3.35(3H,s),3.51(2H,t),3.74−3.80(2H,m),7.32(2H,d),7.59(2H,d)
【0048】
製造例3 1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンの製造
2.5gの(S)−1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンを50mlのメタノールに溶かし、0.8gの水酸化リチウムを50mlの水に溶解させた水溶液と室温で混合した。1.5時間攪拌後、還流下にさらに1.5時間攪拌した。減圧下にメタノールを溜去し、残留物を酢酸エチル25mlで2回抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、減圧下に濃縮した。
【0049】
残留物に少量のジエチルエーテルを加えて結晶化させ、スラッジング後に結晶を濾取して1.9gの1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンを得た。
融点:103〜105℃
1H NMR(CDCl3,δppm):2.01−2.12(1H,m),2.29−2.62(12H,m),2.78−2.94(2H,m),3.35(3H,s),3.51(2H,t),3.74−3.80(2H,m),7.32(2H,d),7.59(2H,d)
【0050】
製造例4 1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンの製造
3.0gの(S)−1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンを100mlのテトラヒドロフランに溶かし、0.6gのカリウムtert−ブトキシドを氷冷下に加えた。室温で1時間攪拌後、減圧下にテトラヒドロフランを溜去し、残留物を酢酸エチル50mlに溶かし、水洗した。
【0051】
有機層を取り、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、減圧下に濃縮した。残留物に少量のジエチルエーテルを加えて結晶化させ、スラッジング後に結晶を濾取して1.2gの1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンを得た。
融点:103〜105℃
1H NMR(CDCl3,δppm):2.01−2.12(1H,m),2.29−2.62(12H,m),2.78−2.94(2H,m),3.35(3H,s),3.51(2H,t),3.74−3.80(2H,m),7.32(2H,d),7.59(2H,d)
【0052】
製造例5 1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンの製造
4.3gの(S)−1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンを100mlのテトラヒドロフランに溶かし、0.5gのナトリウムメトキシドを氷冷下に加えた。室温で1時間攪拌後、減圧下にテトラヒドロフランを溜去し、残留物を酢酸エチル50mlに溶かし、水洗した。有機層を取り、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、減圧下に濃縮した。
【0053】
残留物に少量のジエチルエーテルを加えて結晶化させ、スラッジング後に結晶を濾取して3.3gの1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンを得た。
融点:103〜105℃
1H NMR(CDCl3,δppm):2.01−2.12(1H,m),2.29−2.62(12H,m),2.78−2.94(2H,m),3.35(3H,s),3.51(2H,t),3.74−3.80(2H,m),7.32(2H,d),7.59(2H,d)
【0054】
製造例6 1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンの製造
2.2gの(S)−1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンを100mlのテトラヒドロフランに溶かし、0.5gのナトリウムエトキシドを氷冷下に加えた。室温で1時間攪拌後、減圧下にテトラヒドロフランを溜去し、残留物を酢酸エチル50mlに溶かし、水洗した。有機層を取り、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、減圧下に濃縮した。
【0055】
残留物に少量のジエチルエーテルを加えて結晶化させ、スラッジング後に結晶を濾取して1.6gの1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンを得た。
融点:103〜105℃
1H NMR(CDCl3,δppm):2.01−2.12(1H,m),2.29−2.62(12H,m),2.78−2.94(2H,m),3.35(3H,s),3.51(2H,t),3.74−3.80(2H,m),7.32(2H,d),7.59(2H,d)
【0056】
製造例7 1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンの製造
