JP2005336527A - 蒸着装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】蒸発材料を蒸着用容器3内で保持されたガラス基板1に蒸着させる蒸着装置であって、異なる種類の蒸着材料A,Bを加熱して蒸発材料を得るための2個の蒸発用容器6,7を設けるとともに、蒸着用容器3内に、蒸発材料を放出するための放出孔4b,5bがそれぞれ複数個ずつ設けられた放出用容器4,5を配置し、上記各蒸発用容器で得られた蒸発材料を所定の放出用容器4,5内にそれぞれ導く蒸発材料誘導管8,9を設け、さらに一方の放出用容器4に形成された放出孔4b内に、他方の放出用容器5に突設された放出用ノズル5cの先端の放出孔5bを同心状に配置したものである。
【選択図】 図1
Description
この液晶画面については、バックライトを必要とするもので、視野範囲、消費電力などの点で難点があり、最近、自発光性の有機EL方式のディスプレイが注目されている。
このような異種材料を蒸着させる装置、方法等としては、下記に示すようなものがある。
これは、有機ELディスプレイの表示部を製造する場合に用いられる有機材料のような安定性の低い材料について言えることであるが、異種材料間で蒸発温度が異なるとともに分解してその性能を失う分解温度(蒸発温度より高い)も異なることに起因する。それぞれの坩堝での加熱については、収納された材料の蒸発温度以上分解温度未満に設定するだけでよいため、比較的制約は小さいが、坩堝と被蒸着部材への放出孔との間に位置し且つ両蒸発材料を混合している部分においては、混合される材料の全ての蒸発温度以上であって、混合される材料の分解温度未満に保持して、ここでの蒸着と分解とによる材料の劣化を防ぐ必要が生じるため、坩堝にて個別に加熱する場合に比べて制約が大きくなる。
材料を加熱して蒸発材料を得るための蒸着源を複数個配置するとともに、
これら各蒸着源で得られた蒸発材料を上記被蒸着部材表面に導く蒸発材料誘導路を設け、
且つ上記各蒸発材料誘導路の先端の材料放出用の開口部を同心状に配置したものである。
また、請求項3に係る蒸着装置は、請求項1または2に記載の蒸着装置における材料放出用の開口部分における各蒸発材料の開口面積を、蒸発材料の種類に応じて決定したものである。
以下、本発明の実施の形態に係る蒸着装置を、図1〜図6に基づき説明する。
本実施の形態においては、有機ELディスプレイの表示部を製造する場合、すなわち有機材料をガラス基板の表面に蒸着させる場合で、且つ異なる2種類の蒸着材料(有機材料である)を蒸着させる場合について説明する。なお、異なる蒸着材料のうち、主成分である材料を第1蒸着材料(ホストともいう)と称するとともに、微量材料を第2蒸着材料(ドーパントともいう)と称し、さらに各蒸着材料を加熱して蒸発させたものを第1および第2蒸発材料と称して説明を行う。
これら各放出用容器4,5は所定厚さで且つ平面視が矩形状(勿論、円形、多角形などであってもよい)にされるとともに内部にそれぞれ拡散空間(バッファ空間ともいい、蒸発材料の濃度の均一化を図り得る)4a,5aを有する箱形状の容器にされている。
また、図2〜図4に示すように、第1放出用容器4の上面には、第1蒸発材料の放出孔(開口部)4bが所定間隔おきに例えば縦横に複数列でもって複数個形成されるとともに、第2放出用容器5の上面には、第2蒸発材料の放出孔(開口部)5bを有する放出ノズル5cが上記第1放出用容器4における放出孔4b内に位置するように複数個突設されている。
この監視制御装置10は、図1に示すように、各放出用容器4,5の表面の端縁部に形成された放出量検出孔4c,5dから放出された蒸発材料の放出量を検出し得る放出量検出用センサ(放出量検出手段の一例で、放出量測定手段ともいう)21,22と、ガラス基板1の直ぐ傍の位置に配置されて蒸発材料が付着した膜厚を検出するための膜厚検出用センサ23と、上記両放出量検出用センサ21,22からの検出信号を入力して両蒸発材料の放出量の比率を求めるための放出量比検出手段24と、上記膜厚検出用センサ23からの検出信号を入力してガラス基板1に蒸着された膜厚を求める膜厚検出手段25と、上記放出量比検出手段24および膜厚検出手段25からの検出値(測定値である)を入力して各蒸発材料誘導管8,9に設けられた流量制御弁13,14の開度を調節する開度調節手段26と、同じく上記放出量比検出手段24および膜厚検出手段25からの検出値を入力して放出量比および膜厚を表示するモニター(出力手段の一例で、例えばプリンターでもよい)27とから構成されている。なお、上記各検出用センサ21〜23としては、例えば水晶振動子を利用したものが用いられる。
すなわち、第1蒸発用容器4および第2蒸発用容器5を、それぞれ所定温度に加熱して、第1蒸着材料であるホストおよび第2蒸着材料であるドーパントを蒸発させ、それぞれ蒸発材料誘導管8,9を介して第1放出用容器4および第2放出用容器5内の拡散空間4a,5aに導く。このとき、蒸発材料誘導管8,9および放出用容器4,5は、シースヒータ15によりそれぞれ最適な温度に保持されている。なお、蒸発材料をガラス基板1に蒸着させる蒸着用容器3内および各容器4〜7および各誘導管8,9は所定の真空度にされている。
上述したように、蒸着用容器3内に2種類の蒸発材料の放出用容器4,5を配置するとともに、それぞれ蒸発材料を放出させる放出孔4b,5bを同心状に配置したので、両蒸発材料をできるだけ均一な共在状態でガラス基板1の表面に蒸着させることができる。
