JP2005516208A - 光ビーム監視法及び監視装置 - Google Patents

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Abstract

少なくとも部分的に光ビーム中を通過してサンプル光ビームを反射する反射体と、反射されるサンプル光ビームを受光し、サンプル光ビームの特性を決定する少なくとも1つのセンサとを備える光ビーム監視装置及びその方法。反射体は、振動可能に設けられ、複数のセンサは、入射光ビームの軸に対して45度又は90度の角度に配置される。

Description

本発明は、光ビーム、特にレーザ光ビームの監視法及び監視装置に関する。
レーザは、民生レベル並びに科学、産業及び製造の多くの領域で一般的な手段となった。レーザは、極めて汎用性があり、位置調整から溶接までの幅広い分野の応用例の他に、多数の他の応用例を見ることができる。近年、益々レーザの使用が一般的となったが、広範に適用されない重大な原因は、光ビーム自体が絶えず変動する特性を有するためである。この特性により、所与の処理の信頼性及び再現性の達成を困難となる。
光ビームの特性が所与の時点で既知の場合、レーザのパラメータ又は照準(アライメント)を高速で調節して変動を補償し、安定状態を維持できる。
現状の光ビーム診断技術は、光ビームの経路内に合成樹脂の分厚い平板又は他の吸収装置を配置し、合成樹脂が燃焼し又は溶解する深さを観察することである。合成樹脂が溶解又は燃焼する深さは、その時点でのエネルギ強度の指標であり、「燃焼特性」の位置及び大きさにより、光ビーム直径、光ビーム方式、光ビーム扁平率及び光軸の位置等の付加的な情報を得ることができる。この方法は、光ビーム特性(光ビームプロファイル)の質的評価を提供する。しかしながら、合成樹脂は、一定期間光ビームを事実上遮断するため、レーザ使用中に容易に光ビームを比較して前記検査を実行することができない。また、入射レーザ光ビームと蒸気との相互作用のために、利用可能な分解能及び精度が低下する欠陥がある。前記不確定な要因のため、背景情報から有用な光ビーム情報を抜き出すことも考えられるが、極めて困難である。
光ビームをサンプリングする他の一般的な方法は、光ビーム強度を検出できる1又は2以上のセンサを光ビーム経路内に配置する方法である。光ビーム特性に関する種々の点にセンサを移動させ又は異なる点での光強度を同時に決定するセンサアレイを設けてもよい。高出力の光ビームを使用する場合には、光ビームスプリッタと共にセンサを使用できる。光ビームスプリッタは、センサに向かって一部の入射光ビームのみ偏光するプリズム又は部分反射ミラーでもよい。この方法では、センサを破壊から保護しながら光ビームを分析できる。この場合、光ビームを完全に遮断するセンサによって又はセンサ方向に指向される有用な作動出力の測定可能な百分率によって、測定過程は、作動ビームに影響を与えた。
光ビーム特性を測定する第3の既知方法は、光ビーム中に針を高速で通過させて、針から反射する光を検出するセンサを配置するものである。この方法では、光ビーム中を通る反射体の通過時間が短いので、光ビームは、狭い反射体のために僅かにかつ短期間分離するに過ぎない。通常、光ビーム縁部から離間する距離に配置された針の回転点周りに光ビーム中を通って、針の末端部が回転する。典型的には、モータにより針を回転させて、光ビーム中を通過させる前に、定常回転速度まで回転速度を増加させる。モータ、針及びセンサの組立体は、一般的に回転針が光ビームを横切る装置に取り付けられる。複数のセンサにより収集されるデータは、メモリチップ又はディスクに記憶される。データは、その後又は高速に逆コンパイルされ、光ビームの画像及び又は数値表示を形成する。
光ビーム型式、特定の用途、経済性又は他の関連する制約に従い、熱電対列(サーモパイル)、フォトダイオード又は焦電型赤外線センサ(パイロセンサ)をセンサに使用できる。通常、用途又は空間制約に応じて、センサは、光ビーム端部の周囲の適当な位置に設けられる。また、状況に応じて、反射体は、鏡体、円筒状ワイヤ、中空針又はナイフエッジでもよい。
概要を説明した前記第3の方法とは別の実施の形態では、典型的に、針反射体の代わりに光ビームを通過する小型鏡体又は導波路を組み込むこともできる。その後、光ビームを鏡体により偏向し又は導波路内に導入して、モータの中心部付近に配置されたセンサに指向させる。データを捕集した後、第3の実施の形態と同様の方法によりデータを処理する。
