JP2005354073A - リソグラフィ装置用のレベル・センサ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ投射機器用のレベル・センサは、測定すべき基板上に光を当てるように構成された光源と、基板から反射した光を検出するように構成された検出器と、第1構成と第2構成のフィルタで行った測定間の差を計算するように構成されたプロセッサとを含む。このセンサは、光が第1の特性を受ける第1構成と、光が第2の特性を受ける第2構成との間で調節可能である。このセンサは、第1及び第2の特性が異なる偏光状態となるように偏光フィルタを含むことができる。
【選択図】図3
Description
3.別のモードでは、マスク・テーブルMTがほぼ静止状態に保たれ、プログラム可能パターン形成構造が保持され、基板テーブルWTが移動又は走査されると共に、投射ビームに付与されたパターンが対象部分Cに投射される。このモードでは、一般にパルス放射源が使用され、プログラム可能パターン形成構造は、基板テーブルWTのそれぞれの移動の後、又は走査中の連続する放射パルスの間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上記で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターン形成構造を使用するマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
C 対象部分
CO コンデンサ
IF 位置センサ
IL 照明系
IN 積分器
MA パターン形成構造
MA パターン形成手段、マスク
M1、M2 マスク位置合せマーク
PB 投射ビーム
PL 投射系
PW 第2位置決め装置
P1、P2 基板位置合せマーク
SO 放射源
W 基板
WT 基板テーブル
Claims (37)
- リソグラフィ投射機器用のレベル・センサであって、
測定すべき基板上に光を当てるように構成された光源と、
前記基板から反射した光を検出するように構成された検出器と、
前記光が第1の特性を有するときに行った測定と、前記光が前記第1の特性とは異なる第2の特性を有するときに行った測定の差を計算するように構成されたプロセッサとを備え、
前記光が第1の特性を有する第1構成と、前記光が第2の特性を有する第2構成との間で調節可能であるレベル・センサ。 - 前記光の特性が偏光であり、前記第1構成では前記光に第1偏光を加え、前記第2構成では前記光に第2偏光を加える偏光子をさらに備える請求項1に記載のレベル・センサ。
- 前記第1偏光がS偏光であり、前記第2偏光がP偏光である請求項2に記載のレベル・センサ。
- 前記偏光子が透過板を含む請求項に記載2のレベル・センサ。
- 前記偏光子が偏光ビーム・スプリッタ・キューブを含む請求項2に記載のレベル・センサ。
- 前記偏光子の構成の選択が自動化される請求項2に記載のレベル・センサ。
- 前記光の特性が偏光であり、前記第1構成では前記光に偏光を加え、前記第2構成では前記光に偏光を加えない偏光子をさらに備える請求項1に記載のレベル・センサ。
- 波長フィルタをさらに備える請求項1に記載のレベル・センサ。
- 前記波長フィルタの構成の選択が自動化される請求項7に記載のレベル・センサ。
- 複数の光源をさらに備え、前記複数の光源のそれぞれが、前記基板上に当てるべき異なる波長の光を供給するように構成される請求項1に記載のレベル・センサ。
- 前記基板の少なくとも一部にそれぞれ対応する複数の高さマップを格納するように構成されたメモリを備える請求項1に記載のレベル・センサ。
- 前記複数の高さマップのそれぞれが、前記基板の少なくとも1つのダイに対応する請求項11に記載のレベル・センサ。
- 前記第1の特性を有する光で行った高さマップと、前記第2の特性を有する光で行った高さマップとに基づいてレベル・センサによって差マップが計算される請求項11に記載のレベル・センサ。
- 放射ビームを供給するように構成された放射系と、
所望のパターンに従って前記放射ビームをパターン形成する働きをするパターン形成構造を支持するように構成された支持構造と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記パターン形成ビームを前記基板の対象部分上に投射する投射系と、
レベル・センサであって、
光を前記基板上に当てるように構成された光源と、
前記基板から反射した光を検出するように構成された検出器と、
前記光が第1の特性を与えられる第1構成と、前記光が前記第1の特性とは異なる第2の特性を与えられる第2構成との間で調節可能であるフィルタと、