3 蒸着用容器
4 第1放出用容器
4a 拡散空間
4b 放出孔
4c 放出量検出孔
5 第2放出用容器
5a 拡散空間
5b 放出孔
5c 放出ノズル
5d 放出量検出孔
6 第1蒸発用容器
7 第2蒸発用容器
8 第1蒸発材料誘導管
9 第2蒸発材料誘導管
10 監視制御装置
11 隔離板
12 隔離板
13 流量制御弁
14 流量制御弁
15 シースヒータ
16 筒状減熱材
21 放出量検出用センサ
22 放出量検出用センサ
23 膜厚検出用センサ
24 放出量比検出手段
25 膜厚検出手段
26 開度調節手段
27 モニター
Claims (7)
- 蒸発材料を蒸着用容器内で保持された被蒸着部材に蒸着させる蒸着装置であって、
材料を加熱して蒸発材料を得るための蒸着源を複数個配置するとともに、これら各蒸着源で得られた蒸発材料を上記被蒸着部材表面に導く蒸発材料誘導路をそれぞれ設け、
さらに上記各蒸発材料誘導路の先端の材料放出用の開口部を同心状に配置したことを特徴とする蒸着装置。 - 同心状に配置された材料放出用の開口部分を複数箇所に設けたことを特徴とする請求項1に記載の蒸着装置。
- 材料放出用の開口部分における各蒸発材料の開口面積を、蒸発材料の種類に応じて決定したことを特徴とする請求項1または2に記載の蒸着装置。
- 各蒸発材料誘導路を加熱する加熱手段を設けるとともに、各蒸発材料誘導路同士が接近する部分に、減熱部材または断熱部材を配置したことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の蒸着装置。
- 各蒸発材料誘導路の先端側に拡散空間を有する拡散用部材を設けるとともに、これら各拡散用部材に蒸発材料を放出するための開口部を形成したことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の蒸着装置。
- 各蒸発材料誘導路における材料放出用の開口部とは異なる位置に、蒸発材料の放出量を検出するための放出量検出用開口部をそれぞれ設けるとともに、これら各放出量検出用開口部に対応する位置に、当該開口部から放出される蒸発材料の放出量を検出する放出量検出手段を設け、
さらに上記放出量検出手段からの検出信号を入力して各蒸発材料の放出量の比率を求める放出量比検出手段を設けたことを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の蒸着装置。 - 各蒸発材料誘導路の途中に蒸発材料の放出量を調節する放出量調節手段を設けるとともに、各蒸発材料の放出量の比率を求める放出量比検出手段により、上記放出量調節手段を制御するようにしたことを特徴とする請求項6に記載の蒸着装置。
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Cited By (18)
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---|---|---|---|---|
JP2006057173A (ja) * | 2004-08-24 | 2006-03-02 | Tohoku Pioneer Corp | 成膜源、真空成膜装置、有機elパネルの製造方法 |
JP2007146219A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Hitachi Zosen Corp | 真空蒸着装置 |
WO2007097329A1 (ja) * | 2006-02-22 | 2007-08-30 | Tokyo Electron Limited | 成膜装置および発光素子の製造方法 |
JP2007224394A (ja) * | 2006-02-27 | 2007-09-06 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着材料の蒸発方法および蒸発装置ならびに真空蒸着装置 |
WO2008038821A1 (fr) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | Tokyo Electron Limited | appareil de déposition, appareil de commande d'appareil de déposition, procédé de commande d'appareil de déposition, appareil de déposition utilisant ce procédé et procédé de fabrication de sortie |
WO2008041558A1 (fr) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Tokyo Electron Limited | Dispositif de dÉpÔt en phase vapeur, dispositif de commande du dispositif de dÉpÔt en phase vapeur, procÉdÉ de commande du dispositif de dÉpÔt en phase vapeur et procÉdÉ d'utilisation du dispositif de dÉpÔt en phase vapeur |