しかしながら、この方法によるデータ捕集は、「記憶情報集中」の傾向があり、常に多くの過剰な情報を捕集する欠点がある。また、この方法は、針速度を正しく較正すると共に、装置構造を正確に調整して、光ビーム特性を正しい表示しなければならない。更に、変動状態で読出しを行うため、針の進行方向に対して捕集データが歪むこともある。更に、一定期間以上針を加速する必要があり、かつ定常状態に到達するまで針を使用できないため、瞬時に又は要求時にこの方法を使用することができない。
また、装置の位置合わせ及び安全性に非常に重要な光ビーム経路の位置確認が困難な場合が多い。可視光ビームを使用している場合、可視光ビーム付近に煙幕又は可視気体を送風すれば、可視光ビームの軌跡に沿って明るくなる経路の所在位置を突き止めることができる。しかしながら、不可視光ビームを使用する場合、光ビームが存在すると推定される位置に光感受性材料又は絶縁薄紙等の表示材を配置しなければならない。光軸の位置は、表示材上に形成される小部分又は燃焼痕により表される。しかしながら、これは、光ビームが表示材と交差する位置をオペレータに示すに過ぎず、より有効な進入角を示すとはいえない。従って、3光軸移動ガントリ型(flying optic gantry)等の複合多軸光学装置の調整は、極めて難しく長時間を要する作業である。
本発明の目的は、レーザ光ビーム等の光ビームを監視する改良された光ビーム監視法及び改良された光ビーム監視装置を提供することである。
本発明の第1の実施の形態では、少なくとも部分的に光ビーム中を2つの反対方向に反射体を通過させて、サンプル光ビームの特性を決定するセンサに向けてサンプル光ビームを反射させる過程を含む光ビーム監視法を提供する。
本発明の第2の実施の形態では、光ビーム中を少なくとも部分的に通過させて、サンプル光ビームを反射する振動反射体と、振動反射体で反射したサンプル光ビームを受光してサンプル光ビームの特性を決定する少なくとも1つのセンサとを含む光ビーム監視装置を提供する。
本発明の第3の実施の形態では、光ビーム中に少なくとも部分的に反射体を通過させて、入射光ビームに対して実質的に45度の角度に配置されるセンサに向けてサンプル光ビームを反射させ、サンプル光ビームの特性を決定する過程を含む光ビーム監視法を提供する。
本発明による第4の実施の形態では、光ビーム中を少なくとも部分的に通過させて、サンプル光ビームを反射させる反射体と、サンプル光ビームの特性を決定するため、入射光ビームに対して実質的に45度の角度に配置され、反射体で反射されたサンプル光ビームを受光する少なくとも1つのセンサとを備える光ビーム監視装置を提供する。
実質的に剛性のある金属等の材料から光ビームより実質的に狭い反射体を形成することが好ましい。また、ワイヤ又は針によって、反射体を製造することがより好ましい。
付加的に又は別法として、反射体を反射性材料から形成してもよいが、反射被覆体を表面に有する非反射性材料から反射体を形成してもよい。反射体又は反射被覆体は、光ビームによって、著しく光損傷を受けずに、監視される光ビームの波長に対する反射性を有することが好ましい。
光ビーム中で反射体を通過させる駆動装置(アクチュエータ)上に反射体を取り付けることが好ましく、反射体をモータで駆動することが最も好ましい。
依存型又は独立型の振動手段を1又は2以上の反射体に設けてもよい。複数の反射体を設ける場合、1又は2以上のセンサに向けて各反射体でサンプル光ビームを反射して、種々の部分の光ビーム特性を決定できる。とは言っても、単一の反射体を設けて簡素化することが好ましい。
また、監視される光ビーム及び又は監視装置に対して反射体の位置を決定し又は制御する手段を監視装置に設けることが好ましい。例えば位置エンコーダ又は他の電子装置若しくは光学装置を適正に使用する適切な手段により反射体の位置を決定できる。付加的に又は別法として、予め決められた時間間隔を通じて既知の速度で反射体が第1の位置から第2の位置に移動する時間の関数として反射体の位置を決定できる。
また、反射体の位置を制御する駆動装置に反射体の位置情報を帰還させて、光ビーム及び又は監視装置に対する反射体の位置を連続的に制御することがより好ましい。
特定の光特性に感応性のある単一又は複数のセンサ手段により検知手段を構成できる。本発明に使用する好適な検知手段は、熱電対列(サーモパイル)、焦電型赤外線センサ(パイロセンサ)及びフォトダイオードを含む。
複数のセンサを対で使用して垂直方向の光ビーム特性を測定できることが好ましいが、3素子組又は4素子組のセンサ組立体を使用してもよい。付加的に又は別法として、複数組のセンサを使用して、一定範囲の複数の光ビーム特性を同時に測定してもよい。
更に、他型式の光ビームに感応性のある付加的センサを設けてもよい。付加的センサを含む装置を適用すれば、主要な作動光ビームと、低電力の心合わせ光ビーム又は基準光ビームとを容易にの軸合わせすることができる。
