JP2005505565A5 - - Google Patents
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Description
実施例45：五糖P-19の部分的脱保護（deprotection），条件：a) SOP 28, 84%; b) SOP 39, 86%.
化合物P-33：
Mfound= 1503.5 (M-N2+2H)+, Mcalc = 1529.51 (M+).
構造的な証明を容易にするため、P-33の小さい部分を、ビスメチルウロネート誘導体に変換し、NMR−分光法によって特徴づけた。1H-NMR−スペクトル領域の特徴を、figure 5に示す。
Mfound = 1514.62 (M+H)+, Mcalc = 1513.58 (M+).
実施例46：アミノ保護としてDTPM−基を含む、五糖P-30の部分的脱保護
化合物P-33：
Mfound= 1503.5 (M-N2+2H)+, Mcalc = 1529.51 (M+).
構造的な証明を容易にするため、P-33の小さい部分を、ビスメチルウロネート誘導体に変換し、NMR−分光法によって特徴づけた。1H-NMR−スペクトル領域の特徴を、figure 5に示す。
Mfound = 1514.62 (M+H)+, Mcalc = 1513.58 (M+).
実施例46：アミノ保護としてDTPM−基を含む、五糖P-30の部分的脱保護
Claims (5)
- 請求項１に記載の五糖を合成する方法であって、以下の工程を包含する：
式IIの三糖ＥＤＣ
Ｘ２は、チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、ｎ−ペンテニルから選択され、そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲＨは、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され；
ＲＨ２は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲＨ２とＲＢ１は独立して一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲＳ３は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基 アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲＳ４は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基 アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され、あるいはＲＳ４とＲＢは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲＳ５は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基、アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチル、カルバメート保護基、トリチルからなる群から選択され；あるいは、ＲＳ５とＲＨは組み合わさって環式アセタールまたはケタール部分を形成し得；
ＲＥ１は、メチル、Ｃ２−Ｃ５アルキル；置換アルキル、Ｃ３−Ｃ５アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択され；
ＲＢは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲＳ４とＲＢは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲＢ１は、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲＨ２とＲＢ１は一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲＰ１は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；、カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲＰ２は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択される。］
を形成する工程；
ならびに式IIIの二糖ＢＡ
Ｘ１は、アルコキシ、アルケニルオキシ、アリールオキシ、ベンジルオキシ、置換ベンジルオキシ；チオアルキル、チオアリール、ｔブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基；リポアミノ酸または送達システムもしくは固体支持体への複合体化に好適な他のこのような基からなる群から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
Ｒ Ｈ は、式IIについて上記で規定される通りであり；
ＲＨ１は、ベンジルまたは置換ベンジル保護基、アリル、アリルオキシカルボニルからなる群から選択され、あるいはＲＨ１とＲＡは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲＡは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−Ｄｄｅ、ＮＨ−ＤＴＰＭ、ＮＨ−Ｆｍｏｃ、ＮＨ−Ｂｏｃ、ＮＨ−Ｃｂｚ、ＮＨ−Ｔｒｏｃ、Ｎ−フタルイミド、ＮＨ−Ａｌｌｏｃ、ＮＨ−Ａｃからなる群から選択され；あるいはＲＨ１とＲＡは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲＳ１は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基 アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲＳ２は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基 アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲＱは、ａ）−（Ｃ＝Ｏ）−ＯＲＥ２（式中、ＲＥ２は、メチル、Ｃ２−Ｃ５アルキル；置換アルキル、Ｃ３−Ｃ５アルケニル；または、ベンジルおよび置換ベンジル基からなる群から選択される）；
あるいはｂ）−（ＣＨ２）−ＯＲＭ（式中、ＲＭはｐ−メトキシフェニル、ｐ−メトキシベンジル、トリチル基、アリル、レブリノイルから選択される）のいずれかであり；
ＲＬはＨである］
を形成する工程；
ならびに該三糖を該二糖へ結合させて該五糖を形成する工程。 - 一般式XXIIの二糖構成ブロック：
Ｘ２は、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、イミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、ｔブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲＢは、アジド官能基、アミン；ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲＳ４とＲＢは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲＳ３は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基 アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
ＲＳ４は、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基；ｔブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基 アリル、メトキシメチル、メトキシエチル、ベンジルオキシメチルからなる群から選択され；
あるいはＲＳ４とＲＢは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲＰ１は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲＰ２は、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
Ａは、Ｈ、メトキシ、メチルを含むがこれらに限定されない。 - Ｘ２が、ヒドロキシル基；チオアルキル、チオアリール、ハロゲン、トリクロロアセトイミドイル、ホスフェートおよび関連するホスフェートエステル型脱離基、ｔブチルジフェニルシリルオキシまたは他のこのような置換シリルオキシ保護基から選択され；そして立体化学はアルファであってもベータであってもよく；
ＲＢが、アジド官能基、ＮＨ−ＤｄｅまたはＮＨ−ＤＴＰＭ基からなる群から選択され、あるいはＲＳ４とＲＢは一緒に組み合わさって環式カルバメートを形成し得；
ＲＳ３が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲＳ４が、４−メトキシフェニル；置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル、および置換されたアルキルアシル、アリールアシルまたはアルキルアリールアシル（alkylarylacy）保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；あるいは、ＲＳ４とＲＢは組み合わさって環式カルバメートを形成してもよく；
ＲＰ１が、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基からなる群から選択され；
ＲＰ２が、４−メトキシフェニル；ベンジル、置換ベンジル基；アルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル、または置換されたアルキルアシル、アリールアシルおよびアルキルアリールアシル保護基；カーボネート保護基、シリル保護基、カルバメート保護基、Ｃ３−Ｃ５アルケニルからなる群から選択され；
Ａが、Ｈ、メトキシ、メチルを含むがこれらに限定されない、
請求項７１に記載の二糖構成ブロック。 - 請求項１に記載の五糖の脱保護によって形成される、以下の式の五糖：
- 請求項４に記載の五糖の脱保護によって形成される、以下の式の五糖：
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