前記第1構成及び前記第2構成で行った測定間の差を計算するように構成されたプロセッサとを備えるレベル・センサとを備えるリソグラフィ投射機器。 - 前記フィルタが偏光子を含む請求項14に記載のリソグラフィ投射機器。
- 前記基板の少なくとも一部にそれぞれ対応する複数の高さマップを格納するように構成されたメモリをさらに備える請求項14に記載のリソグラフィ投射機器。
- 前記複数の高さマップのそれぞれが、前記基板の少なくとも1つのダイに対応する請求項16に記載のリソグラフィ投射機器。
- 前記第1構成の前記フィルタで行った高さマップと、前記第2構成の前記フィルタで行った高さマップとを使用して差マップが計算される請求項16に記載のリソグラフィ投射機器。
- 光レベル・センサの性能を監視する方法であって、
光ビームを基板に当てるステップと、
前記光ビームが前記基板から反射したときに、前記光ビームの位置を検出するステップと、
前記検出の結果に基づいて前記基板の高さを測定するステップと、
前記検出の前に、前記光をフィルタで濾波するステップとを含み、
前記測定が、第1構成の前記フィルタで前記基板の高さを測定し、その後に第2構成の前記フィルタで前記基板の高さを測定するステップを含み、
前記方法が、前記測定した高さ間の差を求めるステップを含む方法。 - 前記フィルタが偏光子を含み、前記フィルタの前記第1構成が前記光に第1偏光を当て、前記フィルタの前記第2構成が前記光に前記第1偏光とは異なる第2偏光を当てる請求項19に記載の方法。
- 前記第1偏光がS偏光であり、前記第2偏光がP偏光である請求項20に記載の方法。
- 前記フィルタが偏光子を含み、前記フィルタの前記第1構成が前記光に偏光を加え、前記フィルタの前記第2構成が前記光に偏光を加えない請求項19に記載の方法。
- 前記測定した高さ間の差をしきい値と比較するステップを含む請求項19に記載の方法。
- 前記第1構成の前記フィルタで行った高さマップと、前記第2構成の前記フィルタで行った高さマップとを使用して差マップが計算される請求項19に記載の方法。
- 前記差マップが前記基板のマップを含む請求項24に記載の方法。
- 前記差マップが、前記基板のダイのマップを含む請求項24に記載の方法。
- 前記差マップの絶対値が、事前定義されたしきい値と比較され、前記しきい値を超過したときにアラーム信号が生成される請求項24に記載の方法。
- 前記差マップの変化が求められ、しきい値と比較され、前記変化が前記しきい値を超過したときにアラーム信号が生成される請求項24に記載の方法。
- 前記基板の一定の位置で、前記差マップがしきい値と比較され、前記しきい値が超過した前記基板の領域が求められる請求項24に記載の方法。
- 前記差マップに基づいて、前記基板の露光中に使用されるレベリング測定から1つ又は複数の選択したエリアを除外するステップを含む請求項24に記載の方法。
- 空気マイクロメータを使用して追加の高さ測定を実施するステップであって、前記追加の高さ測定の数及び位置が前記差マップに基づくステップを含む請求項24に記載の方法。
- 基板の表面上に光ビームを当てるように構成された光源と、
前記基板の表面からの前記光ビームの反射を検出するように構成された検出器と、
前記基板の表面からの前記光ビームの反射の第1検出と、前記基板の表面からの前記光ビームの反射の第2検出とに基づいて前記基板の位置を求めるように構成されたプロセッサとを備えるレベル・センサであって、
前記第1検出での前記光ビームの偏光が、前記第2検出での前記光ビームの偏光とは異なるレベル・センサ。 - 前記第1検出と前記第2検出の一方での前記光ビームの偏光状態が、S偏光及びP偏光からなるグループの中の1つである請求項32に記載のレベル・センサ。
- 前記プロセッサが、前記第1検出の結果と前記第2検出の結果の差に基づいて前記位置を求めるように構成される請求項32に記載のレベル・センサ。
- 前記第1検出中に第1構成を有し、前記第2検出中に第2構成を有する偏光子を備える請求項32に記載のレベル・センサ。
- 前記光源が、第1光源及び第2光源を含み、
前記第1光源が、前記基板の表面上に第1波長の光を当てるように構成され、
前記第2光源が、前記基板の表面上に第1波長とは異なる第2波長の光を当てるように構成される請求項32に記載のレベル・センサ。 - 前記プロセッサが、前記第1検出及び前記第2検出に基づいて、前記基板の少なくとも一部の表面の高さマップを求めるように構成される請求項32に記載のレベル・センサ。
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