更に、監視装置及び又は入射光ビームに対して特定の単数又は複数の機能を実行するのに最適な複数の位置に単一又は複数のセンサを配置することがより好ましい。本発明の好適な実施の形態では、入射光ビームに対して実質的に45度の角度に複数の主センサを配置し、追加センサを入射光ビームに対して直角に配置する。
また、監視装置の電力範囲を変化させる減衰器(アテヌエータ)をセンサ上に配置できる。ゲルマニウム、ガリウム砒素又は重合体材料から減衰器を製造できる。
付加的に又は別法として、光ビームを通じて反射体を平行移動して、追加データを容易に捕集できる。入射光ビームに対して実質的に垂直な一平面内で反射体を平行に移動できる移動台に反射体と駆動装置とを取り付けることができる。前記一組のセンサ間の挟角を実質的に二分する一定の通路に沿う平面内で反射体を移動させる方向に移動台を移動することがより好ましい。
また、単一又は複数の反射体の位置を検出し及び又は制御する回路を設けることが好ましい。更に、単一若しくは複数のセンサからデータを捕集しかつ記憶し及び若しくは処理する回路又はコンピュータ若しくは表示装置等の外部装置にデータを送信する回路を設けてもよいが、本発明はこれらの例に限定されない。互いに連絡し又は離間する独立装置として前記2つの回路を動作させることができる。また、手動操作又は自動操作により測定装置を始動し又は制御する制御用モジュールを設けてもよい。
また、センサ若しくは針を交換する必要又はアンプパラメータを手動調整する必要がなく、広範囲の出力を有する光ビームの監視を可能にする制御回路を設けることが好ましい。
また、本発明の好適な実施の形態は、1又は2以上の数値形式、画像形式又は可聴形式で光ビーム特性情報を表示する装置を含む。しかしながら、最も好適な実施の形態では、オペレータが監視装置に情報を入力し、光ビームを通る反射体の移動を調整し、センサからデータを捕集し、データを処理し、必要な校正を実行し、有用な形式で情報を表示できる一体型の制御装置が設けられる。
付加的に又は別法として、予め決められた時間間隔等で自動的に動作する制御装置が設けられる。
添付図面に例示する本発明の好適な一実施の形態を以下説明する。
図1に示すように、光ビーム12を受光する全体を10で示す光ビーム検知装置は、振動モータ16に取り付けられた針14と、光ビーム12及び針14近傍に配置された少なくとも2つのセンサ18及び20とを備えている。光ビーム12は、ほぼ垂直方向に進行し、針14から離間する下方向かつ外方向のセンサ18及び20に向けて光ビーム12が反射される。
図2は、光ビーム軸に沿って見た光ビーム検知装置の幾何学的構成を示し、針14は、光ビーム12中を通過する。針14から離間する方向に反射される一部の光ビーム12は、針14から直角に反射される光を感知するセンサ18及び20により測定される。従って、センサ18及び20は、各々示す軌跡22及び24に沿って反射光を測定する。この方法では、実質的に直交する一対の軸に沿って光ビーム特性(光ビームプロファイル)を決定できる。また、測定軌跡22及び24が光ビーム12の端部と交差する複数の点の関数として、光ビームの直径及び焦点を決定できる。
図3a及び図3bに示すように、捕集されるデータは、針が移動する方向に依存するため、反対の両方方向に針を移動して測定が反復される。図3a及び図3bは、両方の反対方向に移動する針14により測定される「最高」光ビーム特性28に対して、典型的な光ビーム特性の測定値30を示す。光強度等の光ビーム特性は、針の位置yに対する垂直軸26について測定される。測定データ30は、実際の光ビーム特性28に対して傾斜し又は非対称32であり、超過量(オーバーシュート)34又は他のセンサ依存収差を示す。このように、光ビーム12を通り両方の反対方向に針14を通過させて得られるデータ集合体を組み合わせることにより、より正確な実際の光ビーム特性28の表示が得られる。
光ビームを通じて針14を平行移動させ測定を繰り返し、光ビーム12に対する種々の位置での一連の特性を確立できる。好適な平行移動の方向は、図2の矢印36により示すように、一対のセンサ間の挟角を二分する方向である。