JP2008169457A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Matsushita Electric Works Ltd | 真空蒸着装置 |
JP2010126753A (ja) * | 2008-11-26 | 2010-06-10 | Canon Inc | 蒸着装置および有機発光装置の製造方法 |
US20100247809A1 (en) * | 2009-03-31 | 2010-09-30 | Neal James W | Electron beam vapor deposition apparatus for depositing multi-layer coating |
JP2011017059A (ja) * | 2009-07-10 | 2011-01-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
JP2012126958A (ja) * | 2010-12-15 | 2012-07-05 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着装置及び蒸着方法 |
WO2012124650A1 (ja) * | 2011-03-16 | 2012-09-20 | パナソニック株式会社 | 真空蒸着装置 |
KR101200357B1 (ko) | 2007-12-31 | 2012-11-12 | (주)에이디에스 | 가스 분사 장치 및 이를 구비하는 박막 증착 시스템 |
JP2014037565A (ja) * | 2012-08-13 | 2014-02-27 | Kaneka Corp | 真空蒸着装置及び有機el装置の製造方法 |
JP2014141714A (ja) * | 2013-01-24 | 2014-08-07 | Kaneka Corp | 真空蒸着装置及び有機el装置の製造方法 |
KR101446232B1 (ko) | 2012-10-19 | 2014-10-01 | 주식회사 선익시스템 | 센서 오염방지용 쉴드가 구비된 증착막 두께 측정장치 |
CN107058973A (zh) * | 2017-03-10 | 2017-08-18 | 常州大学 | 大面积钙钛矿薄膜的制备设备 |
WO2020108743A1 (en) * | 2018-11-28 | 2020-06-04 | Applied Materials, Inc. | Deposition source for depositing evaporated material, deposition apparatus, and methods therefor |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107955936A (zh) * | 2017-12-28 | 2018-04-24 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸发源和蒸镀设备 |
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Cited By (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006057173A (ja) * | 2004-08-24 | 2006-03-02 | Tohoku Pioneer Corp | 成膜源、真空成膜装置、有機elパネルの製造方法 |
JP2007146219A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Hitachi Zosen Corp | 真空蒸着装置 |
WO2007097329A1 (ja) * | 2006-02-22 | 2007-08-30 | Tokyo Electron Limited | 成膜装置および発光素子の製造方法 |
US8158012B2 (en) | 2006-02-22 | 2012-04-17 | Tokyo Electron Limited | Film forming apparatus and method for manufacturing light emitting element |
JP2007224394A (ja) * | 2006-02-27 | 2007-09-06 | Hitachi Zosen Corp | 蒸着材料の蒸発方法および蒸発装置ならびに真空蒸着装置 |
WO2008041558A1 (fr) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Tokyo Electron Limited | Dispositif de dÉpÔt en phase vapeur, dispositif de commande du dispositif de dÉpÔt en phase vapeur, procÉdÉ de commande du dispositif de dÉpÔt en phase vapeur et procÉdÉ d'utilisation du dispositif de dÉpÔt en phase vapeur |
JP2008088490A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Tokyo Electron Ltd | 蒸着装置、蒸着装置の制御装置、蒸着装置の制御方法、蒸着装置の使用方法および吹き出し口の製造方法 |