2.9gの(S)−1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンを100mlのテトラヒドロフランに溶かし、0.5gのナトリウムtert−ブトキシドを氷冷下に加えた。室温で2時間攪拌後、減圧下にテトラヒドロフランを溜去し、残留物を酢酸エチル50mlに溶かし、水洗した。
【0057】
有機層を取り、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、減圧下に濃縮した。残留物に少量のジエチルエーテルを加えて結晶化させ、スラッジング後に結晶を濾取して2.1gの1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンを得た。
融点:103〜105℃
1H NMR(CDCl3,δppm):2.01−2.12(1H,m),2.29−2.62(12H,m),2.78−2.94(2H,m),3.35(3H,s),3.51(2H,t),3.74−3.80(2H,m),7.32(2H,d),7.59(2H,d)
【0058】
製造例8 (R)−1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノン(R)−(−)−マンデル酸塩の製造
10.0gの(S)−1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンを100mlのメタノールに溶かし、3.0gの水酸化ナトリウムを100mlの水に溶かした溶液を加えた。
【0059】
還流下に2時間攪拌後、減圧下にメタノールを溜去し、残留物を酢酸エチル50mlで3回抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、減圧下に約90mlの酢酸エチルを溜去した。残った酢酸エチルの溶液に3.6gの(R)−(−)−マンデル酸を加えた。1時間攪拌後、析出晶を濾取して4.1gの(R)−1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノン(R)−(−)−マンデル酸塩を得た。
【0060】
融点:137〜138℃
鏡像異性体過剰率 99%ee(HPLC面積比より算出)
なお鏡像異性体過剰率は、キラルカラムを用いた液体クロマトグラフィーによりピーク面積から算出した。以下も同様である。
1H NMR(DMSO,δppm):1.83−1.97(1H,m),2.19−2.97(14H,m),3.23(3H,s),3.41−3.48(2H,m),3.70−3.81(2H,m),4.94(1H,s),7.21−7.38(5H,m),7.41(2H,d),7.69(2H,d)
【0061】
製造例9 1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンの製造
5.0gの(S)−1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンを100mlのメタノールに溶かし、1.0gのナトリウムメトキシドを氷冷下に加えた。室温で1時間攪拌後、減圧下にメタノールを溜去し、残留物を酢酸エチル100mlに溶かし、水洗した。有機層を取り、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾別後、減圧下に濃縮した。
【0062】
残留物に少量のジエチルエーテルを加えて結晶化させ、スラッジング後に結晶を濾取して3.1gの1−(4−クロロフェニル)−3−(4−(2−メトキシエチル)ピペラジン−1−イル)メチル−2−ピロリジノンを得た。
融点:103〜105℃
1H NMR(CDCl3,δppm):2.01−2.12(1H,m),2.29−2.62(12H,m),2.78−2.94(2H,m),3.35(3H,s),3.51(2H,t),3.74−3.80(2H,m),7.32(2H,d),7.59(2H,d)
【0063】
【発明の効果】
本発明の方法によれば不要な光学活性ピロリジノン誘導体からラセミ化したピロリジノン誘導体を高収率で回収できるばかりでなく、一旦ラセミ化したピロリジノン誘導体を単離操作することなく該有機溶媒層にて、そのまま光学分割操作に付すことのできる利点もあり、工業的にも価値が高い。

Claims (3)

  1. 一般式(1)[化1]
    Figure 0004260911
    一般式(1)において、R1が4−クロロフェニル基であり、そして
    Qが一般式(6)[化2]
    Figure 0004260911
    (式中、R6は炭素数1〜3のアルキル基を表す。)で表される光学活性なピロリジノン誘導体を溶媒中、塩基で処理してラセミ化した後、ピロリジノン誘導体を単離することなく分割剤を作用させて分割塩として取り出す方法
  2. 一般式(1)において、R1が4−クロロフェニル基であり、Qが一般式(6)においてR6がメチル基で表される光学活性なピロリジノン誘導体を溶媒中、塩基で処理してラセミ化させる請求項1に記載の方法。
  3. 溶媒として水、アルコール類、エーテル類またはエステル類を単独または混合して使用し、塩基として一般式(7)[化3]
    Figure 0004260911
    (式中、Mはアルカリ金属を示し、Rは水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を示す。)で処理してラセミ化させる請求項1に記載の方法。
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