光強度及び周波数等の種々の光ビーム特性を測定する多数のセンサが存在するが、複数の主センサは、光ビーム方向に対し45度の角度で取り付けられる。図4は、入射光ビーム12に対し実質的に45度の角度で配置される主センサ18及び20を示す。追加センサ38及び40は、角度Φで示す他の角度に配置される。光ビーム12に対して角度45度で取り付けられる主センサは、光ビームの方向に対して最も小感度である。従って、光ビーム12に対する光ビーム検知装置10の偏位により、必ずしも不正なデータを捕集するわけではない。追加センサ38及び40は、光ビーム12の方向に対しより感度の高い位置で主センサ18及び20とは別の位置に配置される。従って、僅かな偏位は、追加センサ38及び40から捕集されるデータと、主センサ18及び20から捕集される高精度のデータとの間に大きな相違を生じる。従って、2組のデータ間で比較しかつ補間関数を実行することにより、光ビーム方向又は所謂照準ベクトルを確認できる。更に、既知の光ビーム照準ベクトルトによって、針が振動(振動回転)する平面が光ビーム軸に対して実質的に直角であるように光ビーム検知装置の配置を最適化することが可能である。
図5aは、光ビームが通過する開口部44を有するハウジング42内に内蔵される光ビーム検知装置10の好適な実施の形態を示す。
図5bは、針14と、移動台46上に取り付けられたモータ16とを含むハウジング42内に配置される構成要素を示す。また、図5bに示すように、基板上回路48と、外部制御及び表示装置50とが設けられる。
反射体、作動装置及びセンサの光ビームに対する位置を示す概略図 検知位置の幾何学的構成を示す平面図 光ビームを通じて一方向に反射体を移動するときの光ビーム特性とセンサ応答出力との関係を示す図 図3aに対して、光ビームを通じて逆方向に反射体を移動するときの光ビーム特性とセンサ応答出力との関係を示す図 入射光ビームに対するセンサの好適な位置を示す側面図 内部に監視装置を収容しかつ光ビームが通過する開口部を形成した好適な一実施の形態を示す斜視図 図5aのケースから蓋を除去して、制御及び表示装置を有する監視装置の構成要素の好適な配置状態を示す本発明の好適な実施の斜視図
符号の説明
(12)・・光ビーム、 (14)・・反射体、 (16)・・駆動装置、 (18,20,38,40)・・センサ、 (46)・・移動台、 (48)・・回路、 (50)・・表示装置、

Claims (92)

  1. 光ビーム中を少なくとも部分的に通過し、サンプル光ビームを反射する振動反射体と、反射されるサンプル光ビームを受光してサンプル光ビームの特性を決定する少なくとも1つのセンサとを備えることを特徴とする光ビーム監視装置。
  2. 反射体は、ワイヤ又は針である請求項1に記載の光ビーム監視装置。
  3. 反射体は、反射性材料により形成され、
    反射体は、表面上に反射性被覆体を有する非反射性材料から形成される請求項1又は2に記載の光ビーム監視装置。
  4. 反射体は、駆動装置上に設けられて光ビーム中を通過できる請求項1〜4の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  5. 駆動装置は、モータである請求項5に記載の光ビーム監視装置。
  6. 光ビーム監視装置及び又は監視される光ビームに対する反射体の位置を決定し及び又は制御する手段を備える請求項1〜6何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  7. 少なくとも1つのセンサは、熱電対列(サーモパイル)である請求項1〜7の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  8. 少なくとも1つのセンサは、焦電型赤外線センサ(パイロセンサ)である請求項1〜7の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  9. 少なくとも1つのセンサは、フォトダイオードである請求項1〜7の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  10. 光ビーム特性の複数の直角測定が可能に配置される2つのセンサを有する請求項1〜10の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  11. 複数対のセンサを使用して、複数の光ビーム特性を同時に測定する請求項11に記載の光ビーム監視装置。
  12. 少なくとも一対のセンサは、入射光ビームに対して実質的に45度の角度に配置される請求項11又は12に記載の光ビーム監視装置。
  13. 少なくとも一対のセンサは、入射光ビームに対して実質的に直角に配置される請求項11又は12に記載の光ビーム監視装置。
  14. センサは減衰器を備える請求項1〜14の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  15. 減衰器は、ゲルマニウムから形成される請求項15に記載の光ビーム監視装置。