KR101075131B1 (ko) * | 2006-09-29 | 2011-10-19 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 증착 장치, 증착 장치의 제어 장치, 증착 장치의 제어 방법, 증착 장치의 사용 방법 및 분출구의 제조 방법 |
WO2008038821A1 (fr) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | Tokyo Electron Limited | appareil de déposition, appareil de commande d'appareil de déposition, procédé de commande d'appareil de déposition, appareil de déposition utilisant ce procédé et procédé de fabrication de sortie |
JP2008169457A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Matsushita Electric Works Ltd | 真空蒸着装置 |
KR101200357B1 (ko) | 2007-12-31 | 2012-11-12 | (주)에이디에스 | 가스 분사 장치 및 이를 구비하는 박막 증착 시스템 |
JP2010126753A (ja) * | 2008-11-26 | 2010-06-10 | Canon Inc | 蒸着装置および有機発光装置の製造方法 |
US20100247809A1 (en) * | 2009-03-31 | 2010-09-30 | Neal James W | Electron beam vapor deposition apparatus for depositing multi-layer coating |
JP2011017059A (ja) * | 2009-07-10 | 2011-01-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空蒸着装置 |
JP2012126958A (ja) * | 2010-12-15 | 2012-07-05 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着装置及び蒸着方法 |
JPWO2012124650A1 (ja) * | 2011-03-16 | 2014-07-24 | パナソニック株式会社 | 真空蒸着装置 |
WO2012124650A1 (ja) * | 2011-03-16 | 2012-09-20 | パナソニック株式会社 | 真空蒸着装置 |
CN103518001A (zh) * | 2011-03-16 | 2014-01-15 | 松下电器产业株式会社 | 真空沉积装置 |
JP2014037565A (ja) * | 2012-08-13 | 2014-02-27 | Kaneka Corp | 真空蒸着装置及び有機el装置の製造方法 |
KR101446232B1 (ko) | 2012-10-19 | 2014-10-01 | 주식회사 선익시스템 | 센서 오염방지용 쉴드가 구비된 증착막 두께 측정장치 |
JP2014141714A (ja) * | 2013-01-24 | 2014-08-07 | Kaneka Corp | 真空蒸着装置及び有機el装置の製造方法 |
CN107058973A (zh) * | 2017-03-10 | 2017-08-18 | 常州大学 | 大面积钙钛矿薄膜的制备设备 |
WO2020108743A1 (en) * | 2018-11-28 | 2020-06-04 | Applied Materials, Inc. | Deposition source for depositing evaporated material, deposition apparatus, and methods therefor |
CN112912533A (zh) * | 2018-11-28 | 2021-06-04 | 应用材料公司 | 用于沉积蒸发的材料的沉积源、沉积装置及其方法 |
KR20210093863A (ko) * | 2018-11-28 | 2021-07-28 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 증발 재료를 증착하기 위한 증착 소스, 증착 장치, 및 이를 위한 방법들 |
CN112912533B (zh) * | 2018-11-28 | 2023-10-24 | 应用材料公司 | 用于沉积蒸发的材料的沉积源、沉积装置及其方法 |
KR102662181B1 (ko) * | 2018-11-28 | 2024-04-29 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 증발 재료를 증착하기 위한 증착 소스, 증착 장치, 및 이를 위한 방법들 |
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