  16. 減衰器は、ガリウム砒素から形成される請求項15に記載の光ビーム監視装置。
  17. 減衰器は、重合体材料から形成される請求項15に記載の光ビーム監視装置。
  18. 駆動装置は、入射光ビームに対して実質的に直角な平面内で反射体を平行に移動できる移動台上に設けられる請求項5〜19の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  19. いかなる対のセンサ間の挟角を実質的に二分する経路に沿って、入射光ビームに対して実質的に直角な平面内で反射体を移動させて移動台の方向を決定する請求項19に記載の光ビーム監視装置。
  20. 反射体の位置を検出しかつ制御する回路を含む請求項1〜20の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  21. 単一又は複数のセンサからデータを捕集し、捕集した情報を記憶し及び又は処理する回路を含む請求項1〜21の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  22. 表示装置を備える請求項1〜22の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  23. 測定処理を開始し及び又は制御する制御モジュールを備える請求項1〜23の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  24. 制御モジュールは、手動操作される請求項24に記載の光ビーム監視装置。
  25. 制御モジュールは、自動操作される請求項24に記載の光ビーム監視装置。
  26. 1又は2以上の光ビーム特性情報は、数値形式、画像形式又は可聴形式で示される請求項23〜26の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  27. 制御装置は、予め決められた時間間隔で自動操作される請求項24〜28の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  28. 制御装置は、要求時に動作される請求項1〜28の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  29. 光ビーム中で2つの反対方向に反射体を少なくとも部分的に通過させて、サンプル光ビームの特性を決定するセンサに向かってサンプル光ビームを反射する過程を含むことを特徴とする光ビーム監視法。
  30. 導線又は針を反射体として使用する請求項30に記載の光ビーム監視法。
  31. 駆動装置を使用して光ビーム中に反射体を通過させる過程を含む請求項30又は31に記載の光ビーム監視法。
  32. 駆動装置は、モータである請求項32に記載の光ビーム監視法。
  33. 光ビーム監視装置及び又は監視される光ビームに対する反射体の位置を検出しかつ制御する過程を含む請求項30〜33の何れか1項に記載の光ビーム監視法。
  34. 2つのセンサを使用して、光ビーム特性の複数の直角測定を可能にする請求項30〜34の何れか1項に記載の光ビーム監視法。
  35. 複数対のセンサを同時に使用して複数の光ビーム特性を測定する過程を含む請求項35に記載の光ビーム監視法。
  36. 入射光ビームに対し実質的に45度の角度で反射される光ビームを使用して光ビーム特性を測定する請求項35に記載の光ビーム監視法。
  37. 入射光ビームに対して実質的に90度の角度で反射される光ビームを使用してビーム特性を測定する請求項35に記載の光ビーム監視法。
  38. 反射される光ビームは、反射して検出する間に減衰される請求項30〜38の何れか1項に記載の光ビーム監視法。
  39. 反射体は、入射光ビームに対して実質的に直角な平面内で平行に移動される請求項30〜39の何れか1項に記載の光ビーム監視法。
  40. いかなる対のセンサ間の挟角を実質的に二分する経路に沿って平行に移動する請求項40に記載の光ビーム監視法。
  41. 単一又は複数のセンサからデータを捕集しかつ記憶する過程を含む請求項30〜41の何れか1項に記載の光ビーム監視法。
  42. センサにより捕集されるデータを処理する過程を含む請求項42に記載の光ビーム監視法。
  43. センサにより捕集されるデータを表示する過程を含む請求項42又は43に記載の光ビーム監視法。
  44. 反射体が光ビーム中を通過してデータを捕集する過程を自動で行う請求項42〜44の何れか1項に記載の光ビーム監視法。
  45. 反射体が光ビーム中を通過してデータを捕集する過程は、予め決められた時間間隔で実行される請求項42〜45の何れか1項に記載の光ビーム監視法。
  46. 反射体が光ビーム中を通過してデータを捕集する過程は、要求時に実行される請求項42〜44の何れか1項に記載の光ビーム監視法。
  47. 少なくとも部分的に光ビーム中を通過してサンプル光ビームを反射する反射体と、入射光ビームに対して実質的に45度の角度で配置されて、反射されるサンプル光ビームを受光し、サンプル光ビームの特性を決定する少なくとも1つのセンサとを備えることを特徴とする光ビーム監視装置。
  48. 反射体は導線又は針である請求項48に記載の光ビーム監視装置。
  49. 反射体は、反射性材料により形成される請求項48又は49に記載の光ビーム監視装置。
  50. 反射体は、表面上に反射性被覆体を有する非反射性材料から形成される請求項48又は49に記載の光ビーム監視装置。
  51. 反射体は、駆動装置上に設けられて光ビーム中を通過できる請求項48〜51の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  52. 駆動装置は、モータである請求項52に記載の光ビーム監視装置。
  53. 光ビーム監視装置及び又は監視される光ビームに対する反射体の位置を決定し及び又は制御する手段を含む請求項48〜53の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  54. 少なくとも1つのセンサは、熱電対列である請求項48〜54の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  55. 少なくとも1つのセンサは、焦電型赤外線センサである請求項48〜54の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  56. 少なくとも1つのセンサは、フォトダイオードである請求項48〜54の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  57. 2つのセンサは、光ビーム特性の複数の直角測定が可能に配置される請求項48〜57の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  58. 複数対のセンサを使用して、複数の光ビーム特性を同時に測定する請求項58に記載の光ビーム監視装置。
  59. 少なくとも一対のセンサは、入射光ビームに対して実質的に直角に配置される請求項58又は59に記載の光ビーム監視装置。
  60. センサは、減衰器を備える請求項48〜60の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  61. 減衰器は、ゲルマニウムから形成される請求項61に記載の光ビーム監視装置。
  62. 減衰器は、ガリウム砒素から形成される請求項61に記載の光ビーム監視装置。
  63. 減衰器は、重合体材料から形成される請求項61に記載の光ビーム監視装置。
  64. 駆動装置は、移動台上に設けられ、入射光ビームに対して実質的に直角な平面内で反射体を平行移動させる請求項52〜64の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  65. いかなる対のセンサ間の挟角を実質的に二分する経路に沿って、入射光ビームに対して実質的に直角な平面内で反射体を移動させて移動台の方向を決定する請求項65に記載の光ビーム監視装置。
  66. 反射体の位置を検出しかつ制御する回路を含む請求項48〜66の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  67. 単一又は複数のセンサからデータを捕集し、捕集した情報を記憶し及び又は処理する回路を含む請求項481〜67の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  68. 表示装置を含む請求項48〜68の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  69. 測定処理を開始し及び又は制御する制御モジュールを備える請求項48〜69の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  70. 制御モジュールは、手動操作される請求項70に記載の光ビーム監視装置。
  71. 制御モジュールは、自動操作される請求項70に記載の光ビーム監視装置。
  72. 光ビーム特性情報は、1又は2以上の数値形式、画像形式又は可聴形式で示される請求項69〜72の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  73. 制御装置は、予め決められた時間間隔で自動操作される請求項48〜73の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  74. 制御装置は、要求時に動作される請求項48〜73の何れか1項に記載の光ビーム監視装置。
  75. 少なくとも部分的に光ビーム中に反射体を通過させて、入射光ビームに対し実質的に45度の角度に配置されるセンサの方向にサンプル光ビームを反射して、サンプル光ビームの特性を決定する過程を含むことを特徴とする光ビーム監視法。
  76. 導線又は針を反射体として使用する請求項76に記載の光ビーム監視法。
  77. 駆動装置を使用して光ビーム中に反射体を通過させる過程を含む請求項76又は77に記載の光ビーム監視法。
  78. 駆動装置は、モータである請求項78に記載の光ビーム監視法。
  79. 光ビーム監視装置及び又は監視される光ビームに対する反射体の位置を検出しかつ制御する過程を含む請求項76〜79の何れか1項に記載の光ビーム監視法。
  80. 2つのセンサを使用して、光ビーム特性の複数の直角測定を可能にする請求項76〜80の何れか1項に記載の光ビーム監視法。
  81. 複数対のセンサを使用して複数の光ビーム特性を同時に測定する過程を含む請求項81に記載の光ビーム監視法。
  82. 反射される光ビームは、反射して検出する間に減衰される請求項76〜82の何れか1項に記載の光ビーム監視法。
  83. 反射体は、入射光ビームに対して実質的に直角な平面内で平行に移動される請求項76〜83の何れか1項に記載の光ビーム監視法。
  84. いずれかの対のセンサ間の挟角を実質的に二分する経路に沿って平行に移動する請求項84に記載の光ビーム監視法。
  85. 単一又は複数のセンサからデータを捕集しかつ記憶する過程を含む請求項76〜85の何れか1項に記載の光ビーム監視法。
  86. センサにより捕集されるデータを処理する過程を含む請求項76〜86の何れか1項に記載の光ビーム監視法。
  87. センサにより捕集されるデータを表示する過程を含む請求項87に記載の光ビーム監視法。
  88. 反射体が光ビーム中を通過してデータを捕集する過程を自動で行う請求項76〜88の何れか1項に記載の光ビーム監視法。
  89. 反射体が光ビーム中を通過してデータを捕集する過程は、要求時に実行される請求項76〜89の何れか1項に記載の光ビーム監視法。
  90. 反射体が光ビーム中を通過してデータを捕集する過程は、要求時に実行される請求項76〜89の何れか1項に記載の光ビーム監視法。
  91. 実質的に、明細書に記載されかつ添付図面に図示されることを特徴とする光ビーム監視装置。
  92. 実質的に、明細書に記載されかつ添付図面に図示されることを特徴とする光ビーム監視法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008519263A (ja) * 2004-10-28 2008-06-05 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 集光ビームを測定する為の方法および装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7755515B2 (en) * 2007-01-03 2010-07-13 Riley Hagan Apparatus and method for preventing night blindness and/or vertigo among pilots caused by the reflection of an aircraft's anti-collision warning lights from clouds or other light reflecting conditions into the cockpit

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4521684A (en) * 1982-02-22 1985-06-04 The Foxboro Company Optical measurement system with light-driven vibrating sensor element
DE8227494U1 (de) 1982-09-30 1983-02-17 Arnold, Peter, Dr., 8000 München Vorrichtung zur messung der intensitaet eines laserstrahls
US4693600A (en) * 1983-11-01 1987-09-15 Westinghouse Electric Corp. Optical beam analyzer
JPS62266431A (ja) 1986-05-14 1987-11-19 Toshiba Corp レ−ザ光特性検出装置
JPS6333637A (ja) 1986-07-29 1988-02-13 Toshiba Corp レ−ザ光特性検出装置
DE3706271A1 (de) * 1987-02-26 1988-09-08 Erwin Strigl Vorrichtung zum messen des intensitaetsprofils eines laserstrahls
JPS63269588A (ja) 1987-04-28 1988-11-07 Toshiba Corp レ−ザビ−ムのモニタリング装置
JPH01130083A (ja) 1987-11-16 1989-05-23 Sanyo Electric Co Ltd スクロール圧縮機
JPH01138083A (ja) * 1987-11-25 1989-05-30 Amada Co Ltd 炭酸ガスレーザ加工機の反射戻り光の検出装置
US5267012A (en) * 1989-04-27 1993-11-30 Coherent, Inc. Apparatus for measuring the mode quality of a laser beam
DE4014661C2 (de) * 1990-05-08 1996-03-28 Groz & Soehne Theodor Optische Kontrolle von Stricknadeln an Strickautomaten
US6673533B1 (en) * 1995-03-10 2004-01-06 Meso Scale Technologies, Llc. Multi-array multi-specific electrochemiluminescence testing
IL118458A (en) * 1995-05-30 2000-08-31 Asahi Optical Co Ltd Light intensity controlling device
FR2735575B1 (fr) 1995-06-16 1997-07-18 Laser Metrologie Procede et dispositif pour determiner les parametres de focalisation d'un faisceau laser
KR100292183B1 (ko) * 1997-06-25 2001-09-28 이토가 미찌야 광빔특성평가방법
EP0964222A4 (en) * 1997-12-02 2002-11-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd TILT ANGLE DETECTOR
FR2779238B1 (fr) * 1998-06-02 2003-06-27 Alsthom Cge Alkatel Fibre optique filtrante a profil de photosensibilite modifie
WO1999063531A1 (en) * 1998-06-05 1999-12-09 Herzel Laor Optical switch for disk drive
GB2359636B (en) * 2000-02-22 2002-05-01 Marconi Comm Ltd Wavelength selective optical filter

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008519263A (ja) * 2004-10-28 2008-06-05 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 集光ビームを測定する為の方法および装置
JP4777995B2 (ja) * 2004-10-28 2011-09-21 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 集光ビームを測定する為の方法および装置

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